JPS6380252A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野］ この発明は透明支持体上に光重合性組成物層を設けてな
るアルカリ性水溶液によって現像可能な画像形成材料に
関する。

〔従来の技術〕

この種の画像形成材料は、画像を形成するべき基板、た
とえばガラス板やプラスチックフィルムなどからなる絶
縁ベースにアルミニウム膜やＩＴＯ膜（酸化インジウム
−酸化スズ複合膜）などの導電体層を形成してなる基板
の上記導電体層の表面に、光重合性組成物層が内側とな
るように加熱圧着して積層し、この積層後所定の原画を
介して透明支持体側からパターン露光したのち、透明支
持体のみを剥離した上で非露光部分の光重合性組成物層
をアルカリ性水溶液で除去して現像することにより、基
板上に露光により硬化した光重合性組成物層が画像とし
て形成される。

この現像後、上記非露光部分の除去によって露出した導
電体層をエツチング液にてエツチング除去するか、ある
いはこの層上に適宜のメッキ液を用いてメッキ層を形成
するなどの回路形成処理を行うことにより、絶縁ベース
上にパターン化導電体層またはパターン化メッキ層が形
成されてなる回路基板が得られる。ここで、前記露光に
より硬化した光重合性組成物層、つまり硬化画像は、上
記の回路形成処理工程においてマスク材としての機能を
果たし、この処理工程後は前記現像時よりも強アルカリ
性のアルカリ性水溶液で除去される。

従来、このような目的で用いられる画像形成材料として
は、種々のものが提案されているが、その多くは透明支
持体上に設ける光重合性組成物層の材料構成に関するも
のがほとんどである。すなわち、光重合性組成物層は、
皮膜形成性高分子物質、エチレン性不飽和重合性化合物
および光重合開始剤を主要成分として含んでなり、この
うち上記高分子物質および上記重合性化合物の種類１組
み合わせなどの選択により、非露光部分のみをアルカリ
性水溶液で除去しつる現像性を付与し、また露光により
硬化した画像部分を最終的に強いアルカリ水溶液で除去
しつる除去性を付与するとともに、前記回路形成処理工
程において上記の硬化画像部分がエツチング液やメッキ
液などの薬品に抗してマスク材としての機能を充分に果
たしつるような耐薬品性を付与するなどの工夫がとられ
ている。

たとえば、特開昭５８−１１４２号公報などに、上述の
如き現像性、耐薬品性および硬化画像部分の最終除去性
などにすぐれる画像形成材料のひとつとして、光重合性
組成物層を構成する皮膜形成性高分子物質として分子内
にカルボキシル基を含有する線状共重合体を用いる一方
、同組成物層を構成するエチレン性不飽和重合性化合物
としてビスフェノール１モルにエチレンオキサイドやプ
ロピレンオキサイドを１２モル以下の割合で付加反応さ
せたのち（メタ）アクリル酸をエステル化反応させてな
る（メタ）アクリレート化合物を用いてなるものが提案
されている。

［発明が解決しようとする問題点〕 しかるに、この発明者らの実験検討によれば、上記の如
き従来公知の画像形成材料は前記した現像性、耐薬品性
などの特性を必ずしも高度に満足するものとはいえず、
液晶表示装置やエレクトロクロミック表示装置などの精
密な回路形成が要求される画像形成材料としてはなお改
良の余地が残されていることが判った。

したがって、この発明は、光重合性組成物層の材料成分
につきさらに検討を加えて、現像性、耐薬品性などの諸
特性の改良を図り、もって非常に精密な回路形成を可能
とするアルカリ性水溶液によって現像可能な画像形成材
料を提供することを目的としている。

ｃ問題点を解決するための手段〕 この発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討し
た結果、皮膜形成性高分子物質として分子内にカルボキ
シル基を含有する特定の線状共重合体を用いるとともに
、エチレン性不飽和重合性化合物として特定の二官能性
および単官能性の（メタ）アクリレート化合物を二種組
み合わせ使用することにより、アルカリ性水溶液による
現像性を高度に満足し、またエツチング液などに対する
耐薬品性にすぐれ、さらに回路形成処理後の硬化画像部
分の除去性が良好である実用価値の極めて高い画像形成
材料が得られることを知り、この発明を完成するに至っ
た。

すなわち、この発明は、透明支持体上に、皮膜形成性高
分子物質、エチレン性不飽和重合性化合物および光重合
開始剤を含む光重合性組成物層を設けてなる画像形成材
料において、上記の皮膜形成性高分子物質がスチレン−
マレイン酸半エステル共重合体を含み、かつ上記のエチ
レン性不飽和重合性化合物が下記の式（■）； 〔式中、Ｒ１１Ｒ２はそれぞれ水素またはメチル基、Ｘ
はつぎの式； で示される基、Ｙ□、Ｙ２は（メタ）アクリロイル基、
ｌ　＋　ｍはｊ？＋ｍ＝１３〜４０となる整数である］ で表わされる化合物と、下記の式（ロ）；Ｒ３ 〔式中、Ｒ３は水素またはメチル基、Ｒ１はアルキル基
、Ｚは（メタ）アクリロイル基、ｎは１〜５の整数であ
る〕 で表わされる化合物とを含むことを特徴とする画像形成
材料に係るものである。

な詔、この明細書において、（メタ）アクリル酸とはア
クリル酸および／またはメタクリル酸を、（メタ）アク
リレートとはアクリレートおよび／またはメタクリレー
トを、（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基およ
び／またはメタクリロイル基を、それぞれ意味するもの
である。

［発明の構成・作用］ この発明において使用する皮膜形成性高分子物質は、ス
チレン−マレイン酸半エステル共重合体を含むものであ
り、この共重合体は皮膜形成性にすぐれるとともにアル
カリ水溶性によって容易に溶解ないし膨潤するため、こ
れと後述する特定のエチレン性不飽和重合性化合物との
組み合わせにより、現像性とさらに回路形成処理後の硬
化画像部分の除去性に特に好結果を与えるものである。

上記の共重合体を構成するマレイン酸半エステルとは、
無水マレイン酸にイソプロピルアルコール、ブチルセロ
ソルブなどの炭素数が通常３〜６程度のアルコール類を
反応させて、分子内に遊離のカルボキシル基が１個残存
する半エステルとしたものである。この半エステルとス
チレンとの共重合割合は、共重合体中上記半エステルが
４０〜８０重量％程度を占める割合であるのが望ましい
。

このようなスチレン−マレイン酸半エステル共重合体の
分子量としては、重量平均分子量が５万〜１３万の範囲
にあるのが好適である。分子量が低くなりすぎると、皮
膜形成性が悪くなるほか、露光硬化部分の現像液（アル
カリ性水溶液）やエツチング液などに対する耐性に劣る
ため、現像性の低下や耐薬品性の低下をきたしやすい。

また、分子量が高くなりすぎると、非露光部分を現像液
で除去する際の除去性に劣るため、やはり現像性の低下
をきたしやすい。

この発明においては、上記のスチレン−マレイン酸半エ
ステル共重合体を皮膜形成性高分子物質としてこれ単独
で使用できるものであるが、必要なら従来公知の他の皮
膜形成性高分子物質、たとえばポリメチルメタクリレー
トの部分加水分解物、共重合ポリアミド、ポリビニルア
ルコール、ポリプロピレン、スチレンーブタジ丁ン共重
合ゴムなどを併用してもよい。これらの他の皮膜形成性
高分子物質を併用する場合、スチレン−マレイン酸半エ
ステル共重合体が高分子物質全体の５０重量％以上とさ
れているのがよい。上記共重合体の使用量が少なくなり
すぎるとこの発明の効果が滅失する。

この発明において使用するエチレン性不飽和重合性化合
物は、前記の式（Ｉ）で表わされる二官能性（メタ）ア
クリレート化合物と前記の式（ＩＩ）で表わされる単官
能性（メタ）アクリレート化合物との二種の組み合わせ
からなるものである。前者の二官能性（メタ）アクリレ
ート化合物は、主として露光硬化部分のエツチング液な
どの薬品に対する耐性の向上に寄与するとともに、後者
の単官能性（メタ）アクリレート化合物と前記皮膜形成
性高分子物質との相溶性を高める機能を有し、さらに後
者の単官能性（メタ）アクリレート化合物は露光硬化部
分はもちろん非露光部分においても画像を形成するべき
基板に対する密着性ないし接着性を高める働きを主とし
て有している。すなわち、両（メタ）アクリレート化合
物を併用することにより前記皮膜形成性高分子物質と良
く相溶し、それぞれの機能が補い合って、現像性、耐薬
品性および回路形成処理後の硬化画像部分の除去性に好
結果を与えるものである。

前記の式（Ｉ）で表わされる二官能性（メタ）アクリレ
ート化合物は、たとえばビスフェノール１モルにエチレ
ンオキサイドやプロピレンオキサイドを１３〜４０モル
の割合で付加反応させたのち（メタ）アクリル酸をエス
テル化反応させることにより得ることができる。すなわ
ち、前記した特開昭５８−１１４２号公報に開示される
エチレン性不飽和重合性化合物は、エチレンオキサイド
やプロピレンオキサイドの付加モル数が１２モル以下と
されたものであるのに対し、この発明に係る前記式（Ｉ
）で表わされる二官能性（メタ）アクリレート化合物は
、上記付加モル数が１３〜４０モル〔つまり、式（Ｉ）
中の／＋ｍ＝１３〜４０）となっている点で、上記公報
に開示のものとは本質的に異なっている。

この発明において上述の如くエチレンオキサイドやプロ
ピレンオキサイドの付加モル数を１３〜４０モルと規定
した理由のひとつは、後述の式（ＩＩ）で表わされる単
官能性化合物の特性を補う必要があるためである。つま
り、上記の単官能性化合物は前記の皮膜形成性高分子物
質との相溶性が悪く、この相溶性を高めるためには、式
（Ｉ）におけるエチレンオキサイドやプロピレンオキサ
イドの付加モル数を１３モル以上としなければならない
のである。一方、この付加モル数をあまりに多くしすぎ
ると親水性が強くなりすぎて現像時に露光硬化部分まで
もが剥がれてしまうおそれがあり、現像性を良好なもの
とするために、４０モル以下に抑える必要がある。

このように、前記式（Ｉ）中の１．ｍは、皮膜性良好な
光重合性組成物層を形成し、また現像性を良好なものと
する観点から設定されたものであって、１　＋ｍ＝　１
３〜４０の範囲となるように決められるが、この中でも
特に好適には、ｌ＋ｍ−１３〜３０の範囲となるように
するのがよい。

このような付加モル数を有する前記式（Ｉ）で表わされ
る二官能性（メタ）アクリレート化合物を、その具体的
化合物名で示せば、２・２−ビス（４−アクリロキシポ
リエトキシフェニル）プロパン、２・２−ビス（４−ア
クリロキシポリプロポキシフェニル）フロパン、２・２
−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プ
ロパン、２・２−ビス（４−メタクリロキシポリプロポ
キシフエニノ０プロパンがあげられる。

つぎに、前記の式（ＩＩ）で表わされる単官能性（メタ
）アクリレート化合物は、たとえばアルキルフェノール
にエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反
応させ、これに（メタ）アクリル酸をエステル化反応さ
せることにより得ることができる。アルキルフェノール
のアルキル基［式（ＩＤ中のＲ４］の炭素数は通常６〜
１２個であるのが好ましい。エチレンオキサイドやプロ
ピレンオキサイドの付加モル数は１〜５モル〔つまり、
式（ＩＤ中のｎ＝１〜５］とすべきであり、これより多
くなると基板表面に対する密着性ないし接着性改善効果
などの面で好結果を得にくい。

このような単官能性（メタ）アクリレート化合物の中で
も、エチレンオキサイドを付加させたもの、つまり式（
ＩＤ中のＲ３＝Ｈのものが、特に望ましい。その具体的
化合物基を挙げれば、たとえば１−（４−アクリロキシ
ジェトキシフェニル）ドデカン、１−（４−アクリロキ
シジェトキシフェニル）ノナン、１−（４−メタクリロ
キシトリエトキシフェニル）ドデカンなどがある。市販
品としては、東亜合成化学工業社製の商品名Ｍ−１１３
などが挙げられる。

この発明においては、エチレン性不飽和重合性化合物と
して、上記の式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされる化合
物を組み合わせ使用することをひとつの特徴としている
が、上記式（Ｉ）　、　（ＩＩ）の化合物のほか、必要
なら従来公知の他のエチレン性不飽和重合性化合物、た
とえばアクリル酸ないしメタクリル酸、多価アルコール
および塩基酸から合成されるようなポリエステルアクリ
レート類ないしポリエステルメタクリレート類などを併
用しても差し支えない。ただし、これらの他のエチレン
性不飽和重合性化合物を併用する場合、式（Ｉ）とＩで
表わされる二種の化合物がエチレン性不飽和重合性化合
物全体の５０重量％以上とされているのがよい。これよ
り少なくなると前述したこの発明の効果が得られにくく
なる。

この発明において皮膜形成性高分子物質に対する上述の
エチレン性重合性不飽和化合物の使用割合としては、上
記高分子物質１００重量部に対してエチレン性重合性不
飽和化合物が３０〜１５０重量部、好適には６０〜１０
０重量部となるようにするのが望ましい。この割合が過
少でもまた過多でも現像性、耐薬品性および硬化画像部
分の最終除去性などの面で好結果を得にくい。

また、皮膜形成性高分子物質の主要成分であるスチレン
−マレイン酸半エステル共重合体と、エチレン性不飽和
重合性不飽和化合物の主要成分である前記式（Ｉ＞と（
ＩＩ）で表わされる化合物との間での相対割合としては
、上記共重合体１００重量部に対して、前記式（Ｉ）で
表わされる二官能性（メタ）アクリレート化合物が５〜
３０重量部、好適には５〜２０重量部で、前記式（ＩＩ
）で表わされる単官能性（メタ）アクリレート化合物が
２５〜１２０重量部、好適には６０〜１００重量部であ
るのがよい０ さらに、上記の使用割合からも示唆されるように、前記
式（Ｉ）で表わされる二官能性（メタ）アクリレート化
合物は、前記式（Ｉｌｌで表わされる単官能性（メタ）
アクリレート化合物よりも少なめにするのが望ましい。

すなわち、上記両孔合物の合計量中、前者の二官能性（
メタ）アクリレート化合物が５〜３０重量％、好適には
５〜２０重量％で、後者の単官能性（メタ）アクリレー
ト化合物が９５〜７０重量％、好適には９５〜８０重量
％であるのがよい。どちらか一方が上記より過多もしく
は過少となると、現像性、耐薬品性および硬化画像部分
の最終除去性などの特性をすべて満足させることが難し
くなる。

この発明において用いられるもうひとつの必須成分であ
る光重合開始剤としては、カルボニル化合物、有機硫黄
化合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾおよびジ
アゾ化合物、ハロゲン化合物、チオキサントン系化合物
などがある。

代表的な具体例を挙げれば、カルボニル化合物として、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインインブチルエーテル、
ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、アントラ
キノン、２−メチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルア
ントラキノン、９・１０−フェナントレンキノン、ジア
セチル、ベンジルなどがある。また、有機硫黄化合物と
しては、ジブチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィ
ド、ジベンジルジスルフィド、ジフェニルジスルフィド
、ジベンゾイルジスルフィド、ジアセチルジスルフィド
などがある。

過酸化物としては、過酸化水素、ジー【−ブチルペルオ
キシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンペルオ
キシドなどが挙げられる。さらに、レドックス系化合物
は、過酸化物と還元剤との組合せからなるものであり、
第一鉄イオンと過酸化水素、第一鉄イオンと過硫酸イオ
ン、第二鉄イオンと過酸化物などがある。

アゾおよびジアゾ化合物としては、α・α′−アゾビス
イソブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロ
ニトリル、１−アゾビス−シクロヘキサンカルボニトリ
ル、ｐ−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム塩など
がある。ハロゲン化合物としては、クロルメチルナフチ
ルクロリド、フェナシルクロリド、クロルアセトン、β
−ナフタレンスルホニルクロリド、キシレンスルホニル
クロリドなどを挙げることができる。

さらに、チオキサントン系化合物としては、２・４−ジ
エチルチオキサントン、２−クロルチオキサントン、２
・４−ジメチルチオキサントンなどがあり、これらは通
常ｐ−ジメチルアミノ安息香酸インアミルエステル、ｐ
−ジメチルアミ７安息香酸エチルエステルなどとの混合
系で用いられる。

これらの光重合開始剤は、その一種を用いてもよいし二
種以上を混合して用いてもよい。使用量は、エチレン性
不飽和重合性化合物１００重量部に対して通常０．５〜
２０重量部の範囲とすればよい。過少では光重合性組成
物層の露光硬化性に劣り、また所定量を超えて用いても
それ以上の硬化性の向上は認められないため経済的に不
利である。

この発明において透明支持体上に光重合性組成物層を形
成するために用いられる光重合性組成物は、以上の皮膜
形成性高分子物質、エチレン性不飽和重合性化合物およ
び光重合開始剤を必須成分とするが、これにさらに熱重
合禁止剤や着色剤を配合するようにしてもよい。

熱重合禁止剤としては、パラメトキシフェノール、ヒド
ロキノン、アルキル基またはアリール基置換ヒドロキノ
ン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅
、フェノチアジン、フロラニール、ナフチルアミン、β
−ナフトール、２・６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ
−トルイジン、メチレンブルー、酢酸銅の如き有機酸銅
などがある。これらの熱重合禁止剤はエチレン性不飽和
重合性化合物１００重量部に対して通常ｏ、ｏｏｉ〜５
重量部の範囲で用いられる。

着色剤としては、たとえばカーボンブラック、酸化鉄、
フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などの顔料や、メチ
レンブルー、クリスタルバイオレット、ローダミンＢ１
アクシン、オーラミン、アゾ系染料、アントラキノン系
染料などの染料があるが、光重合開始剤の吸収波長の光
を吸収しない。

ものが好ましい。着色剤の添加量は、皮膜形成性高分子
物質およびエチレン性不飽和重合性化合物の合計量１０
０重量部に対して通常０．０１〜５重量部の範囲で用い
られる。

なおまた、上記の光重合性組成物には、上記成分のほか
、必要に応じて可塑剤、接着促進剤などの各種添加剤を
含ませることもできる。

この発明においては、このような光重合性組成物を通常
溶媒に均一に溶解し、これを透明支持体上にキャスティ
ングしたのち、乾燥することにより、一般に５〜ｌ　Ｑ
　Ｑ　）ｔｙｎ、特に好適には１０〜５０μ程度の厚み
の光重合性組成物層を形成して、画像形成材料とする。

上記の溶媒としては、光重合性組成物を溶解しつるもの
であれば特に限定されず、一種であっても二種以上の混
合溶媒であってもよい。具体例としては、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル
、ジクロルメタン、クロロホルム、メタノール、エタノ
ールなどが挙げられる。

一方、上記の透明支持体としては、この上に均一厚みの
光重合性組成物層を形成しうるように、表面平滑性にす
ぐれたものであることが望まれ、また露光後現像するに
あたって上記層から容易に剥離しうるように、その材質
を選択しまた表面処理を施していないものを使用するこ
とが望まれる。

さらに、露光によって光重合性組成物層を良好に光重合
できるように、光の透過性にすぐれていること、たとえ
ば波長範囲２９０〜５００ｎｍにおいて光の透過率が３
０％以上、特に好適には６５％以上となるものであるこ
とが要求される。

このような要求特性を満足する透明支持体には、種々の
ものがあるが、その代表的な例を挙げれば、たとえば厚
みが５〜１００μ、特に１０〜３０／ａ程度のポリエチ
レンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、
ポリプロピレンフィルムなどがあり、これらの中でもポ
リエチレンテレフタレートフィルムが最も好ましい。

この発明の画像形成材料はロール状に巻回し、あるいは
層状に重ね合わせて保存することができるが、その際材
料相互の粘着を防止するために、光重合性組成物層を形
成してなる透明支持体の背面にシリコーン樹脂などの離
型剤で離型処理を施すか、あるいは離型効果のある保護
フィルム、たトエハホリエチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルム／ム、ポリテトラフルオロエチレンフィル
ムなどを光重合性組成物層上に貼り合わせておくのがよ
い。上記の保護フィルムは光重合性組成物層の経時的な
劣化を防止するのにも役立つものである。

この発明の画像形成材料を用いて所定パターンの画像を
形成するには、従来公知の方法に準じて行えばよい。す
なわち、まず画像を形成するべき基板、たとえばガラス
板やプラスチックフィルムなどからなる絶縁ベースにＩ
ＴＯ膜やアルミニウム膜などの導電体層を形成してなる
基板の上記導電体層の表面に、画像形成材料を、保護フ
ィルムを有するときはこれを剥離したのち、光重合性組
成物層側が内側となるように通常９０〜１３０°Ｃの条
件で加熱圧着して積層する。ついで、この積層体の透明
支持体側から原画を通して活性光線をパターン露光する
。活性光線としては、２００〜７００ｎｍ、好適には２
５０〜５００ｎｍの紫外線ないし可視光線があり、これ
らに好適な光源としては、低圧、高圧、超高圧の水銀ラ
ンプ、キセノンランプ、カーボンアーク燈、ハロゲンラ
ンプ、殺菌燈などがある。

上記露光後透明支持体を剥離除去したのち、現像液とし
てアルカリ性水溶液を用いて既知の方法、たとえばスプ
レー法、揺動浸漬法、ブラッシング法、スクラッピング
法などの方法により、非露光部分のみを選択的に除去す
ることによって現像する。これによって基板上に露光に
より硬化した光重合性組成物層が鮮明な画像として形成
される。

現像液として用いる上記のアルカリ性水溶液は、アルカ
リ成分として、リチウム、ナトリウムまたはカリウムの
水酸化物からなる水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウ
ムまたはカリウムの炭酸塩や重炭酸塩の如き炭酸アルカ
リ、リン酸カリウムやリン酸ナトリウムなどのアルカリ
金属リン酸塩、ピロリン酸ナトリウムやピロリン酸カリ
ウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられる
が、これらの中でも特に炭酸ナトリウムが好適である。

アルカリ成分の濃度は、水溶液中０．５〜３重量％程度
であり、これより高くなると露光部分までもが一部除去
されるおそれがあるため現像性が悪くなる。現像時の温
度は、光重合性組成物層の各構、酸成分の種類に応じて
適宜調節されるが、一般には２０〜３０℃程度である。

なお、上記の現像液には、必要に応じて界面活性剤、消
泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤を含ませ
てもよい０ このようにして画像を形成したのち、硬化画像をマスク
材として露出した導電体層をエツチング液にてエツチン
グ除去する回路形成処理を行う。

この処理は、たとえばエツチング液として塩酸：水：硝
酸の容積比が１：１：０．０８となる塩酸−硝酸混合水
溶液を用いて、この液中に前記画像形成された基板を３
０〜１２０秒間揺動浸漬する方法などによって行える。

なお、上記エツチング処理の代わりに、既知のメッキ液
を用いて露出した導電体層上にメッキ層を形成すること
もある。このような穏々の回路形成処理工程において、
硬化画像はエツチング液やメッキ液などの薬品に対して
充分な耐性を示し、マスク材としての機能をいかんなく
発揮する。

この回路形成処理後、硬化画像を前記現像液よりも強ア
ルカリ性であるアルカリ性水溶液、たとえば２〜７重景
％程度の水酸化ナトリウム水溶液などによって除去する
ことにより、絶縁ベース上にパターン化導電体層または
パターン化メッキ層が精密に形成されてなる回路基板が
得られる。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明においては、透明支持体上に設
ける光重合性組成物層として、前記した特定の皮膜形成
性高分子物質と特定のエチレン性不飽和重合性化合物と
を組み合わせ使用するようにしたことにより、現像性、
耐薬品性および回路形成処理後の硬化画像部分の除去性
などの諸性能をいずれも高度に満足する画像形成材料を
得ることができる。したがって、この画像形成材料は、
液晶表示装置やエレクトロクロミック表示装置などの精
密な回路形成が要求される用途などに対しても有利に応
用することができる。

〔実施例〕

以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において部とあるは重量部を意味する
ものである。

実施例Ｉ Ｎ重子ＦＪか十重１０２，０００） ２・４−ジエチルチオキサントン　　　　　４．２部ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル　　１．
７部ビクトリアピュアーブルー　　　　　　　　ｏ、ｏ
ｓｓハイドロキノン　　　　　　　　　　　０．０４部
上記の組成物を酢酸エチルに均一に溶解混合して、固型
分濃度が４０重量％となる光重合性組成物溶液を調製し
た。この溶液を、透明支持体としての２５μ厚の透明な
ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアプリケータ
により塗布し、８０℃で５分間加熱乾燥を行って約２５
／”厚の光重合性組成物層を形成し、この発明の画像形
成材料とした。

フィルム上に導電体層として厚み２００Ａの酸化記導電
体層の表面に、光重合性組成物層側が内側となるように
９０°Ｃの条件下で加熱圧着して積層した。この積層体
の透明支持体の表面に陰画原稿を密着させ、この原稿を
通して３ＫＷの超高圧水銀燈により光源から６０ｃｍの
距離で２０秒間露光した。その後、透明支持体を剥離し
たのち、１重量％の炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）水
溶液中に２５℃下で３分間揺動浸漬して現像することに
より、線幅７５声までの解像度を有する鮮明な画像が得
られた。

ついで、この硬化画像を有する基板を、塩酸：水：硝酸
＝１：１：０．０８（容積比）の塩酸−硝酸混合水溶液
からなるエツチング液に３０秒間浸漬し、硬化画像をマ
スク材として露出する導電体層をエツチング除去した。

その後、１０分間水洗したのち、１００℃の熱風乾燥機
にて加熱乾燥した。このエツチング処理および水洗処理
中、硬化画像は剥がれることなく非常に良好な耐性を示
した。

最後に、′３重量％の水酸化ナトリウム水溶液にて処理
して硬化画像を除去し、さらに水洗乾燥することにより
、絶縁ベース上にパターン化導電体層を有する回路板を
得た。このときの硬化画像の除去性は良好で、上記水溶
液によって簡単にかつ完全に除去できた。

比較例１ エチレン性不飽和重合性化合物として、２・２−ビス（
４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン〔
式（Ｉ）中のＹ、、Ｙ２＝メタクリロイル基、Ｒ，、Ｒ
，＝Ｈ，／＋ｍ＝１０　）　９０部と、１−（４−アク
リロキシジェトキシフェニル）ノナン（実施例１で用い
たものと同じ）１０部とを用いた以外は、実施例１と同
様にして光重合性組成物溶液を調製し、またこの溶液を
用いて実施例１と同様にして画像形成材料を得た。

この画像形成材料を用いて実施例１と同様にして画像形
成および回路形成を行ってみたが、光重合性組成物層中
の皮膜形成性高分子物質とエチレン性不飽和重合性化合
物との相溶性が悪く、組成物層の表面に上記化合物のう
ちの１−（４−アクリロキシジェトキシフェニル）ノナ
ンの浮キ出しがおこるために、画像形成を良好に行えず
、したがって精密な回路形成を行うことができなかった
。

比較例２ 比較例１において皮膜形成性高分子物質として重量平均
分子量が９，０００のスチレン−マレイン酸イソプロピ
ル半エステル共重合体（日本触媒化学工業社製の商品名
５ＨＩＯＩ）を１００部使用するようにした以外は、比
較例１と同様にして光重合性組成物溶液を調製し、また
この溶液を用いて実施例１と同様にして画像形成材料を
得た。

この画像形成材料を用いて実施例１と同様の画像形成を
試みたが、現像液にて現像する際に露光硬化部分までも
が剥がれてしまい、所望の画像を形成することができな
かった。

実施例２ エチレン性不飽和重合性化合物として、２・２−ビス（
４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン［式
（Ｉｌ中のＹ、、Ｙ２＝アクリロイル基、Ｒ１＋Ｒ２＝
Ｈ％ｊ’＋ｍ＝１５　）　１０部と、１−（４−アクリ
ロキシジェトキシフェニル）ドデカン〔式（ＩＤ中のＲ
３＝Ｈ％Ｒ，＝ドデシル基、Ｚ＝ニアクリロイル、ｎ＝
２）６０部とを用いた以外は、実施例１と同様にして光
重合性組成物溶液を調製し、またこの溶液を用いて実施
例１と同様にして画像形成材料を得た。

この画像形成材料を用いて実施例１と同様にして画像形
成および回路形成を行ってみたところ、現像性、耐薬品
性および硬化画像の最終除去性のいずれについても実施
例１と同様の良好な結果が得られた。

実施例３ エチレン性不飽和重合性化合物として、２・２−ビス（
４−アクリロキシポリプロポキシフェニル）プロパン［
式（Ｉ）中のＹ□、Ｙ２＝アクリロイル基、Ｒ１゜Ｒ２
＝　ＣＨ３、／＋ｍ＝３０　］　１０部と、１−（４−
メタクリロキシトリエトキシフェニル）ドデカン〔式（
ＩＤ中のＲ３＝Ｈ，Ｒ，＝ドデシル基、Ｚ＝メタクリロ
イル基、ｎ＝３］１００部とを用いた以外は、実施例１
と同様にして光重合性組成物溶液を調製し、またこの溶
液を用いて実施例１と同様にして画像形成材料を得た。

この画像形成材料を用いて実施例１と同様にして画像形
成および回路形成を行ってみたところ、現像性、耐薬品
性および硬化画像の最終除去性のいずれについても実施
例１と同様の良好な結果が得られた。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明支持体上に、皮膜形成性高分子物質、エチレ
   ン性不飽和重合性化合物および光重合開始剤を含む光重
   合性組成物層を設けてなる画像形成材料において、上記
   の皮膜形成性高分子物質がスチレン−マレイン酸半エス
   テル共重合体を含み、かつ上記のエチレン性不飽和重合
   性化合物が下記の式（ I ）； ▲数式、化学式、表等があります▼…（ I ） 〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２はそれぞれ水素またはメチル基
   、Ｘはつぎの式； ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基、Ｙ＿１、Ｙ＿２は（メタ）アクリロイル
   基、ｌ、ｍはｌ＋ｍ＝１３〜４０となる整数である〕 で表わされる化合物と、下記の式（II）； ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（II） 〔式中、Ｒ＿３は水素またはメチル基、Ｒ＿４はアルキ
   ル基、Ｚは（メタ）アクリロイル基、ｎは１〜５の整数
   である〕 で表わされる化合物とを含むことを特徴とする画像形成
   材料。
2. （２）皮膜形成性高分子物質１００重量部に対してエチ
   レン性不飽和重合性化合物が３０〜１５０重量部である
   特許請求の範囲第（１）項記載の画像形成材料。
3. （３）スチレン−マレイン酸半エステル共重合体が皮膜
   形成性高分子物質中５０重量％以上である特許請求の範
   囲第（１）項または第（２）項記載の画像形成材料。
4. （４）式（ I ）と（II）で表わされる二種の化合物が
   エチレン性不飽和重合性化合物中５０重量％以上である
   特許請求の範囲第（１）〜（３）項のいずれかに記載の
   画像形成材料。
5. （５）式（ I ）と（II）で表わされる二種の化合物の
   合計量中、式（ I ）で表わされる化合物が５〜３０重
   量％、式（II）で表わされる化合物が９５〜７０重量％
   である特許請求の範囲第（１）〜（４）項のいずれかに
   記載の画像形成材料。
6. （６）スチレン−マレイン酸半エステル共重合体１００
   重量部に対して、式（ I ）で表わされる化合物が５〜
   ３０重量部、式（II）で表わされる化合物が２５〜１２
   ０重量部である特許請求の範囲第（１）〜（５）項のい
   ずれかに記載の画像形成材料。