JPS6379344A - 半導体素子 - Google Patents

半導体素子

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Publication number
JPS6379344A
JPS6379344A JP61223548A JP22354886A JPS6379344A JP S6379344 A JPS6379344 A JP S6379344A JP 61223548 A JP61223548 A JP 61223548A JP 22354886 A JP22354886 A JP 22354886A JP S6379344 A JPS6379344 A JP S6379344A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
semiconductor element
dividing
semiconductor
semiconductor elements
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61223548A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroto Nagatomo
長友 宏人
Tsutomu Mimata
巳亦 力
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61223548A priority Critical patent/JPS6379344A/ja
Publication of JPS6379344A publication Critical patent/JPS6379344A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体素子に関するものである。
〔従来技術〕
近年、ウェハを複数のチップに分割するダイシング(D
icing)は、ハーフカット又はセミフルカット方式
が主流となっている。例えば、セミフルカット方式は、
第4図及び第5図に示すように、ウェハ1にダイシング
溝2を設け、このダイシング溝2の部分でペレタイズし
て複数の半導体素子(チップ)3に分離している。その
ために、ペレタイズされた半導体素子3の形状は、第5
図に示すように、半導体素子3の裏側の側端部に近い部
分に突起4が残っている。この突起4が残った半導体素
子3のまま組立てた後、レジンモールドを行っている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、かかる技術を検討した結果、前記突起4
が残ったまま組立てた後、レジンモールド又はパッケー
ジ封止を行うと、次のような問題点を見い出した。
(1)、ペレット(チップ)・ボンディング中あるいは
ボンディング後に半導体素子3の突起4が欠けてけい素
(Si)屑ができ、このけい素層が動き回り素子のショ
ートや傷不良を発生させる。
(2)、レジンモールド時の熱による応力が半導体素子
3の突起4に集中してその部分からパッケージクラック
やペレットクラックを発生させる。
本発明の目的は、けい素層による素子のショートや傷不
良の発生を防止することができる技術を提供することに
ある。
本発明の他の目的は、レジンモールド時にパッケージク
ラックやペレットクラックの発生を防止することができ
る技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、半導体素子の表裏面の周辺端部を面取りした
ものである。
また、ウェハを複数のチップに分割する前にあらかじめ
分割用三角溝をウェハの表裏面に砥石等により設け、そ
の後ダイシングして複数の半導体素子に分離する半導体
素子の製造方法である。
〔作用〕
前記した手段によれば、半導体素子の表裏面の周辺端部
を面取りしたことにより、突起部分がなくなるため、レ
ジンモールド又はパッケージ封止を行っても、半導体素
子の特定の部分に応力が集中することがないので、けい
素層を発生することがなく、素子のショートや傷不良を
防止することができる。これにより、レジンモールド時
にパッケージクラックやペレットクラックの発生を防止
することができる。
また、ウェハを複数のチップに分割する前にあらかじめ
分割用三角溝をウェハの表裏面に砥石等により設け、そ
の後ダイシングして複数の半導体素子に分離することに
より、半導体素子面の表裏の周辺端部の面取りを簡単に
行うことができる。
(発明の実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を用いて具体的に説明す
る。
なお、全回において、同一機能を有するものは同一符号
を付け、その繰り返しの説明は省略する。
第1図は、本発明の半導体素子の一実施例の外観を示す
平面図、 第2図は、本発明の半導体素子の一実施例のウェハ状態
を示す断面図、 第3図は、第1図に示すlff−11ff切断線におけ
る断面図である。
本実施例の半導体素子は、第1図及び第3図に示すよう
に、半導体素子(チップ)3の表裏面の周辺端部5を面
取りしたものである。
この半導体素子3は、第3図に示すように、ウェハ1を
複数のチップに分゛割する前にあらかじめ分割用三角溝
6をウェハlの表裏面に砥石等により設け、その後ダイ
シングして複数の半導体素子1に分離して製造される。
このように、半導体素子3の表裏面の周辺端部5を面取
りしたことにより、突起部分がなくなるため、レジンモ
ールド又はパッケージ封止を行っても、半導体素子3の
特定の部分に応力が集中することがないので、けい素層
を発生することがなく、半導体素子3のショートや傷不
良を防止することができる。これにより、レジンモール
ド時にパッケージクラックやペレットクラックの発生を
防止することができる。
また、ウェハ1を複数のチップに分割する前にあらかじ
め分割用三角溝6をウェハの表裏に砥石等により設け、
その後ダイシングして複数の半導体素子3に分離するこ
とにより、半導体素子3の表裏面の周辺端部5の面取り
を簡単に行うことができる。
第6図は、本発明の半導体素子の他の実施例のウェハ状
態を示す断面図である。分割用溝6′の形状は、第2図
に示す溝6と異なり、なめらかな形状とされている。こ
の様な形状とすることにより、第7図に示す様に、半導
体素子3の表裏面の周辺端部5′は、曲線状に形成され
る。
以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが1
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
例えば、前記分割用三角溝6の切込角度は、必要に応じ
て種々変更し得ることは勿論である。また、溝の形状は
三角に限定されるものではなく、例えば曲面であっても
よい。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
(1)、半導体素子の表裏面の周辺端部を面取りしたこ
とにより、突起部分がなくなるため、レジンモールド又
はパッケージ封止を行っても、半導体素子の特定の部分
に応力が集中することがないので、けい素層を発生する
ことがなく、半導体素子のショートや傷不良を防止する
ことができる。
(2)、前記(1)により、レジンモールド時にパッケ
ージクラックやペレットクラックの発生を防止すること
ができる。
(3)、ウェハを複数のチップに分割する前にあらかじ
め分割用三角溝をウェハの表裏に砥石等により設け、そ
の後ダイシングして複数の半導体素子に分離することに
より、半導体素子の表裏面の周辺端部の面取りを簡単に
行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明の半導体素子の一実施例の外観を示す
平面図、 第2図は、本発明の半導体素子の一実施例のウェハ状態
を示す断面図、 第3図は、第1図に示す■−■切断線における断面図、 第4図は、従来の半導体素子の問題点を説明するための
図。 第5図は、第4図に示す■−■切断線における断面図、 第6図及び第7図は本発明の他の実施例を示す断面図で
ある。 図中、1・・・ウェハ、2・・・ダイシング溝、3・・
・半導体素子、4・・・突起、5,5′・・・周辺端部
、6・・・分割用三角溝、6′・・・分割用曲線溝であ
る。 代理人 弁理士 小川勝男″゛ゝ。 第  1  図 第  2  図 第  3  図 第  4  図 第  5  図 NNhき胚きむき料

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体素子の表裏面の周辺端部を面取りしたことを
    特徴とする半導体素子。 2、ウェハを複数のチップに分割する前にあらかじめ分
    割用三角溝をウェハの表裏に砥石等により設け、その後
    ダイシングして複数の半導体素子に分離することを特徴
    とする半導体素子の製造方法。
JP61223548A 1986-09-24 1986-09-24 半導体素子 Pending JPS6379344A (ja)

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JP61223548A JPS6379344A (ja) 1986-09-24 1986-09-24 半導体素子

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JP61223548A JPS6379344A (ja) 1986-09-24 1986-09-24 半導体素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6379344A true JPS6379344A (ja) 1988-04-09

Family

ID=16799881

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JP61223548A Pending JPS6379344A (ja) 1986-09-24 1986-09-24 半導体素子

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JP (1) JPS6379344A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000340530A (ja) * 1999-05-27 2000-12-08 Toshiba Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2007042810A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd ワーク切断方法
JP2012103036A (ja) * 2010-11-08 2012-05-31 Hitachi Consumer Electronics Co Ltd 放射線検出器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000340530A (ja) * 1999-05-27 2000-12-08 Toshiba Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2007042810A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd ワーク切断方法
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