JPS6380263A - 結晶型の変換方法 - Google Patents
結晶型の変換方法Info
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- JPS6380263A JPS6380263A JP22542986A JP22542986A JPS6380263A JP S6380263 A JPS6380263 A JP S6380263A JP 22542986 A JP22542986 A JP 22542986A JP 22542986 A JP22542986 A JP 22542986A JP S6380263 A JPS6380263 A JP S6380263A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0696—Phthalocyanines
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はオキシチタニウムフタロシアニン(以下r T
i0Pc Jと略記する)の結晶型を変換する方法に係
わるものであ)、更に詳しくはTi0PcのBffi又
は0型結晶をA型結晶に変換する方法に関するものであ
る。
i0Pc Jと略記する)の結晶型を変換する方法に係
わるものであ)、更に詳しくはTi0PcのBffi又
は0型結晶をA型結晶に変換する方法に関するものであ
る。
(従来の技術)
フタロシアニン類は、塗料・印刷インキ・樹脂の着色・
触媒或は電子材料等として有用な化金物であ)、殊に電
子写真感光体用材料として近年盛んに用いられるように
なった。
触媒或は電子材料等として有用な化金物であ)、殊に電
子写真感光体用材料として近年盛んに用いられるように
なった。
本発明者は、Ti0Pcの製造方法にっbて詳細に検討
した結果、製造条件の微妙な違いによって3種の異なる
結晶型(以下、夫々「A型」、「B型」及び「C型」と
いう)が生成することを確認した。夫々の粉末xN回折
図を図−/、図−2及び図−3に示す。
した結果、製造条件の微妙な違いによって3種の異なる
結晶型(以下、夫々「A型」、「B型」及び「C型」と
いう)が生成することを確認した。夫々の粉末xN回折
図を図−/、図−2及び図−3に示す。
A型は回折角(−〇)9.3°26.3°に、B型は2
.≦0.2?、6° に、そしてC型は2.≦O1λ3
.ダ’ 、 2j、joに夫々%徴的な強い回折ピー
クを有する。
.≦0.2?、6° に、そしてC型は2.≦O1λ3
.ダ’ 、 2j、joに夫々%徴的な強い回折ピー
クを有する。
上記3種の結晶は、通常の製造法では混合物として得ら
れることが多すが、夫々物性を兵にしているために、混
合物のままで用いると、物性の不安定性に由来する種々
のトラブルの原因になシ易い。従って、その製造に際し
ては純粋な結晶型のTi0Pcを取得するのが望ましい
ことは言うまでもない。史に望ましくは、より安定型の
結晶を取得して使用するのが好ましい。
れることが多すが、夫々物性を兵にしているために、混
合物のままで用いると、物性の不安定性に由来する種々
のトラブルの原因になシ易い。従って、その製造に際し
ては純粋な結晶型のTi0Pcを取得するのが望ましい
ことは言うまでもない。史に望ましくは、より安定型の
結晶を取得して使用するのが好ましい。
何故ならば、Ti0Pcはその利用に際して単独で用い
ることは稀であυ、通常微粉化処理、各種助剤の添加或
は分散処理等を施こすことが多く、これらの段階で結晶
型が変化すると必然的にその物性も変化するため、助剤
との親和性の低下や分散不良等のトラブルの原因になり
易いからである。
ることは稀であυ、通常微粉化処理、各種助剤の添加或
は分散処理等を施こすことが多く、これらの段階で結晶
型が変化すると必然的にその物性も変化するため、助剤
との親和性の低下や分散不良等のトラブルの原因になり
易いからである。
(発明が解決しようとする問題点)
上記したように、Ti0Paはその使用形態として、各
種ポリマーや溶剤等に分散させたのち、塗布乾燥を経て
製品化する場合が多いが、併しながら、ポリマーや溶媒
等との親和性が結晶型によって夫々異なるために、異論
結晶の混合物を用いると、分散性が阻害されたり、均一
な塗布ができない等のトラブルを起こし易い。不安定型
の結晶を用いた場合も同様なトラブルの原因になる。
種ポリマーや溶剤等に分散させたのち、塗布乾燥を経て
製品化する場合が多いが、併しながら、ポリマーや溶媒
等との親和性が結晶型によって夫々異なるために、異論
結晶の混合物を用いると、分散性が阻害されたり、均一
な塗布ができない等のトラブルを起こし易い。不安定型
の結晶を用いた場合も同様なトラブルの原因になる。
かかる欠点を排除するには、純粋且つ安定型の単一結晶
のTi0Pcを製造する必懺があシ、その製造法の一発
が強く望まれているのは上記の理由によるものである。
のTi0Pcを製造する必懺があシ、その製造法の一発
が強く望まれているのは上記の理由によるものである。
又、前記3釉の結晶型のうち、A塩結晶は特に電子写真
感光体の光導電物質として有用である。
感光体の光導電物質として有用である。
(問題点を解決するための手段)
本発明者〆は、上記要望に応えるぺ〈鋭意検討を重ねた
結果、先づ結晶の安定性については、A型が最も安定で
、次いでC型であシ、B型が最も不安定で容易にA型に
転移することfa′確かめた。次に8重又はC型結晶か
らA塩結晶を得るべく檎々検討した結果、B型又はC型
結晶に或特定の処理を施こすことによシ、容易にA塩結
晶に変換し得ることを見出し、本発明に到達した。
結果、先づ結晶の安定性については、A型が最も安定で
、次いでC型であシ、B型が最も不安定で容易にA型に
転移することfa′確かめた。次に8重又はC型結晶か
らA塩結晶を得るべく檎々検討した結果、B型又はC型
結晶に或特定の処理を施こすことによシ、容易にA塩結
晶に変換し得ることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨はオキシチタニウムフタロシアニン
のB型又はC型結晶を濃硫酸に俗解ウムフタロシアニン
のB型又はO型a晶のA塩結晶への変換方法に存する。
のB型又はC型結晶を濃硫酸に俗解ウムフタロシアニン
のB型又はO型a晶のA塩結晶への変換方法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において、’I’jOPOの濃硫酸への溶解温度
は%に制限はないが、通常/θ”C−−20θ℃の範囲
が好ましい。溶解温度が10℃以下ではTi0Pcの溶
解度が小さいため、単位容積当シの処理菫が少なく実用
的でない。また、溶解−度を高めると高改度に溶解する
ことができるが、200℃以上ではTi0Pcが分解す
る恐れがあるので避けるのが好ましい。30℃に於ける
?J’%硫酸に対するTi0Pcの溶解度は約3チであ
る。
は%に制限はないが、通常/θ”C−−20θ℃の範囲
が好ましい。溶解温度が10℃以下ではTi0Pcの溶
解度が小さいため、単位容積当シの処理菫が少なく実用
的でない。また、溶解−度を高めると高改度に溶解する
ことができるが、200℃以上ではTi0Pcが分解す
る恐れがあるので避けるのが好ましい。30℃に於ける
?J’%硫酸に対するTi0Pcの溶解度は約3チであ
る。
使用する硫酸の濃度は♂θチ〜100%の範囲が好適で
f/)シ、好ましくはり!チル100%である。硫F1
1e度がJrO%以下ではTi0Pcの溶解度が著しく
小さくなるので好ましくない。
f/)シ、好ましくはり!チル100%である。硫F1
1e度がJrO%以下ではTi0Pcの溶解度が著しく
小さくなるので好ましくない。
硫酸溶液の稀釈に用いる水の量は任意に選択できるが、
硫酸溶液の2〜10倍量の範囲が好ましい。水の量が一
倍量以下ではTi0Paの溶解ロスが多くなる。また、
10倍食以上用いても浬支えないが無意味である。
硫酸溶液の2〜10倍量の範囲が好ましい。水の量が一
倍量以下ではTi0Paの溶解ロスが多くなる。また、
10倍食以上用いても浬支えないが無意味である。
稀釈は発熱を伴なうので冷却下で行なわれる。
この際に水の代りにその一部を氷で代替させることも稀
釈熱の除去に有効である。
釈熱の除去に有効である。
上記の操作で析出したTi0Pcは戸別したのち乾燥し
て次の有機溶剤処理を行なう。
て次の有機溶剤処理を行なう。
本発明に用いられる有機#剤の種類は特に制限はないが
、730℃以上の沸点を有するものが好ましい。例えば
、α−クロロナフタレン、β−クロロナフタレン、α−
ブロモナフタレン、α−メチルナフタレン、α−メトキ
シナフタレン等のナフタレン類、ジフェニルエーテル、
乞ダ′−ジクロロジフェニルエーテル、3.3′−ジメ
チルジフェニルエーテル等のジフェニルエーテル ル類、ジフエニtメタン、嶋り′−ジメチルジフェニル
メタン、3.3′−ジクロロジフェニルメタン等のジフ
ェニルメタン類、/、4t−ジクロロベンセン、/、J
、4t−) IJジクロロベンセンジプロニトロベンゼ
ン等のニトロベンゼンa、N−/チルピロリドン、/、
3−ジメチルーーーイミダゾリジノン、ジメチルスルホ
キシド、N、N−ジメチルホルムアミド、キノリン、ス
ルホラン等が挙げられる。
、730℃以上の沸点を有するものが好ましい。例えば
、α−クロロナフタレン、β−クロロナフタレン、α−
ブロモナフタレン、α−メチルナフタレン、α−メトキ
シナフタレン等のナフタレン類、ジフェニルエーテル、
乞ダ′−ジクロロジフェニルエーテル、3.3′−ジメ
チルジフェニルエーテル等のジフェニルエーテル ル類、ジフエニtメタン、嶋り′−ジメチルジフェニル
メタン、3.3′−ジクロロジフェニルメタン等のジフ
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ン等のニトロベンゼンa、N−/チルピロリドン、/、
3−ジメチルーーーイミダゾリジノン、ジメチルスルホ
キシド、N、N−ジメチルホルムアミド、キノリン、ス
ルホラン等が挙げられる。
沸点が730℃以下の有機溶剤も使用可能であるが、7
30℃以下の処理温度を採用する場合は加圧が必要にな
るので操作がやや煩雑になる。
30℃以下の処理温度を採用する場合は加圧が必要にな
るので操作がやや煩雑になる。
有機溶剤の使用量は任意に選択できるが、好ましくはT
i0Pcに対して4t〜30倍の範囲から選ばれる。有
機溶剤の使用量がこの範囲よシ少ないと処理液の粘度が
高くなるため、均一な混合が難かしくなシ、また、この
範囲よ〕多重と単位容植当シの処理量が少なくなるので
、避けるのが望ましい。
i0Pcに対して4t〜30倍の範囲から選ばれる。有
機溶剤の使用量がこの範囲よシ少ないと処理液の粘度が
高くなるため、均一な混合が難かしくなシ、また、この
範囲よ〕多重と単位容植当シの処理量が少なくなるので
、避けるのが望ましい。
加熱処理温度は、i3o℃〜JOO’Cの範囲が好まし
い。この範囲よシ低い場合は、変換速度が小さくなるの
で処理時間が長くなる欠点がある。また、300℃以上
では使用する溶剤やTi0Pcが熱分解する恐れがある
ので避けるのが好ましい。
い。この範囲よシ低い場合は、変換速度が小さくなるの
で処理時間が長くなる欠点がある。また、300℃以上
では使用する溶剤やTi0Pcが熱分解する恐れがある
ので避けるのが好ましい。
(発明の効果)
本発明方法によれば、有用なTi0PcのA型結晶が極
めて簡単に得られるので、工業的規模での製造にも極め
て有利である。
めて簡単に得られるので、工業的規模での製造にも極め
て有利である。
(実施例)
以下、製造例、実施例、比較例および応用例によシ本発
明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えな
い限ヤ以下の実力例に限定されるものではない。
明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えな
い限ヤ以下の実力例に限定されるものではない。
製造例
/) Ti0Pc A型結晶
温度計、撹拌器、還流冷却器を飼えた/lの反応フラス
コに、α−クロロナフタレン100−を仕込み、油浴上
で/70″ctで昇温した後、0−フタロジニトリルタ
2g(0,7/rモル)と四塩化チタン2O−(0,7
♂−モル)を加えて撹拌下70分を安してλoo′Cま
で昇温する。同温度で!時間撹拌した後、/ j O’
Cまで冷却して濾過する。
コに、α−クロロナフタレン100−を仕込み、油浴上
で/70″ctで昇温した後、0−フタロジニトリルタ
2g(0,7/rモル)と四塩化チタン2O−(0,7
♂−モル)を加えて撹拌下70分を安してλoo′Cま
で昇温する。同温度で!時間撹拌した後、/ j O’
Cまで冷却して濾過する。
得られたジクロロチタニウムフタロシアニンの湿ケーキ
を、/JO℃に加温したα−クロロナフタレンaoow
で洗浄し、次論でメタノール、roo、1を加えて撹拌
下6o℃で2時間懸洗し、ケーキを戸別する。更に脱イ
オン水?θOdを加えて撹拌下り0℃でλ時間懸洗後、
ケーキを戸別して(この操作を2回繰返す)、Ti0P
cの湿ケーキを得る。
を、/JO℃に加温したα−クロロナフタレンaoow
で洗浄し、次論でメタノール、roo、1を加えて撹拌
下6o℃で2時間懸洗し、ケーキを戸別する。更に脱イ
オン水?θOdを加えて撹拌下り0℃でλ時間懸洗後、
ケーキを戸別して(この操作を2回繰返す)、Ti0P
cの湿ケーキを得る。
次すで、この湿ケーキにN−メチルピロリドン7001
dを加えて、撹拌下/jO℃で一時間懸洗した後、ケー
キを戸別する(この操作を一回繰返す。)。得られた湿
ケーキにメタノール200−を加えて、撹拌下60℃で
2時間懸洗した後ケーキを戸別し乾燥した結果、nTi
0Pc 7 t Iを得た(収率2ダチ)。
dを加えて、撹拌下/jO℃で一時間懸洗した後、ケー
キを戸別する(この操作を一回繰返す。)。得られた湿
ケーキにメタノール200−を加えて、撹拌下60℃で
2時間懸洗した後ケーキを戸別し乾燥した結果、nTi
0Pc 7 t Iを得た(収率2ダチ)。
このものの粉末x森回折パターンは、図−/に一致し、
A型結晶であることが確認された。
A型結晶であることが確認された。
又、元素分析値は次の通)であった。
CHN 01
理論値(%) ≦ご、ご/、2.♂0 /9.4t
ダ 0実測値(%) 乙t、j/ 、2.り7
/り、zr o、4t3.2) Ti0Pc B
5結晶 温度計、撹拌器、還流冷却器を備えた/lの反応フラス
コに、α−クコロナフタレン≦00111%0−7タロ
ジニトリル92g(θ、7//−T−ル)及び四塩化チ
タンλ0d(0,/r、2そル)を仕込み、撹拌下拙浴
上で200℃まで昇温する。この昇−過程で、ioo℃
から170℃に到達するまでの昇温時間を2.1時間と
した。
ダ 0実測値(%) 乙t、j/ 、2.り7
/り、zr o、4t3.2) Ti0Pc B
5結晶 温度計、撹拌器、還流冷却器を備えた/lの反応フラス
コに、α−クコロナフタレン≦00111%0−7タロ
ジニトリル92g(θ、7//−T−ル)及び四塩化チ
タンλ0d(0,/r、2そル)を仕込み、撹拌下拙浴
上で200℃まで昇温する。この昇−過程で、ioo℃
から170℃に到達するまでの昇温時間を2.1時間と
した。
、200℃で1時間加熱撹拌した後、i3゜℃まで冷却
してF遇する。得られたジクロロチタニウムフタロシア
ニンの湿ケーキな130℃に加温したα−クロロナフタ
レン4100−で洗浄し、・次いでメタノール10゜―
を加えて撹拌下60℃で一時間懸洗し、ケーキを戸別す
る。更に脱イオン水troo―を加えて撹拌下り0℃で
一時間懸洗後、ケーキを戸別して(この操作を一回繰返
えす)、Ti0Pcの湿ケーキを得る。次いでこの湿ケ
ーキにN−メチルピロリドン700dを加えて、撹拌下
/JrO℃でλ時間懸洗した後、ケーキを戸別する(こ
の操作を、2回繰返す)。
してF遇する。得られたジクロロチタニウムフタロシア
ニンの湿ケーキな130℃に加温したα−クロロナフタ
レン4100−で洗浄し、・次いでメタノール10゜―
を加えて撹拌下60℃で一時間懸洗し、ケーキを戸別す
る。更に脱イオン水troo―を加えて撹拌下り0℃で
一時間懸洗後、ケーキを戸別して(この操作を一回繰返
えす)、Ti0Pcの湿ケーキを得る。次いでこの湿ケ
ーキにN−メチルピロリドン700dを加えて、撹拌下
/JrO℃でλ時間懸洗した後、ケーキを戸別する(こ
の操作を、2回繰返す)。
得られた湿ケーキにメタノール100dを加えて、撹拌
下60℃で一時間懸洗した後ケーキを戸別し、乾燥した
結果、精Ti0I’074gを得た(収率74t%)。
下60℃で一時間懸洗した後ケーキを戸別し、乾燥した
結果、精Ti0I’074gを得た(収率74t%)。
このものの粉末X線回折パターンは図−一に一致し、B
型結晶であることが確認された。又、元素分析値は次の
通りでめった。
型結晶であることが確認された。又、元素分析値は次の
通りでめった。
OE M OL
灘u廂値(%) 4,4.4/ 110
/9’、4t4t O実測値(%) ≦む
7j λ、26/り、310.60j) Ti0Pc
C型結晶 温度計、撹拌器、還流冷却器を備えた/を反応フラスコ
ニ、α−クロロナフタレンtoo、1.0−7タロジニ
トリルターI(0,7/♂モル)及び四塩化チタン20
yd(0,112モル)を仕込み、撹拌下拙浴上で、2
00 ”Cまで昇温する。同温度で1時間反応したのち
、jO′Cまで冷却してF遇する。得られたジクロロチ
タニウムフタロシアニンの湿ケーキをα−クロロナフタ
レンyoo、1で洗浄し、次いでメタノール100−を
加えて撹拌下60℃で一時間勉洗し、ケーキを戸別する
。更に脱イオン水100.、/を加えてり0℃に昇温し
、撹拌下問温度で2時間懸洗後り−キを戸別して(この
操作を2回繰返えす)、Ti0Pcの湿ケーキを得る。
/9’、4t4t O実測値(%) ≦む
7j λ、26/り、310.60j) Ti0Pc
C型結晶 温度計、撹拌器、還流冷却器を備えた/を反応フラスコ
ニ、α−クロロナフタレンtoo、1.0−7タロジニ
トリルターI(0,7/♂モル)及び四塩化チタン20
yd(0,112モル)を仕込み、撹拌下拙浴上で、2
00 ”Cまで昇温する。同温度で1時間反応したのち
、jO′Cまで冷却してF遇する。得られたジクロロチ
タニウムフタロシアニンの湿ケーキをα−クロロナフタ
レンyoo、1で洗浄し、次いでメタノール100−を
加えて撹拌下60℃で一時間勉洗し、ケーキを戸別する
。更に脱イオン水100.、/を加えてり0℃に昇温し
、撹拌下問温度で2時間懸洗後り−キを戸別して(この
操作を2回繰返えす)、Ti0Pcの湿ケーキを得る。
次いでこの湿ケーキにN−メチルピロリドン700−を
加えて、撹拌下/!θ℃でλ時間感洗したのち、ケーキ
を戸別する(この操作を一回繰返えす)。得られた湿ケ
ーキにメタノールroottを加えて、撹拌下60℃で
一時間懸洗したのちケーキを戸別し、乾燥したMM、H
Ti0Pc 7 、r II(収率2!%)を得た。こ
のものの粉末X線回折パターンは図−3に一致し、C型
結晶であることが確認された。また元素分析値は次の通
シであった。
加えて、撹拌下/!θ℃でλ時間感洗したのち、ケーキ
を戸別する(この操作を一回繰返えす)。得られた湿ケ
ーキにメタノールroottを加えて、撹拌下60℃で
一時間懸洗したのちケーキを戸別し、乾燥したMM、H
Ti0Pc 7 、r II(収率2!%)を得た。こ
のものの粉末X線回折パターンは図−3に一致し、C型
結晶であることが確認された。また元素分析値は次の通
シであった。
OHN O1
理論イ直(%) 6g、6? コ、♂O/り、ダ
ダ 0実測値(%) gむJ/ 2.7/ /
9.33 0JI実施例/ Ti0PCのB型結晶−、ダ9を9?チ硫酸/コogに
30℃で溶解したのち、氷水4to。
ダ 0実測値(%) gむJ/ 2.7/ /
9.33 0JI実施例/ Ti0PCのB型結晶−、ダ9を9?チ硫酸/コogに
30℃で溶解したのち、氷水4to。
l中に注加して析出させ、次いで濾過、水洗後乾燥して
コ、29のTi0Pcを得た。これを10−のα−クロ
ロナフタレンに騰濁させ、200℃に昇温して3時間撹
拌したのち720℃に冷却して濾過し、メタノールで洗
浄後乾燥してλ、/IのTi0I’cを得た。得られた
Ti0Pcの粉末X線回折パターンは図−/に一致し、
純粋なA型結晶であった。
コ、29のTi0Pcを得た。これを10−のα−クロ
ロナフタレンに騰濁させ、200℃に昇温して3時間撹
拌したのち720℃に冷却して濾過し、メタノールで洗
浄後乾燥してλ、/IのTi0I’cを得た。得られた
Ti0Pcの粉末X線回折パターンは図−/に一致し、
純粋なA型結晶であった。
実施例−〜り
有機溶剤のa類、処理条件等を変えた以外は実施例/と
同様に実験した結果を次表に示す。
同様に実験した結果を次表に示す。
比較例1
’rtopcのB型結晶を濃硫酸処理しなかった以外は
実施例/と同様に処理した結果、結晶型は変化せず、B
型結晶であった。
実施例/と同様に処理した結果、結晶型は変化せず、B
型結晶であった。
比較例コ
Ti0PcのC型結晶を濃硫酸処理しなかった以外は実
施例tと同様に処理した結果、結晶型は変化せず、Cを
結晶であった。
施例tと同様に処理した結果、結晶型は変化せず、Cを
結晶であった。
応用例(電子写真感光体)
実施例/で製造し九Ti0Pcのム抛結晶0.4tIと
ポリビニルブチラール0..21をグーメト中シーグー
メチルーーーベンタノン301と共にサンドグラインダ
ーで分散し、この分散液をポリエステルフィルム上に蒸
着したアルミ蒸着層の上にフィルムアプリケーターによ
りm布、乾燥して電荷発生層を形成した。塗布膜厚は0
.3I’dである。
ポリビニルブチラール0..21をグーメト中シーグー
メチルーーーベンタノン301と共にサンドグラインダ
ーで分散し、この分散液をポリエステルフィルム上に蒸
着したアルミ蒸着層の上にフィルムアプリケーターによ
りm布、乾燥して電荷発生層を形成した。塗布膜厚は0
.3I’dである。
この電荷発生層の上に、M−メチル−3−カルバゾール
カルバルデヒドジフェニルヒビ2シフフ0部とp−二ト
ロベンゾイルオキシペンザルマロノニトリル2部及びポ
リカーボネート樹脂(三菱化成工業社製ツバレックス7
02jA)100部からなる膜厚/7μmの電荷移動層
を積層し、積層型の感光層を有する電子写真感光体を得
た。
カルバルデヒドジフェニルヒビ2シフフ0部とp−二ト
ロベンゾイルオキシペンザルマロノニトリル2部及びポ
リカーボネート樹脂(三菱化成工業社製ツバレックス7
02jA)100部からなる膜厚/7μmの電荷移動層
を積層し、積層型の感光層を有する電子写真感光体を得
た。
この感光体の感度として半減露−yt、ft (”3’
6 )を静電複写紙試験装置(川口tt磯製作所製モデ
ル5P−4t2r)によ)測定した。即ち、暗所でコロ
ナ電流が一一μAになるように設定した印加電圧による
コロナ放電によシ、感光体を負帯電し、次いでj lu
Xの照度の白色光によ如露光し、表面電位が一4tzo
vから−λ2zVに半減するに要する露光1t(1%)
を累めたところ、0.フ21ux −seaであった。
6 )を静電複写紙試験装置(川口tt磯製作所製モデ
ル5P−4t2r)によ)測定した。即ち、暗所でコロ
ナ電流が一一μAになるように設定した印加電圧による
コロナ放電によシ、感光体を負帯電し、次いでj lu
Xの照度の白色光によ如露光し、表面電位が一4tzo
vから−λ2zVに半減するに要する露光1t(1%)
を累めたところ、0.フ21ux −seaであった。
このときの感光体の帯電圧(初期の表面電位)は−4,
tダv%#減狭は/ 7 V / 1313c 、露光
10秒後の表面電位(残留電位)は−72vであった。
tダv%#減狭は/ 7 V / 1313c 、露光
10秒後の表面電位(残留電位)は−72vであった。
次にこの感光体を帯電後、暗減衰O5秒、りθOlux
の白色光を2.0秒露光するサイクルにより、繰返し特
性の評価を行った。2000回繰返し後の帯電圧は、初
期の?♂チ、残留電位は−JjVであった。
の白色光を2.0秒露光するサイクルにより、繰返し特
性の評価を行った。2000回繰返し後の帯電圧は、初
期の?♂チ、残留電位は−JjVであった。
以上の如く、本発明の方法によって製造した体として有
用である。
用である。
図−7はTi0Pcのム星結晶の粉末X線回折図であシ
、回折角(,2θ) ?、J’、コロ、3°に特徴的な
強−回折ピークを有する。 図−λはTl0PcのBl!結晶の粉末X線回折図であ
)、回折角(−〇)2.6″′、コr、ぶ0に特徴的な
強い回折ピークを有する。 図−3はTi0Pcの0型結晶の粉末X線回折図であシ
、回折角(−θ)2.O’、/j、乙0に特徴的な強す
回折ピークを有する。 出 願 人 三菱化成工業株式会社 代 理 人 弁理士 長谷用 − ほか/名
、回折角(,2θ) ?、J’、コロ、3°に特徴的な
強−回折ピークを有する。 図−λはTl0PcのBl!結晶の粉末X線回折図であ
)、回折角(−〇)2.6″′、コr、ぶ0に特徴的な
強い回折ピークを有する。 図−3はTi0Pcの0型結晶の粉末X線回折図であシ
、回折角(−θ)2.O’、/j、乙0に特徴的な強す
回折ピークを有する。 出 願 人 三菱化成工業株式会社 代 理 人 弁理士 長谷用 − ほか/名
Claims (1)
- (1)オキシチタニウムフタロシアニンのB型又はC型
結晶を濃硫酸に溶解したのち水で稀釈して析出させ、次
いで有機溶剤中で加熱処理することを特徴とするオキシ
チタニウムフタロシアニンのB型又はC型結晶のA型結
晶への変換方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22542986A JPS6380263A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 結晶型の変換方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22542986A JPS6380263A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 結晶型の変換方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6380263A true JPS6380263A (ja) | 1988-04-11 |
Family
ID=16829231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22542986A Pending JPS6380263A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 結晶型の変換方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6380263A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5432278A (en) * | 1990-10-24 | 1995-07-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing crystalline oxytitanium phthalocyanine |
JP2008174753A (ja) * | 2008-02-14 | 2008-07-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | チタニルフタロシアニン化合物及びそれを用いた電子写真感光体 |
-
1986
- 1986-09-24 JP JP22542986A patent/JPS6380263A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5432278A (en) * | 1990-10-24 | 1995-07-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing crystalline oxytitanium phthalocyanine |
JP2008174753A (ja) * | 2008-02-14 | 2008-07-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | チタニルフタロシアニン化合物及びそれを用いた電子写真感光体 |
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