JPS6378316A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空蒸着やスパッタリング等の真空薄膜形成
技術等の手法により非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を
磁性層として形成した、いわゆる強磁性金属Ｔｉｔ膜型
の磁気記録媒体に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を磁性層と
して形成してなる磁気記録媒体において、磁性層である
強磁性金属薄膜上にＮ−アルキルパーフルオロアルカン
アミドを被着し、あらゆる使用条件下においても優れた
走行性。

耐摩耗性、耐久性を発揮する磁気記録媒体を提供しよう
とするものである。

〔従来の技術〕

従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にｒ　
　Ｆｅ２Ｏ２，ｃｏを含有するｒ−ＦｅｘＯｘ＋Ｆｅ２
Ｏ４＋ＣＯを含有するＦ　ｅ　＊Ｏａ＋　Ｔ　−Ｆ　ｅ
　２０３とＦｅ２Ｏ２とのベルトライド化合物、Ｃｏを
含有するベルトライド化合物、ＣｒＯｘ等の酸化物強磁
性粉末あるいはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分とする合金
磁性粉末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の有
機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布・乾燥す
ることにより作製される塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。

これに対して、高密度磁気記録への要求の高まりととも
に、Ｃｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金属材料を、メッキや真
空薄膜形成技術（真空蒸着法やスパッタリング法、イオ
ンブレーティング法等）によってポリエステルフィルム
やポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着し
た、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体が提案さ
れ、注目を集めている。この強磁性金属薄膜型磁気記録
媒体は、抗磁力や角形比等に優れ、短波長での電磁変換
特性に優れるばかりでなく、磁性層の厚みを捲めて薄く
することが可能であるため記録減磁や再生時の厚み損失
が著しく小さいこと、磁性層中に非磁性材である有機バ
インダーを混入する必要がないため磁性材料の充填密度
を高めることができること等、数々の利点を有している
。

しかしながら、上述の強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体
では、磁性層表面の平滑性が極めて良好であるために実
質的な接触面積が大きくなり、凝着現象（いわゆるはり
つき）が起こり易くなったり摩擦係数が大きくなる等、
耐久性や走行性等に欠点が多く、その改善が大きな課題
となっている。

一般に、磁気記録媒体は＆ｉ気（３号の記録・再生の過
程で磁気ヘッドとの高速相対運動のもとにおかれ、その
際走行が円滑に、かつ安定な状態で行われなければなら
ない。また、磁気ヘッドとの接触による摩耗やｔ員傷は
なるべく少ないほうがよい。

そこで例えば、上記磁気記録媒体の磁性層、すなわち強
磁性金属薄膜表面に潤滑剤を塗布して保護膜を形成する
ことにより、上記耐久性や走行性を改善することが試み
られている。

（発明が解決しようとする問題点〕 ところで、上述のように潤滑剤を塗布して保護膜を形成
した場合には、この保護膜が磁性層である強磁性金属薄
膜に対して良好な密着性を示し、かつ高い潤滑効果を発
揮することが要求される。

また、これら密着性や潤滑効果は、熱帯、亜熱帯地方等
のように高温多湿の条件下でも、寒冷地のように低温の
条件下でも優れたものでなければならない。

しかしながら、従来広く用いられている潤滑剤の使用温
度範囲は限られており、特に、０〜−５℃のような低温
下では同体化または凍結するものが多く、充分にその潤
滑効果を発揮させることができなかった。

そこで本発明は、如何なる使用条件下においても密着性
や潤滑性が保たれ、かつ長期に亘り潤滑効果が持続する
潤滑剤を提供し、走行性、耐久性に優れた磁気記録媒体
を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者は、上述の目的を達成せんものと鋭意研究の結
果、Ｎ−アルキルパーフルオロアルカンアミドが広い温
度範囲に亘って良好な潤滑効果を発揮することを見出し
本発明を完成するに至ったものであって、第１図に示す
ように、非磁性支持体（１）上に強磁性金属薄膜（２）
を形成し、上記強磁性金属薄膜（２）にＮ−アルキルパ
ーフルオロアルカンアミドを主成分とする潤滑剤Ｎ（３
）を被着したことを特徴とするものである。

本発明で潤滑剤として使用されるＮ−アルキルパーフル
オロアルカンアミドは、一般式％式％（） （但し、式中Ｒは炭化水素基を表し、飽和、不飽和、直
鎖状または分枝状のいずれであってもよい。

また、ｎは３以上の整数である。） で表される化合物である。

上記Ｎ−アルキルパーフルオロアルカンアミドは、相当
するパーフルオロカルボン酸クロライドをアミンと塩基
（例えばピリジン、トリエチルアミン）を含有する溶液
中に滴下することによって容易゛に合成される。その後
、再結晶あるいは減圧薄溜によって精製する。

反応式を示せば、次のようになる。

Ｃｎｈｎ−＋ＣＯＣｌ　＋　ＲＮＨ２−一　〇、Ｆｚ、
、＋Ｃ０ＮＩＩＲ塩基　　　　・・・（１） ここで、上記一般式（１）において、Ｎ−アルキルパー
フルオロアルカンアミドのパーフルオロ基の炭素数ｎは
３以上の整数であることが望ましく、パーフルオロ基の
炭素数が３未満の場合には所定の潤滑効果を期待するこ
とができない。一方、Ｒは炭化水素基であればよく、飽
和、不飽和、直鎖状または分枝状のいずれであってもよ
いが、その炭素数は６以上であることが好ましい。

上述のようにして合成されるＮ−アルキルパーフルオロ
アルカンアミドは、単独で潤滑剤として用いてもよいが
、従来公知の潤滑剤と混合して用い、さらに使用温度帯
域の拡大を図るようにしてもよい。

使用される潤滑剤としては、脂肪酸またはその金属塩、
脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコールまた
はそのアルコキシド、脂肪族アミン、多価アルコール、
ソルビタンエステル、マンニソタンエステル、硫黄化脂
肪酸、脂肪族メルカプタン、変性シリコーンオイル、パ
ーフルオロアルキルエチレンオキシド、パーフルオロポ
リエーテル類、高級アルキルスルホン酸またはその金属
塩、パーフルオロアルキルスルホン酸またはそのアンモ
ニウム塩あるいはその金属塩、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸またはその金属塩等が例示される。

特に、一般式Ｃ，Ｆｚ−，１ＣＯＯＲ’　　（但し、式
中ｍは６〜１０の整数を表し、Ｒ゛は炭素数１〜２５の
炭化水素基を表す、）で示されるパーフルオロアルキル
カルボン酸エステルや一般式Ｒ”Ｃ００（ＣＨｚ）＝Ｃ
ｈＦｚｂ−＋　（但し、Ｒ”は炭素数１〜２５の炭化水
素基を表し、Ｏ≦ｊ≦５、ｋ≧３である。）も低温特性
が良好であることから上記不飽和脂肪酸アミドと併用す
るのに好適である。

さらには、より厳しい使用条件に対処し、かつ潤滑効果
を持続するために、上記Ｎ−アルキルパーフ゛ルオロア
ルカンアミド中に重量化で３０；７０〜７０１０程度の
配合比で極圧剤を併用してもよい。

上記極圧剤は、境界潤滑領域において部分的に金属接触
を生じたとき、これに伴う摩擦熱によって金属面と反応
し、反応生成物被膜を形成することにより摩擦・摩耗防
止作用を行うものであって、リン酸エステル、亜リン酸
エステル又はリン酸エステルアミン塩等のリン系極圧剤
、硫化油脂、モノサルファイド又はポリサルファイド等
のイオウ系極圧剤、ヨウ素化合物、臭素化合物又は塩素
化合物等のハロゲン系極圧剤、チオリン酸塩、チオカル
バミン酸塩又は金属アルキルジチオカルバミン酸塩等の
有機金属系極圧剤、ジアルキルチオリン酸アミン、チオ
フォスフェート又はチオフォスファイト等の複合型極圧
剤等が知られている。

また、上述の潤滑剤、極圧剤の他必要に応じて防錆剤を
併用してもよい。

使用可能な防錆剤としては、通常この種の磁気記録媒体
の防錆剤として使用されるものであれば如何なるもので
もよく、例えば二価フェノール。

アルキルフェノールあるいはニトロソフェノール等のフ
ェノール類、純ナフトール又はニトロ、ニトロソ、アミ
ノ、ハロゲノ置換ナフトール等のナフトール類、メチル
キノン、ヒドロキシキノン。

アミノキノン、ニトロキノン又はハロゲノキノン等のキ
ノン類、ベンゾフェノン及びその誘導体であるヒドロキ
シヘンシフエノン、アミノベンゾフェノン等のジアリー
ルケトン、アクリジン、４−キノリツール、キヌレン酸
又はリボフラビン等の窒素原子を含む複素環化合物、ト
コフェロール又はグアノシン等の酸素原子を含む複素環
化合物、スルホラン、スルホレン又はビチオン等の硫黄
原子を含む複素環化合物、チオフェノール、ジチゾン又
はチオオキシン等のメルカプト基を有する化合物、エン
タチオ酸又はルベアン酸等のチオカルボン酸またはその
塩、ジアゾスルフィド又はヘンジチアゾリン等のチアゾ
ール系化合物等が挙げられる。上記防錆剤は、潤滑剤と
混合させて用いても良いが、例えば第２図に示すように
、非磁性支持体（１）上に形成された強磁性金属Ｆｉｌ
Ｗ１（２）の表面に先ず上記防錆剤層（４）を塗布し、
しかる後潤滑剤層（３）を塗布するというように、２層
以上に分けて被着すると効果が高い。

これらＮ−アルキルパーフルオロアルカンアミドを含有
する潤滑剤層を強磁性金属薄膜上に付着させる方法とし
ては、上記潤滑剤を溶媒に溶解して得られた溶液を強磁
性金属薄膜の表面に塗布もしくは噴霧するか、あるいは
逆にこの溶液中に強磁性金属薄膜を浸漬し乾燥すればよ
い。

ここで、その塗布量は、０．５ｗ／ｒｒｒ〜１００ｓ／
ｄであるのが好ましく、１■／ｄ〜２０■／イであるの
がより好ましい、この塗布量があまり少なすぎると、摩
擦係数の低下、耐摩耗性・耐久性の向上という効果が顕
れず、一方あまり多すぎると、摺動部材と強磁性金属ｆ
ｊ［膜との間ではりつき現象が起こり、却って走行性が
悪くなる。

本発明が通用される磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
磁性層として強磁性金属′？Ｉｔ膜を設けたものである
が、ここで非磁性支持体の素材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリア
セテート、セルロースダイアセテート、セルロースアセ
テートブチレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等のプラスチッ
ク、アルミニウム合金、チタン合金等の軽金属、アルミ
ナガラス等のセラミックス等が挙げられる。

この非磁性支持体の形態としては、フィルム、シート、
ディスク、カード、ドラム等のいずれでもよい。

上記非磁性支持体には、その表面に山状突起やしわ状突
起３粒状突起等の突起を１種以上を形成し、表面粗さを
コントロールしてもよい。

上記山状突起は、例えば高分子フィルム製膜時に粒径５
００〜３０００λ程度の無１微粒子を内添することによ
り形成され、高分子フィルム表面からの高さは１００〜
１０００人、密度はおよそＩ　Ｘ　Ｉ　Ｏ’〜ｌ０ＸＩ
Ｏ’個／鶴２とする。山状突起−を形成するために使用
される無８ｇ微粒子としては、炭酸カルシウム（ＣａＣ
Ｏｚ）やシリカ、アルミナ等が好適である。

上記しわ状突起は、例えば特定の混合溶媒を用いた樹脂
の希薄溶液を塗布乾燥することにより形成される起伏で
あって、その高さは０．０１〜１０μｍ、好ましくは０
．０３〜０．５μｍ、突起間の最短間隔は０．１〜２０
μｍとする。このしわ状突起を形成するための樹脂とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート等の飽和ポリエステル、ポリアミド、ポリスチ
ロール、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリス
ルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリフェニレ
ンオキサイド、フェノキシ樹脂等の各種樹脂の単体７混
合体または共重合体であり、可溶性溶剤を有するものが
適している。そして、これらの樹脂をその良溶媒に溶解
せしめた樹脂濃度１〜１１０００ｐｐの溶液に、その樹
脂の貧溶媒であって前記良溶媒より高い沸点を有する溶
媒を樹脂に対して１０〜１００倍量添加した溶液を、高
分子フィルムの表面に塗布・乾燥することにより、非常
に微細なしわ状凹凸を有する１１を得ることができる。

粒状突起は、アクリル樹脂等の有機超微粒子またはシリ
カ、金属粉等の無機微粒子を球状あるいは半球状に付着
させることにより形成される。この粒状突起の高さは、
５０〜５００人、密度は１×１０ｈ〜５０Ｘ１０’個／
論−２程度とする。

これら突起の少なくとも一種以上を形成すれば磁性層で
ある強磁性金属薄膜の表面性が制御ｎされるが、２種以
上を組み合わせることにより効果が増し、特に山状突起
を設けたベースフィルム上にしわ状突起とつぶ状突起を
形成すれば、極めて耐久性、走行性が改善される。

この場合、突起の全体としての高さは、１００〜２００
０人の範囲内であることが好ましく、その密度はｌ菖朧
２当り平均でｌＸｌ０’〜ｌＸｌ０’個であることが好
ましい。

また、上記磁性層である強磁性金属薄膜は、真空蒸清法
やイオンブレーティング法、スパッタリング法等の真空
薄膜形成技術により連Ｖｔ膜として形成される。

上記真空蒸着法は、１０−’〜１０−ＩＩＴｏｒｒの真
空下で強磁性金属材料を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビ
ーム加熱等により７発させ、ディスク基板上に蒸発金属
（強磁性金属材料）を沈着するというものであり、一般
に高い抗磁力を得るため基板に対して上記強磁性金属材
料を斜めに蒸着する斜方蒸着法が採用される。あるいは
、より高い抗磁力を得るために酸素雰囲気中で上記渾着
を行うものも含まれる。

上記イオンブレーティング法も真空蒸着法の一種であり
、１０−４〜ｌ　０−３Ｔｏｒｒの不活性ガス雰囲気中
でＤＣグロー放電、ＲＦＦａ−放電を起こして、放電中
で上記強磁性金属材料を蒸発させるというものである。

上記スパッタリング法は、１０−’〜１０−１↑ｏｒｒ
のアルゴンガスを主成分とする雰囲気中でグロー放電を
起こし、生じたアルゴンガスイオンでターゲット表面の
原子をたたき出すというものであり、グロー放電の方法
により直流２橿、３極スパツタ法や、高周波スパッタ法
、またはマグネトロン放電を利用したマグネトロンスパ
ッタ法等がある。

このスパッタリング法による場合には、ＣｒやＷ。

Ｖ等の下地膜を形成しておいてもよい。

なお、上記いずれの方法においても、基板上にあらかじ
めＢｉ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ。

Ｃｄ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｔ１等の下地金属層を被着形成して
おき、基板面に対して垂直方向から成膜することにより
、磁気異方性の配向かなく面内等方法に優れた磁性層を
形成することができ、例えば磁気ディスクとする場合に
は好適である。

このような真空′ｉｌｉ膜形成技術により金属磁性薄膜
を形成する際に、使用される強磁性金属材料としては、
Ｆｓ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属の他に、Ｃ。

−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、
Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆａ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎ１−Ｆｅ−Ｂ合金、
Ｃｏ−Ｃｒ合金あるいはこれらに−Ｃｒ、Ａｆ等の金属
が含有されたもの等が挙げられる。特に、Ｃｏ−Ｃｒ合
金を使用した場合には、垂直磁化膜が形成される。

このような手法により形成される磁性層の膜１￥は、０
．０４〜１μｍ程度である。

また、第３図に示すように、非磁性支持体（１）上の強
磁性金ｒ！Ａ薄膜（２）及び潤滑剤層（３）が設けられ
る面とは反対側に、いわゆるバックコート層（５）を形
成してもよい、バンクコート層は、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル、フェノール樹脂又はポリフッ化ビニル並びにポリ
ウレタン樹脂又はブタジェン系共重合体等の結合剤樹脂
と導電性を付与するためのカーボン系微粉末又は表面粗
度のコントロール及び耐久性向上のために添加される無
機顔料等の粉末成分とをアセトン１メチルエチルケトン
又はベンゼン等の存機溶媒に混合分散させたバンクコー
ト用塗料を非磁性支持体面に塗布することにより形成さ
れる。

前述のバックコート層には潤滑剤を使用してもよい、こ
の場合、上記バンクコート層中に潤滑剤を内添する方法
、あるいはバックコート層上に潤滑剤を被着する方法が
ある。いずれにしても、上記潤滑剤としては、脂肪酸、
脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石鹸、脂肪族アル
コール、パラフィン、シリコーン等従来より周知の潤滑
剤が使用できる。

〔作用〕

Ｎ−アルキルパーフルオロアルカンアミドを強磁性金属
薄膜に被着することにより良好な潤滑作用を発揮して摩
擦係数を低減する。

特に、Ｎ−アルキルパーフルオロアルカンアミドは、低
温下においても良好な潤滑効果を発揮する。

〔実施例〕

以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。

Ｎ′−アルキルパーフルオロアルカンアミドを用いて強
磁性金属薄膜型の磁気記録媒体を作製した。

実施例１ １４μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに斜
め蒸着法によりＣＯをｍ着させ、膜厚１０００人の強磁
性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属薄膜表面に、Ｎ−オレイル−ペン
タデカフルオロオクタンアミド（Ｃ４Ｆ　＋　ｓｃ。

ＮｌＩＣ＋Ｊ３ｓ）をフレオンを容ン夜に）８解したも
のを、塗布量が５■／ｒ＋？となるように塗布し、１／
２インチ幅に裁断してサンプルテープを作製した。

実施例２ １４μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに斜
め蒸着法によりＣＯを被着させ、膜厚１０００人の強磁
性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属薄膜表面に、Ｎ−オレイル、−ノ
ナデカフルオロデカンアミド（Ｃ９Ｆ　１ｅｃＯＮ）ｌ
ｃ＋　ｍ１１３ｓ）をフレオン溶液に溶解したものを、
塗布量が５ｎ＋＋ｒ／ｒ＋（となるように塗布し、１／
２インチ幅に裁断してサンプルテープを作製した。

実施例３ １４μｍＷのポリエチレンテレフタレートフィルムに斜
め蒸着法によりＣＯを被着させ、膜厚１０００人の強磁
性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属３．膜表面に、Ｎ−ステアリル−
ペンタデカフルオロオクタンアミド（Ｃ？ＦＩＳＣＯＮ
ＨＣ＋　ａｌｌｚｔ）をフレオン？容’ｔ＆にン容解し
たものを、塗布量が５ｎｗ／ｒｒ＋となるように塗布し
、１／２インチ幅に裁断してサンプルテープを作製した
。

実施例４ １４μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに斜
め蒸着法によりＣＯを被着させ、膜［１０００人の強磁
性金属ｖｇｊ膜を形成した。

次に、この強磁性金属ｒＪ膜表面に、Ｎ−ＩＪルニルー
ペンタデカフルオロオクタンアミド（Ｃ７Ｆ　１ｓＣＯ
ＮＨＣ＋、Ｈｌｌ）をフレオン溶液に溶解したものを、
塗布量が５■／ｒｄとなるように塗布し、ｌ／２インチ
幅に裁断してサンプルテープを作製した。

実施例５ １４μｍｒｇ、のポリエチレンテレフタレートフィルム
に斜め蒸着法によりＣｏを被着させ、膜厚１０００人の
強磁性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属薄膜表面に、Ｎ−フェニル−ペン
タデカフルオロオクタンアミド（Ｃ，Ｆ、、Ｃ０ＮＩＩ
Ｃ−１ｔｓ）をフレオン溶液に溶解したものを、塗布量
が５■／ｄとなるように塗布し、１／２インチ幅に裁断
してサンプルテープを作製した。

実施例６ １４μｍｆ’ｌのポリエチレンテレフタレートフィルム
に斜め蒸着法によりＣＯを被着させ、膜厚１０００人の
強磁性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属薄膜表面に、Ｎ−イソステアリル
ーペンタデカフルオロオクタンアミド（ＣｔＦ＋５ＣＯ
ＮＩＩ−ｉｓｏｃ＋５ｌｌｚｔ）をフレオン？容液に？
容解したものを、塗布■が５■／ｄとなるように塗布し
、ｌ／２インチ幅に裁断してサンプルテープを作製した
。

実施例７ １４μｍｌ”Ｊのポリエチレンテレフタレートフィルム
に斜め蒸着法によりＧｏを被着させ、膜厚１０００人の
強磁性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属薄膜表面に、Ｎ−シクロヘキシル
−ペンタデカフルオロオクタンアミド（ＣｔＦＩＳＣＯ
Ｎ）ＩＣ６１１１１）をフレオン溶液７ｆｌにン容解し
たものを、塗布量が５■／Ｍとなるように塗布し、１／
２インチ幅に裁断してサンプルテープを作製した。

実施例８ １４μｍｐＪのポリエチレンテレフタレートフィルムに
斜め蒸着法によりＣＯを被着させ、膜１７１０００人の
強磁性金属薄膜を形成した。

次に、この強磁性金属薄膜表面に、Ｎ−ノニル−ペンタ
デカフルオロオクタンアミド（Ｃ１Ｆ　＋　５ｃＯＮＨ
−４ｓｏ℃Ｊ１９）をフレオン？容液に）８解したもの
を、塗布量が５■／Ｍとなるように塗布し、１／２イン
チ幅に裁断してサンプルテープを作製した。

作製された各サンプルテープについて、温度２５℃、相
対湿度（ＲＨ）６０％、および−５℃の各条件下での動
Ｙγ擦係数及びシャトル耐久性を測定した。この動ｙＸ
＋＝係数は、材質がステンレス（ＳＵＳ３０４）のガイ
ドピンを用い、一定のテンションをかけ５　ｍｍ／ｓｅ
ｃの速度で送り、試験したものである。また、シャトル
耐久性は、１回につき２分間のシャトル走行を行い、出
力が一３ｄＢ低下までのツヤトル回数で評価した。スチ
ル耐久性はポーズ状態での出力の一３ｄＢまでの減衰時
間を評価した。なお、比較例として、全（潤滑剤を被着
しないブランクテープについても測定した。

結果を次表に示す。

（以下余白） 上記表から明らかなように、本発明の各実施例の条件下
で動摩擦係数が小さく、走行が掻めて安定しており、ま
た１００回往復走行後もテープ表面の損傷は全く見られ
なかった。また、メチル耐久性も極めて良く、１５０回
シャトル走行を行っても出力の一３ｄＢ低下は見られな
かった。これに対して、潤滑剤層のない比較例のテープ
では、摩擦係数が往復走行回数が多くなるにつれて大と
なり、走行も不安定でテープの摩擦が見られ、耐久性も
悪いものであった。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明においては、
強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体の潤滑剤としてＮ−ア
ルキルパーフルオロアルカンアミドを用いているので、
如何なる温度条件下においても動摩擦係数を小さくする
ことができ、走行安定性や耐ｌ！ｊ耗性に便れた磁気記
録媒体とすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気記録媒体の一構成例を示
す要部拡大断面図、第２図は本発明を通用した磁気記録
媒体の他の構成例を示す要部拡大断面図、第３図は本発
明を適用した（イ（気記録媒体のさらに他の構成例を示
す要部拡大断面図である。 １・・・非磁性支持体 ２・・・強磁性金属薄膜 ３・・・潤滑剤層 ４・・・防錆剤層 ５・・・バックコート層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成し、上記強磁性
   金属薄膜上にＮ−アルキルパーフルオロアルカンアミド
   を被着したことを特徴とする磁気記録媒体。