JPS6378528A - ウエハベ−ク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明はウェハベーク装置において、ウェハとヒータブ
ロックとを離すと共に、ウェハを覆うカバーとヒートブ
ロックとを離し、ウェハの下部の周囲を間口とし、ベー
タ済のウェハを室温レベルにまで冷却しうるようにした
ものである。

〔産業上の利用分野〕

本発明はウェハベーク装置に係り、特に個々の処理を行
なう装置を並べて配してなる半導体製造システム中のウ
ェハベーク装置に関する。

〔従来の技術〕

半導体製造システムは個々の処理を行なう装置が並ｌυ
で配された構成であり、ウェハは順次次の装置に移送さ
れて処理される。ウェハの処理が遅れてウェハの搬送が
滞った場合にも支障がないように、ウェハベーク装置の
後に持殿のためのステーションが配してあり、半導体製
造システムは大聖となっていた。持様ステーションを省
略できれば半導体ＩＪ　３ｆｉシステムはその分小型化
される。ウェハベーク装置をウェハを持磯可能とする（
１１１成とすれば、待機ステーションが省略出来、半導
体製造システムは小型化される。

第４図はウェハ持様機能を有する従来のウェハベーク装
置１の１例を示す。図中、２はヒータ３が組み込まれた
ヒータブロック、４はカバーであり、ヒータブロック２
の上面を覆っている。６はウェハリフタである。

レジスト塗布装置７でレジストが塗布されたウェハ８は
、二点鎖線で示すように、カバー４の開口４ａを通って
ベーク装置１内に搬送され、ここで加熱されてベーク（
熱処理）される。レジストに含まれる有機溶剤の気化し
たガスは、ダクト５を通して排気される。ベークが終了
すると、通常、ウェハ８は露光装置９へ搬送される。ウ
ェハが滞っている場合には、ウェハリフタ６が動作し、
ウェハ８は実線で示すようにヒータブロック２の上面よ
り離れて支持され、この状態で待機する。

ここで、ヒータ３は搬入されたウェハを迅速に加熱する
ために常時通電状態に保たれている。またカバー４は、
効率加熱のため、高さｌ」が約３０ｍと低く定めである
。

〔発明が解決しようとする問題点〕 このため、ウェハ８のヒータブロック２よりの離間寸法
△は人きくすることは出来ず、カバー５の高さ寸法によ
り制限され例えば約１０ｍ＋＋である。

しかもウェハ８か依然として閉じた空間の高温雰囲気内
に位置している。従って、待機中のウェハ８の温度は室
温とはならず、ウェハ８はベーク終了後も依然として約
１００℃に加熱され続け、レジストに悪影響が生ずるこ
とがあるという問題点があった。

また待機中は、エア１０をヒータブロック２の孔１１を
通して噴出させて、ウェハ８を冷却する方法も試みられ
ているが、これによってもウェハ８を室温レベルにまで
冷却することは困難であった。しかもこの場合には、ゴ
ミの影響ら無視出来なかった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はヒータが組み込まれたヒータブロックと、該ヒ
ータブロックの上面を覆うカバーとよりなり、該ヒータ
ブロック上のウェハをベータするウェハベーク装置にお
いて、 ベーク接顔ウェハを持礪させるときに動作し、該ウェハ
と該ヒータブロックとを離すと共に、上記カバーと該ヒ
ータブロックとを離す離間手段を有してなる。

〔作用〕

この離間手段により、・ウェハはヒータブロックより蔀
れると共に、下側を全周に亘って間口とされる。この間
口Ｊ二り侵入した外部の空気が、べ一り済のウェハを冷
却する。

（実施例） 第１図及び第２図は夫々本発明の一実施例になるウェハ
ベーク装置２０のベーク時及び侍は時の状態を示す。

各図中、２１はヒータブロックであり、内部にヒータ２
２が組み込まれている。

２３はエアシリンダ２４を駆動源とするリフタであり、
ヒータブロック２１を？降させる。

２５はウェハ支持台であり、ヒータブロック２１が下降
したときに、ウェハ２６を支持する。

２７はカバーであり、上面又は側面にダクｌ〜２８を有
する。カバー２７は両端を支社２９の頂部に支持されて
おり、ヒータブロック２１の上面を覆っている。

リフタ２３．ウェハ支持台２５及び支柱２９が離間手段
を構成する。

３０は基台である。

ヒータブロック２１は通常はＴＲしており、ウェハベー
ク装Ｖ！１２０は第１図に示す状態にある。

またヒータ２２は常時通電されている。

第１図中、レジスト塗布装置３１でレジストが塗布され
たウェハ２６は、カバー２７の入口開口２７ａを通して
ウェハベーク装置２０内に搬送され、ヒータブロック２
１上に載置され、この状態で加熱されてベータ（熱処理
）される。レジストより気化したガスはダクト２８を通
して排気される。

所定時間経過してベークが完了すると、ウエハ２６は通
常は出口開口２７ｂを通して、露光装置３２に搬送され
る。

ウェハが滞っている場合には、ベーク完了後に、リフタ
２３が動作し、ヒータブロック２１が下降して、ウェハ
ベーク装置２０は第２図に示す状態となる。即ち、ウェ
ハ２６はウェハ支持台２５により支持され、カバー２７
は支柱２つにより支持されて元の高さ位置に保持され、
ヒータブロック２１だ【プが下降し、ウェハ２６とヒー
タブロック２１とが寸法Ｂｌ！ａされ、且つカバー２７
とヒータブロック２１とが同じく寸法Ｂ離された状態と
なる。

このように、カバー２７もヒータブロック２１より離れ
るため、ヒータブロック２１より離されて支持されたウ
ェハ２６の下方には全周に亘って開口３３が形成され、
外部の空気が矢印３４で示すように開口３３を通ってカ
バー２７内に侵入し、ウェハ２６の周囲の雰囲気は室温
となる。また上記寸法Ｂは、カバー２７の高さ寸法によ
っては何ら制限されず、従来の場合より大なる寸法、例
えば約５０ｍ＋＋とじである。これにより、第１には上
記間口３３が広くなって外部の空気のカバー２７への流
入量が多くなり、第２にはウェハ２６はヒータブロック
２１よりの熱を殆んど受【ノない状態となる。

このため、ウェハ２６は室温レベル（例えば３０℃）に
まで短時間で冷却され、レジストに悪影響が及ばない状
態で持礪される。

またカバー２７はウェハ２６を覆う状態にあるため、冷
却する過程で発生したガスはダクト２８を通して正常に
排気される。

露光装置３２上よりウェハが移送された後、待機中のウ
ェハ２６が露光装置３２に搬送される。

その後、リフタ２３が動作し、ヒータブロック２１が上
界し、ウェハベーク装置２０は第１図に示す状態となる
。

第３図は本発明の別の実施例になるウェハベーク装置４
０を示ず。同図中、第１図及び第２図に示す構成部分と
対応する部分には同一符号を付し、その説明は省略する
。このウェハベーク装置４０には、ウェハ２６を昇降さ
せるリフタ４１と、カバー２７を昇降させるリフタ４２
とが設けである。

リフタ４１及び４２が離間手段を構成する。

べ−り完了後、ウェハ２６を待機させる場合には、リフ
タ４１，４２が同時に動作し、第３図に示すようにウェ
ハ２６が上昇してヒータブロック２１より離されカバー
２７がヒータブロック２１より離される。これにより、
ウェハ２６は、前記実施例の場合と同様に空温にまで冷
却される。

〔発明の効果〕

本発明によれば、ベーク装置の個所で、ベーク済のウェ
ハを室温にまで冷却させ、レジストが悪影響を受けない
状態で待機させることが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は夫々本発明の一実施例になるウェハ
ベーク装置のベーク時及び待機時の状態を示ず図、 第３図は本発明の別の実施例のウェハベーク装置の待機
時の状態を示す図、 第４図は従来のウェハベーク装置の１例の待掘時の状態
を示す図である。 第１図乃至第３図中、 ２０．４０はウェハベーク装置、 ２１はヒータブロック、 ２２はヒータ、 ２３．４１．４２はりフタ、 ２５はウェハ支持台、 ２６はウェハ、 ２７はカバー、 ２８はダクト、 ３３は開口、 ３４は空気の流れを示す矢印である。 ｆｔ埋人　弁理士　井　桁　貞　−１゛１發パ虻の代゛
−７Ｅ４の１尺も、と示１団２０ウェハ′１１″−２装
置

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ヒータ（２２）が組み込まれたヒータブロック（２１）
   と、該ヒータブロック（２１）の上面を覆うカバー（２
   ７）とよりなり、該ヒータブロック（２１）上のウェハ
   （２６）をベークするウェハベーク装置において、 ベーク後該ウェハ（２６）を待機させるときに動作し、
   該ウエハ（２６）と該ヒータブロック（２１）とを離す
   と共に、上記カバー（２７）と該ヒータブロック（２１
   ）とを離す離間手段（２３、４１、４２）を有してなる
   ことを特徴とするウェハベーク装置。