JPS6382471A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体に
関する。

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真用感光体にも様々な材料が開発さ
れ実用化されてきた。

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。また、その構成形態としては、これ
らの物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散さ
せて用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電
荷輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。

しかしながら、従来用いられて来た電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。その一つとして人体への有
害性が挙げられるが、前述したアモルファスシリコンを
除く無機物質においては、何れも好ましくない性質を持
つものであった。また、電子写真感光体が実際に複写機
内で用いられるためには、帯電、露光、現像、転写、除
電、清掃等の苛酷な環境条件に曝された場合においても
、常に安定な性能を維持している必要があるが、前述し
た有機物質においては、何れも耐久性に乏しく、性能面
での不安定要素が多かった。

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富んだ材料として、グロー放電法により生成され
るアモルファスシリコンの電子写真感光体への応用が進
んで来ている。しかし、アモルファスシリコンは、原料
としてシランガスを多量に必要とする反面、高価なガス
であることから、出来上がった電子写真感光体も従来の
感光体に比べ大幅に高価なものとなる。また、成膜速度
が遅く、成膜時間の増大に伴い爆発性を有するシラン未
分解生成物を粉塵状に発生する等、生産上の不都合も多
い。また、この粉塵が製造時に感光層中に混入した場合
には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。ざらに、アモ
ルファスシリコンは、元来、比誘電率が高いため帯電性
能が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電するために
は膜厚を厚くする必要があり、高価なアモルファスシリ
コン膜を長時間堆積させなくてはならない。

ところでアモルファスカーボン膜自体は、プラズマ有機
重合膜として古くより知られており、例えばジエン（Ｍ
、５ｈｅｎ）及びベル（Ａ、Ｔ。

Ｂｅ１ｌ）により、１９７３年発行ののジャーナル・オ
ブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊｏｕｒｎａ
　ｌ　　ｏｆ　　Ａｐｐ　１　ｉｅｄ　　Ｐ。

ｌｙｍｅｒ　　５ｃｆｅｎｃｅ）第１７巻の第８８５頁
乃至第８９２頁において、あらゆる有機化合物のガスか
ら作製され得る事が、また、同著者により、１９７９年
のアメリカンケミカルソサエティ　　（Ａｍｅｒｉｃａ
ｎ　　ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ）発行によるプ
ラズマボリマライゼーション（Ｐｌａｓｍａ　　Ｐｏｌ
ｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）の中でもその成膜性が論じら
れている。

しカルながら従来の方法で作製したプラズマ有機重合膜
は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそれ
らの膜は通常のポリエチレン膜の如＜１０”Ωｃｍ程度
の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なくとも
そのような膜であるとの認識のもとに用いられていた。

実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識から
、保護層、接着層、ブロッキング層もしくは絶縁層に限
られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバーコ
ート層としてしか用いられていなかった。

例えば、特開昭５９−２８１６１号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された網
目構造を有する窩分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５
９−３８７５３号公報には、基板上にブロッキング層及
び接着層として酸素と窒素と炭化水素の混合ガスから生
成される１０１３〜１０１５Ωｃｍの高抵抗のプラズマ
重合膜を１０人〜１００人設けた上にアモルファスシリ
コン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５９−
１３６７４２号公報には、アルミ基板上に設けたアモル
ファスシリコン層内へ光照射時にアルミ原子が拡散する
のを防止するための保ＭＩＮとして１〜５μｍ程度の炭
素膜を基板表面に形成せしめた感光体が開示されている
。特開昭６０−６３５４１号公報には、アルミ基板とそ
の上に設けたアモルファスシリコン層との接着性を改善
するために、接着層として２００人〜２μｍのダイヤモ
ンド状炭素膜を中間に設けた感光体が開示され、残留電
荷の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとされている。

これらの開示は、何れも基板とアモルファスシリコン層
との間に、所謂アンダーコート層を設けた発明であり、
電荷輸送性についての開示は全くなく、また、ａ−Ｓｉ
の有する前記した本質的問題を解決するものではない。

また、例えば、特開昭５０−２０７２８号公報には、ポ
リビニルカルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層
としてグロー放電重合によるポリマー膜を０．１〜１μ
ｍ設けた感光体が開示されている。特５Ｆ＋昭５９−２
１４８５９号公報には、アモルファスシリコン感光体の
表面に保護層としてスチレンやアセチレン等の有機炭化
水素モノマ−をプラズマ重合させて５μｍ程度の膜を形
成させる技術が開示されている。特開昭６０−６１７６
１号公報には、表面保護層として、５００人〜２μｍの
ダイヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示きれ、透
光性の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとされててい
る。特開昭６０−２４９１１５号公報には、０．ｏ５〜
５μｍ程度の無定形炭素または硬質炭素膜を表面保護層
として用いる技術が開示され、膜厚が５μｍを越えると
感光体活性に悪影響が及ぶとされている。

これらの開示は、何れも感光体表面に所謂オーバーコー
ト層を設けた発明であり、電荷輸送性についての開示は
全くなく、また、ａ−Ｓｉの有する前記した本質的問題
を解決するものではない。

また、特開昭５１−４６１３０号公報には、ポリビニル
カルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合
を行なって０．００１〜３μｍのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示されているが、電荷輸送性に
ついては全く言及されていないし、ａ−３ｉの持つ前記
した本質的問題を解決するものではない。

一方、アモルファスシリコン膜については、スピア（Ｗ
、Ｅ、５ｐｅａｒ）及びレコンパ（Ｐ。

Ｇ、ＬｅＣｏｍｂｅｒ）により１９７６年発行のフィロ
ソフィカル・マガジン（ＰｈｉｌｏｓｏｐｈｉｃａＩ　
　Ｍａｇａｚｉｎｅ）第３３巻の第９３５頁乃至第９４
９頁において、極性制御が可能な材料である事が報じら
れて以来、種々の光電デバイスへの応用が試みられて来
た。感光体への応用に関しては、例えば、特開昭５６−
６２２５４号公報、特開昭５７−１１９３５６号公報、
特開昭５７−１７７１４７号公報、特開昭５７−１１９
３５７号公報、特開昭５７−１７７１４９号公報、特開
昭５７−１１９３５７号公報、特開昭５７−１７７１４
６号公報、特開昭５７−１７７１４８号公報、特開昭５
７−１７４４４８号公報、特開昭５７−１７４４４９号
公報、特開昭５７−１７４４５０号公報、等に、炭素原
子を含有したアモルファスシリコン感光体が開示されて
いるが、何れもアモルファスシリコンの光導電性を炭素
原子により調整する事を目的としたものであり、また、
アモルファスシリコン自体厚い膜を必要としている。

Ｉが　°　しようとする間　Φ 以上のように、従来、電子写真感光体に用いられている
プラズマ有機重合膜は所謂アンダーコート層もしくはオ
ーバーコート層として使用されていたが、それらはキャ
リアの輸送機能を必要としない膜であって、有機重合膜
が絶縁性で有るとの判断にたって用いられている。従っ
てその膜厚も高々５μｍ程度の極めて薄い膜としてしか
用いられず、キャリアはトンネル効果で膜中を通過する
か、トンネル効果が期待できない場合には、残留電位の
発生に関して事実上問題にならずに済む程度の薄い膜で
しか用いられていない。また、従来、電子写真に用いら
れているアモルファスシリコン膜は所謂厚膜で使用され
ており、価格或は生産性等に、不都合な点が多い。

本発明者らは、アモルファスカーボン膜の電子写真感光
体への応用を検討しているうちに、本来絶縁性であると
考えられていた水素化アモルファスカーボン膜が、燐原
子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有すると共に
窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモルファス
シリコンゲルマニウム膜との積層においては電荷輸送性
を有し、容易に好適な電子写真特性を示し始める事を見
出した。その理論的解釈には本発明者においても不明確
な点が多く詳細に亙り言及はできないが、水素化アモル
ファスカーボン膜中に捕捉されている比較的不安定なエ
ネルギー状態の電子、例えばπ電子、不対電子、残存フ
リーラジカル等が形成するバンド構造が、燐原子及び硼
素原子のうち少なくとも一方を含有すると共に窒素原子
を含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコン
ゲルマニウム膜が形成するバンド構造と電導帯もしくは
荷電子帯において近似したエネルギー準位を有するため
、燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有する
と共に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモル
ファスシリコンゲルマニウム膜中で発生したキャリアが
容易に水素化アモルファスカーボン膜中へ注入され、さ
らに、このキャリアは前述の比較的不安定なエネルギー
状態の電子の作用により水素化アモルファスカーボン膜
中を好適に走行し得るためと推定される。

本発明はその新たな知見を利用することにより、アモル
ファスシリコン感光体の持つ前述の如き本質的問題点を
全て解消し、また従来とは全く使用目的も特性も異なる
、有機プラズマ重合膜、特に水素化アモルファスカーボ
ン膜を電荷輸送層として使用し、かつ、燐原子及び硼素
原子のうち少なくとも一方を含有すると共に窒素原子を
含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲ
ルマニウムの薄膜を電荷発生層として使用した感光体を
提供する事を目的とする。

皿厘△至脛決工至ム汝９土閃 即ち、本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する機
能分離型感光体において、該電荷輸送層がプラズマ重合
反応から生成される水素化アモルファスカーボン膜であ
り、かつ、該電荷発生層が燐原子及び硼素原子のうち少
なくとも一方を含有すると共に窒素原子を含有してなる
水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜
であることを特徴とする感光体に関する（以下、本発明
による電荷輸送層をａ　　ＣＨ’Ａ及び電荷発生層をａ
−Ｓｉ膜と称する）。

本発明は、従来のアモルファスシリコン感光体において
は、電荷発生層として優れた機能を有するアモルファス
シリコンを、電荷発生能が無くても電荷輸送能さえあれ
ば済む電荷輸送層としても併用していたため発生してい
たこれらの問題点を解決すべく成されたものである。

即ち、本発明は、電荷輸送層としてグロー放電により生
成される水素化アモルファスカーボン膜を設け、かつ、
電荷発生層として同じくグロー放電により生成される燐
原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有すると共
に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモルファ
スシリコンゲルマニウム膜を設けた事を特徴とする機能
分離型感光体に関する。該電荷輸送層は、可視光もしく
は半導体レーザー光付近の波長の光に対しては明確なる
光導電性は有ざないが、好適な輸送性を有し、ざらに、
帯電能、耐久性、耐候性、耐環境汚染性等の電子写真感
光体性能に優れ、しかも透光性にも優れるため、機能分
離型感光体としての積層構造を形成する場合においても
極めて高い自由度が得られるものである。また、該電荷
発生層は、可視光もしくは半導体レーザー光付近の波長
の光に対して優れた光導電性を有し、しかも従来のアモ
ルファスシリコン感光体に比べて極めて薄い膜厚で、そ
の機能を活かす事ができるものである。

本発明においては、ａ−Ｃ膜を形成するために有機化合
物ガス、特に炭化水素ガスが用いられる。

該炭化水素における相状態は常温常圧において必ずしも
気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化しうるものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オク
タデカン、ノナデカン、エイコサン、ヘンエイコサン、
トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、
ヘキサコサン、ヘプタコサン、オクタコサン、ノナコサ
ン、トリアコンタン、トドリアコンタン、ペンタトリア
コンタン、等のノルマルパラフィン並びに、イソブタン
、イソペンタン、ネオペンタン、インヘキサン、ネオヘ
キサン、２，３−ジメチルブタン、２−メチルヘキサン
、３−エチルペンタン、２，２−ジメチルペンタン、２
．４−ジメチルペンタン、３，３−ジメチルペンタン、
トリブタン、２−メチルへブタン、３−メチルへブタン
、２．２−ジメチルヘキサン、２．２．５−ジメチルヘ
キサン、２．２．３−トリメチルペンタン、２．２．４
−トリメチルペンタン、２Ｉ３゜３−トリメチルペンタ
ン、２，３．４−トリメチルペンタン、インナノン、等
のイソパラフィン、等が用いられる。不飽和炭化水素と
しては、例えば、エチレン、プロピレン、インブチレン
、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、２−ペンテ
ン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン
、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、テトラメチ
ルエチレン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン
、１−デセン、等のオレフィン、並びに、アレン、メチ
ルアレン、ブタジェン、ペンタジェン、ヘキサジエン、
シクロペンタジェン、等のジオレフィン、並びに、オシ
メン、アロオシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、等の
トリオレフイン、並びに、アセチレン、ブタジイン、１
゜３−ペンタジイン、２．４−へキサジイン、メチルア
セチレン、１−ブチン、２−ブチン、１−ペンチン、１
−ヘキシン、１−ヘプチン、１−オクチン、１−ノニン
、１−デシン、等が用いられる。

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シク
ロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルビルン、フエランドレン、シルベストレン、ツ
エン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フエ
ンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボレ
ン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセ
スキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレン
、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカルブ
レン、デシン、等のテルペン並びに、ステロイド等が用
いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン
、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、
ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチル
ベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフ
ェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタ
リン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン、等
が用いられる。

本発明におけるａ　−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は
グロー放電を用いるというその製造面から必然的に定ま
るが、炭素原子と水素原子の総量に対して、概ね３０乃
至６０原子％含有される。ここで、炭素原子並びに水素
原子の膜中含有量は、有機元素分析の常法、例えばＯＮ
Ｈ分析を用いる事により知る事ができる。

本発明におけるａ　−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は
、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化するが
、例えば、基板温度を高くする、圧力を低くする、原料
炭化水素ガスの希釈率を低くする、印加電力を高くする
、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重畳せしめ
た直流電界強度を高（する、等の手段、或は、これらの
組合せ操作は、含有水素量を低くする効果を有する。

本発明における電荷輸送層としてのａ　−Ｃ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、５乃至５
０μｍ１特に７乃至２０ｕｍが適当であり、５μｍより
薄いと、帯電電位が低いため充分な複写画像濃度を得る
事ができない。また、５０μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。

このａ−Ｃ膜は、高透光性、高暗抵抗を有するとともに
電荷輸送性に富み、膜厚を上記の様に５μｍ以上として
もキャリアはトラップされる事無く輸送され明減衰に寄
与する事が可能である。

本発明における原料気体からａ　−Ｃ膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成されるプラズ
マ状態を経て形成される方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成されるイオン状態を経て形成されてもよいし、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成される中
性粒子から形成されてもよいし、ざらには、これらの組
み合わせにより形成されてもよい。

本発明においては　ａ　　３ｉ１１ｆｉを形成するため
にシランガス、ジシランガス、或は、弗化シランガスが
用いられる。また、化学的修飾物質とじて燐原子或は硼
素原子を膜中に含有せしめるための原料ガスとして、ホ
スフィンガス或はジボランガス等が用いられる。ざらに
、化学的修飾物質として窒素原子を膜中に含有せしめる
ための原料ガスとして、窒素ガス、アンモニアガス、亜
酸化窒素ガス、或は、二酸化窒素ガス、等の窒素化合物
ガスが用いられる。また、ゲルマニウム原子を含有させ
るために、ゲルマンガスが用いられる。

本発明におけるａ−Ｓｉ膜中に含有きれるゲルマニウム
原子の含有量は、シリコン原子とゲルマニウム原子との
総和に対して、３０原子％以下が好ましい。ここで、ゲ
ルマニウム原子及びシリコン原子の含有率は、元素分析
の常法、例えばオージェ分析により知る事ができる。ゲ
ルマニウム原子の含有量は、膜形成時に流入するゲルマ
ンガスの流量を増加する事により高くなる。ゲルマニウ
ム原子の含有量が高くなるにつれ本発明感光体の長波長
感度は向上し、短波長領域から長波長領域にまで幅広く
露光源が選択され得るようになり好ましいが、ゲルマニ
ウム原子が３０原子％より多く含有きれると帯電能の低
下を招くため、過剰の添加は好ましくない。従って、本
発明におけるａ−５ｉ膜中に含有されるゲルマニウム原
子の含有量は重要である。

本発明において化学的修飾物質として含有される燐原子
或は硼素原子の量は、全構成原子に対して２００００原
子ｐｐｍ以下である。ここで燐原子或は硼素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばオージェ分析或はＩ
ＭＡ分析により知る事ができる。燐原子或は硼素原子の
膜中含有量が２００００原子ｐｐｍより高い場合には、
少量の添加では好適な輸送性、或は、極性制御効果を保
証していた燐原子或は硼素原子が、逆に膜の低抵抗化を
招く作用を示し、帯電能の低下を来たす。従って、本発
明における燐原子或は硼素原子添加量の範囲は重要であ
る。

本発明において化学的修飾物質として含有される窒素原
子の量は、全構成原子に対して０．００１乃至３原子％
である。ここで窒素原子の膜中含有量は、元素分析の常
法、例えばオージェ分析或はＩＭＡ分析により知る事が
できる。窒素原子の膜中含有量が０．００１原子％より
低い場合には、ａ−Ｓｉ膜の電気抵抗値が低くなる事が
らａ−３ｉ膜にコロナ帯電等による電界がかかりにくく
なり、光励起キャリアが必ずしも効率よ＜ａ−Ｃ膜中に
注入されなくなり感度の低下を招く。また、帯電能も低
下する。窒素原子の膜中含有量が３原子％より高い場合
には、微量の添加においては好適な帯電能を保証してい
た窒素原子が、過剰の添加ではａ−３ｉ膜を高抵抗化し
電荷の易動度を低下ならしめることから感度低下を招く
。従って、本発明における窒素原子添加量の範囲は重要
である。

本発明におけるａ−Ｓｉ膜中に含まれる水素原子或は弗
素原子の量はグロー放電を用いるというその製造面から
必然的に定まるが、シリコン原子と水素原子或はシリコ
ン原子と弗素原子の総量に対して、概ね１０乃至３５原
子％含有される。ここで、水素原子或は弗素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばＯＮＨ分析、オージ
ェ分析等を用いる事により知る事ができる。

本発明における電荷発生層としてのａ−Ｓｉ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、０．１乃
至５μｍが適当であり、０．１μｍより薄いと、光吸収
が不十分となり充分な電荷発生が行なわれなくなり、感
度の低下を招く。また、５μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。このａ−Ｓｉｌｌ！ｆｆは電荷発生能
に富み、ざらに、本発明の最も特徴とするところのａ−
Ｃ膜との積層構成において効率よ＜ａ−Ｃ膜中に発生キ
ャリアを注入せしめ、好適な明減衰に寄与する事が可能
である。

本発明における原料気体からａ−ＳｉＦＪを形成する過
程は、ａ−Ｃ膜を形成する場合と同様にして行なわれる
。

本発明において化学的修飾物質として含有される窒素原
子、燐原子、或は、硼素原子の量は、主に、プラズマ反
応を行なう反応室への前述の窒素化合物ガス、ホスフィ
ンガス、或は、ジボランガスの導入量を＃減することに
よりｆａ御することが可能である。窒素化合物ガス、ホ
スフィンガス、或は、ジボランガスの導入量を増大させ
れば、本発明によるａ−Ｓｉ膜中への窒素原子、燐原子
、或は、硼素原子の添加量を高くすることが可能であり
、逆に窒素化合物ガス、ホスフィンガス、或は、ジボラ
ンガスの導入量を減少させれば、本発明によるａ−５ｉ
膜中への窒素原子、燐原子、或は、硼素原子の添加量を
低くすることが可能である。

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
成る機能分離型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。

第１図は、その一形態として、導電性基板（１）上に電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）を順次積層してなる
構成を示したものである。第２図ば、別の一形態として
、導電性基板（１）上に電荷発生層（３）と電荷輸送層
（２）を順次積層してなる構成を示したものである。第
３図は、別の一形態として、導電性基板（１）上に、電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第１図では
電荷発生層（３）で発生した正孔が電荷輸送層（２）中
を導電性基板（１）に向は走行し、第２図では電荷発生
層（３）で発生した電子が電荷輸送層（２）中を感光体
表面に向は走行し、第３図では電荷発生層（３）で発生
した正孔が導電性基板側の電荷輸送層（２）中を導電性
基板（１）に向は走行すると共に、同時に電荷発生層（
３）で発生した電子が表面側の電荷輸送層（２）中を感
光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証された静電
潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負帯電し
た後、画像露光して使用する場合においては、電子と正
孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解すれば
よい。第２図及び第３図では、画像露光用の照射光がＭ
Ｒ輸送層中を通過する事になるが、本発明による電荷輸
送層は透光性に優れることから、好適な潜像形成を行な
うことが可能である。

第４図は、さらなる一形態として、導電性基板（１）上
に電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と表面保護層（
４）を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第１図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第１図の形態では、最表面が耐湿性に乏しいａ−Ｓｉ膜
で有ることから、多くの場合実用上の対湿度安定性を確
保するために表面保護層を設けることが好ましい。第２
図及び第３図の構成の場合、最表面が耐久性に優れたａ
−Ｃ膜であるため表面保護層を設けなくてもよいが、例
えば現像剤の付着による感光体表面の汚れを防止するよ
うな、複写機内の各種エレメントに対する整合性を調整
する目的から、表面保護層を設けることもざらなる一形
態と成りうる。

第５図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第２
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第２図の
形態では、導電性基板との接合面がａ−Ｓｉ膜である事
から、多くの場合接着性及び注入阻止効果を確保するた
めに中間層を設ける事が好ましい。第１図及び第３図の
構成の場合、導電性基板との接合面が、接着性及び注入
阻止効果に優れた、本発明による電荷輸送層であるため
、中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前
処理方法のような、感光層形成以前の製造工程との整合
性を調整する目的から、中間層を設けることもさらなる
一形態と成りうる。

第６図は、さらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）
と表面保護層（４）を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第１図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。

中間層と表面保護層の設置理由は前述と同様であり、従
って第２図及び第３図の構成において中間層と表面保護
層を設けることもざらなる一形態と成りうる。

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。本発明によるａ−Ｃ膜を用いてもよい。但し、用い
る材料が、例えば従来例で述べた如き絶縁性材料である
場合には、残留電位発生の防止のため膜厚は５μｍ以下
に留める必要がある。

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電種を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により誘導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積きせる、所謂プラズマ重合反応
から生成きれる事が好ましい。

第７図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
（７０１）〜（７０６）は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを密封した第１乃至第６タ
ンクで、各々のタンクは第１乃至第６調節弁（７０７）
〜（７１２）と第１乃至第６流量制御器（７１３）〜（
７１８）に接続されている。図中（７１９）〜（７２１
）は常温において液相または固相状態にある原料化合物
を封入した第１乃至第３容器で、各々の容器は気化のた
め第１乃至第３温調器（７２２）〜（７２４）により与
熱可能であり、さらに各々の容器は第７乃至第９調節弁
（７２５）〜（７２７）と第７乃至第９流量制御器（７
２８）〜（７３０）に接続されている。これらのガスは
混合器（７３１）で混合された後、主管（７３２）を介
して反応室（７３３）に送り込まれる。途中の配管は、
常温において液相または固相状態にあった原料化合物が
気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置さ
れた配管加熱器（７３４）により、与熱可能とされてい
る。反応室内には接地電極（７３５）と電力印加電極（
７３６）が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器
（７３７）により与熱可能とされている。電力印加電極
（７３６）には、高周波電力用整合器（７３８）を介し
て高周波電源（７３９Ｌ低周波電力用整合器（７４０）
を介して低周波電源（７４１）、ローパスフィルタ（７
４２）を介して直流電源（７４３）が接続されており、
接続選択スイッチ（７４４）により周波数の異なる電力
が印加可能とされている。反応室（７３３）内の圧力は
圧力制御弁（７４５）によりＦｌ整可能であり、反応室
（７３３）内の減圧は、排気系選択弁（７４６）を介し
て、拡散ポンプ（７４７）　、油回転ポンプ（７４８）
　、或は、冷却除外装置（７４９）　、メカニカルブー
スターポンプ（７５０）、油回転ポンプ（７４８）によ
り行なわれる。排ガスについては、ざらに適当な除外装
置（７５３）により安全無害化した後、大気中に排気さ
れる。これら排気系配管についても、常温において液相
または固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、
途中で凝結しないように、適宜配置された配管加熱器（
７３４）により、与熱可能とされている。反応室（７３
３）も同様の理由から反応室加熱器（７５１）により与
熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性基板（７
５２）が設置きれる。第７図において導電性基板（７５
２）は接地電極（７３５）に固定して配されているが、
電力印加電極（７３６）に固定して配されてもよく、ざ
らに双方に配されてもよい。

第８図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室（８３３）内部の形態以外は、第７図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様であり、
付記された番号は、７００番台のものを８００番台に置
き換えて解すればよい。第８図において、反応室（８３
３）内部には、第７図における接地電極（７３５）を兼
ねた円筒形の導電性基板（８５２）が設置され、内側に
は電極加熱器（８３７）が配されている。導電性基板（
８５２）周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極（
８３６）が配され、外側には電極加熱器（８３７）が配
されている。導電性基板（８５２）は、外部より駆動モ
ータ（８５４）を用いて自転可能となっている。

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め１
０−４乃至１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度
の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。同時
に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配され
た導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板に
は、前述の如き感光体構成の中から所望の構成を得るた
めに、必要であれば、予めアンダーコート層或は電荷発
生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或は電荷
発生層の設置には、本装置を用いてもよいし別装置を用
いてもよい。次いで、第１乃至第６タンク及び第１乃至
第３容器から、原料ガスを適宜第１乃至第９流量制御器
を用いて定流量化しながら反応室内に導入し、圧力調節
弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が
安定化した後、接続選択スイッチにより、例えば貰周波
電源を選択し、電力印加電極に高周波電力を投入する。

画電極間には放電が開始され、時間と共に基板上に固相
の膜が形成される。ａ−Ｓｉ膜或はａ−Ｃ膜は、原料ガ
スを代える事により任意に形成可能である。放電を一旦
停止し、原料ガス組成を変更した後、再び放電を再開す
れば異なる組成の膜を積層する事がで伊る。また、放電
を持続させながら原料ガス流量だけを徐々に代え、異な
る組成の膜を勾配を持たせながら積層する事も可能であ
る。

反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚並びに積層構
成に達したところで放電を停止し、本発明による感光体
を得る。次いで、第１乃至第９調節弁を閉じ、反応室内
を充分に排気する。ここで所望の感光体構成が得られる
場合には反応室内の真空を破り、反応室より本発明によ
る感光体を取り出す。更に所望の感光体構成において、
電荷発生層或はオーバーコート層が必要ときれる場合に
は、そのまま本装置を用いるか、或は同様に一旦真空を
破り取り出して別装置に移してこれらの層を設け、本発
明による感光体を得る。

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。

実施例１ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１容器（７１９）よりスチレンガスを
第１温調器（７２２）　温度２０℃のもとで、第７流量
制御Ｗ（７２８）内へ流入させた。流量＃＃器の目盛を
調整して、スチレンガスの流量を４０ｓｅｃｍとなるよ
うに設定して、主管（７３２）より反応室（７３３）内
へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室（７３
３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁
（７４５）を調整した。一方、導電性基板（７５２）と
しては、樅５０×横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板
を用いて、予め１５０℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４
）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し
、電力印加電極（７３６）に１４０Ｗａｔｔの電力を周
波数１３．５６ＭＨｚの下で印加して約１時間半プラズ
マ重合反応を行ない、導電性基板（７５２）上に厚さ１
５μｍのａ−Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完
了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７
３３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４３原子％であフた。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）　、第５調節弁（７１１）、及び
第６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）
から水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス
、第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク
（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａｍ２の
下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，
７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させな。同時に
、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４
）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガ
スを、出力圧１．５Ｋｇ／ａｍ２の下で第４流量制御器
（７１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量６ｓｃｃｍ１を窒素ガス
の流量をＯ，Ｏｌｓｅｃｍ、シランガスの流量を１０１
００５ｅ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスの流量を１１０５ｃａとなるように設定し、反応
室（７３３）内に流入させな。各々の流量が安定した後
に、反応室（７３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなる
ように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ
膜が形成されている導電性基板（７５２）は、２５０℃
に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
高周波電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下
で電力印加電極（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印加
し、グロー放電を発生させな。この放電を５分間行ない
、厚き０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２３原子％、硼素原子は１ｏ原子ｐｐｍ
、窒素原子は０．００１原子％、ゲルマニウム原子は１
１原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一７７０Ｖ　（＋７２０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は５０■／μｍ（４７Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約４１秒（約３８
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は３．１ルツク
ス・秒（３６０ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去旅透旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、及び第２調節弁（７ｏ７、及び７
０８）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、
及び第２タンク（７０２）よりアセチレンガスを各々出
力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、及び第２流量制御
器（７１３、及び７１４）内へ流入きせた。そして各流
量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を１００５
ＣＣｍ　％及びアセチレンガスの流量を３０ｓｅｃｍと
なるように設定して、途中混合！（７３１）を介して、
主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が
１．５Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調
整した。一方、導゛電性基板（７５２）としては、Ｍ５
０×横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予
め２００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続
しておいた高周波電源（７３９）を投入し、電力印加電
極（７３６）に１７０Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５
６ＭＨｚの下で印加して約５時間プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板（７５２）上に厚き１５μｍのａ　−
Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力
印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充
分に排気した。

以上のようにして得られたａ−ＣＭにつき有機元素分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して３０原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２Ｆ１節弁（７０８）、第５ｍ節弁（７１１）、及び
第６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）
から水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス
、第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク
（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａｍ２の
下で第１、第２、第５、及び第６流量ｐｇ＃器（７１３
，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同時
に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０
４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラン
ガスを、出力圧１−５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御
器（７１６）内へ、流入させた。

各流量制ａｌｌ器の目盛を調整して水素ガスの流量を２
００ｓｅｃｍ、窒素ガスの流量を１０ｓｃｃｒｒ＋。

ゲルマンガスの流量を１０１０５ｅ、シランガスの流量
を１０１００５ｅ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈され
たジボランガスの流量を５０ｓｅｃｍに設定し、反応室
（７３３）内に流入させな。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ　−Ｃ膜が形成−されている導電性
基板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量
及び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より
周波数１３．５６ＭＨ２の下で電力印加電極（７３６）
に４０Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させ
た。この放電を５分間行ない、厚ざ０．３μｍの電荷発
生層を得た。

得られたａ−Ｓｔ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２４原子％、硼素原子は４５原子ｐｐｍ
１窒素原子は１．０原子％、ゲルマニウム原子は１５．
８原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一３６０Ｖ　（＋３６０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は２４Ｖ／μｍ　（２４Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約７秒（約８秒）
であり、このことから充分な電荷保持性能を有する事が
理解された。また、最高帯電電位に初Ｍ帯電した後、白
色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にまで明
減衰させたところ必要ときれた光量は３．６ルツクス・
秒（２゜４ルツクス・秒）であり、このことから充分な
光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

Ｘ塵鍔旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０””Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、及び第２　（７０７、及び７０８
）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、及び
第２タンク（７０２）よりエチレンを各々出力圧１．０
Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、及び第２流量制都器（７１３
、及び７１４）内へ流入させた。そして各流量制御器の
目盛を調整して、水素ガスの流量を６０ｓｅｃｍ、及び
エチレンガスの流量を６０ｓｅｃｍ１となるように設定
して、途中混合器（７３１）を介して、主管（７３２）
より反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量が安定
した後に、反応室（７３３）内の圧力が１．ＩＴｏｒｒ
となるように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、
導電性基板（７５２）としては、ｔ１１５０Ｘ横５０×
厚３ｍｍのアルミニラム基板を用いて、予め２５０℃に
加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予
め接続選択スイッチ（７４４）により接続しておいた高
周波電源（７３９）を投入し、電力印加電極（７３６）
に２００Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５６ＭＨｚの下
で印加して約１０時間プラズマ重合反応を行ない、導電
性基板（７５２）上に厚き１５μｍのａ−Ｃ膜を電荷輸
送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し
、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排気した
。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して３９原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）からアンモニアガス、及び第６タ
ンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａｍ
２の下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制
御器（７１６）内へ、流入させた。各流量洞部器の目盛
を調整して水素ガスの流量を１８０ｓｅｃｍ、ゲルマン
ガスの流量を８ｓｅｃｍ、アンモニアガスの流量を２ｓ
ｅｃｍ１シランガスの流量を１０１００５ｅ、水素ガス
で１１００ｐｐに希釈されたジボランガスの流量を１０
１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内に流入させた。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されている導電性基板
（７５２）は、２４０℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周波
数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に４
５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させた。

この放電を５分間行ない、厚き０．３μｍの電荷発生層
を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２１原子％、硼素原子は１１原子ｐｐｍ
％窒素原子は０．３原子％、ゲルマニウム原子は１３．
２原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一４９０Ｖ　（＋４８５Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３２Ｖ／ａｍ　（３２Ｖ／μｍ）　と極めて
高（、コノコとから充分な帯電性能を有する事が理解さ
れた。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１１秒（約１０
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解きれた。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は３．４ルツク
ス・秒（１，フルックス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去塵男挟 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０＝Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高真
空にした後、第１、及び第２調箇弁（７０７、及び７０
８）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、及
び第２タンク（７０２）よりブタジェンガスを各々出力
圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、及び第２流量制御器
（７１３、及び７１４）内へ流入させた。水素ガスの流
量を６０ｓｅｃｍ、及びブタジェンガスの流量を６０ｓ
ｅｃｍとなるように設定して、途中混合器（７３１）を
介して、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入
した。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内
の圧力が２．０Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４
５）を調整した。一方、導電性基板（７５２）としては
、縦５０×横５０×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用い
て、予め１３０℃に加熱してお沙、ガス流量及び圧力が
安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）によ
り接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し、電力
印加電極（７３６）に１２０Ｗａｔｔの電力を周波数４
００ＫＨｚの下で印加して約３０分間プラズマ重合反応
を行ない、導電性基板（７５２）上に厚さ１５μｍのａ
　−Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、
電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内
を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につき有機元素分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して５５原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７ｏ７）、
第２調節弁（７０８）、第３調節弁（７０９）、第５調
節弁（７１１）、及び第６調節弁（７１２）を解放し、
第１タンク（７０１）から水素ガス、第２タンク（７０
２）からゲルマンガス、第３タンク（７０３）から四弗
化シランガス、第５タンク（７０５）から窒素ガス、及
び第６タンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫ
ｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、第３、第５、及び第６流
量制御器（７１３，７１４，７１５，７１７、及び７１
８）内へ流入させた。同時に、第４調節弁（７１０）を
解放し、第４タンク（７０４）より水素ガスで１１００
ｐｐに希釈されたジボランガスを、出力圧１．５Ｋｇ／
ａｍ２の下で第４流量制御器（７１６）内へ、流入きせ
た。各流量洞部器の目盛を調整して水素ガスの流量を２
００ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量を６ｓｅｃｍ、四弗
化シランガスの流量を５０ｓｅｃｍ、窒素ガスの流量を
ｌｓｃｃｍ、シランガスの流量を５０ｓｅｃｍ１水素ガ
スで１１００ｐｐに希釈されたジボランガスの流量を１
０１００５ｅとなるように設定し、反応室（７３３）内
に流入させな。各々の流量が安定した後に、反応室（７
３３）内の圧力が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節
弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されて
いる導電性基板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき
、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波電源（７
３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極
（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電
を発生させた。この放電を５分間行ない、厚き０．３μ
ｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２２原子％、硼素原子は９５原子ｐｐｍ
、弗素原子は５原子％、窒素原子は０．１原子％、ゲル
マニウム原子は１０．３原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一６００Ｖ　（＋６６０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３９■／μｍ　（４３Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１２秒（約１１
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は１．５ルツク
ス・秒（１，３ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。また、最高帯
電電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光波長
７８０ｎｍ）を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位
にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は８．２ｅ
ｒｇ／ｃｍ２（７，８ｅｒｇ／ａｍ２）であり、このこ
とから充分な長波長光感度性能を有する事が理解された
。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去施透旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１容器（７１９）よりミルセンガスを
第１温調器（７２２）温度４５℃のもとで、第７流量制
御器（７２８）内へ流入させた。流量制御器の目盛を調
整して、ミルセンガスの流量を１５ｓｅｃｍとなるよう
に設定して、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ
流入した。流量が安定した後に、反応室（７３３）内の
圧力が１．０Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５
）を調整した。一方、導電性基板（７５２）としては、
縦５０×横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて
、予め１８０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安
定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により
接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し、電力印
加電極（７３６）に１８０Ｗａｔｔの電力を周波数４０
ＫＨｚの下で印加して約３時間プラズマ重合反応を行な
い、導電性基板（７５２）上に厚ざ１５μｍのａ−Ｃ膜
を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加
を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に
排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４７原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及ヒ第６流量制御８１１１！（７
１３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入きせた。

同時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（
７０４）より水素ガスでｔｏｐｐｍに希釈きれたホスフ
ィンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／Ｃｍ２の下で第４流量
制ａｌＩＩ器（７１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛をｇｌ！整して水素ガスの流量を２
００ｓｅｃｍｓゲルマンガスの流量を６ｓｅｃｍ１窒素
ガスの流量を３ｓｅｃｍ、シランガスの流量を２００ｓ
ｅｃｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたホスフィ
ンガスの流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（７３３
）内に流入させた。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ　−Ｃ膜が形成されている導電性基
板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周
波数１３．５６ＭＨ２の下で電力印加量ｗ１（７３６）
に３５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させ
た。この放電を５分間行ない、厚き０．３μｍの電荷発
生層を得た。

得られたａ−３ｉ膜につ伊、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージ工分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して１８原子％、燐原子は１２原子ｐｐｍ％
窒素原子は０．３原子％、ゲルマニウム原子は１０．０
原子％であフた。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一３８０Ｖ　（＋５８０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は２５■／μｍ（３８Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１０秒（約１４
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰とせたところ必要ときれた光量は１．３ルツク
ス・秒（４，１ルックスφ秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第６図は本発明感光体の構成を示す図面、！
！７図乃至第８図は本発明に係わる感光体の製造装置を
示す図面である。 出願人　ミノルタカメラ株式会社 第１図 第２図 第４図 第６図 手続補正書 昭和６２年ｌＯ月２１日

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型感光体に
   おいて、該電荷輸送層は水素化アモルファスカーボン膜
   であり、かつ、該電荷発生層は窒素原子を含有すると共
   に燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有して
   なる水素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜或は窒
   素原子を含有すると共に燐原子及び硼素原子のうち少な
   くとも一方を含有してなる弗素化アモルファスシリコン
   ゲルマニウム膜であることを特徴とする感光体。