JPS6339125A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空蒸着やスパッタリング等の真空薄膜形成
技術等の手法により非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を
磁性層として形成した、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁
気記録媒体に関するものである。
技術等の手法により非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を
磁性層として形成した、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁
気記録媒体に関するものである。
本発明は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を磁性層と
して形成してなる磁気記録媒体において、磁性層である
強磁性金属薄膜に不飽和基を含む脂肪酸アミドを被着し
、 あらゆる使用条件下においても優れた走行性。
して形成してなる磁気記録媒体において、磁性層である
強磁性金属薄膜に不飽和基を含む脂肪酸アミドを被着し
、 あらゆる使用条件下においても優れた走行性。
耐摩耗性、耐久性を発揮する磁気記録媒体を提供しよう
とするものである。
とするものである。
従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にT
Fezes、Coを含有するr−FezOz。
Fezes、Coを含有するr−FezOz。
FezO1,Coを含有するFe、○a17 F e
zosとFezO4とのベルトライド化合物、COを
含有するヘルドライド化合物、Cr0z等の酸化物強磁
性粉末あるいはFe、Co、Ni等を主成分とする合金
磁性粉末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の有
機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布・乾燥す
ることにより作製される塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。
zosとFezO4とのベルトライド化合物、COを
含有するヘルドライド化合物、Cr0z等の酸化物強磁
性粉末あるいはFe、Co、Ni等を主成分とする合金
磁性粉末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の有
機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布・乾燥す
ることにより作製される塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。
これに対して、高密度磁気記録への要求の窩まりととも
に、Co N i合金等の強も仔性金属(オオ′4を
、メツキや真空薄膜形成技術(真空茎着法やスパッタリ
ング法、イオンブレーティング法等)によってポリエス
テルフィルムやポリイミドフィルム等の非磁性支持体上
に直接被着した、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録
媒体が捉案され、注目を集めている。この強磁性金属薄
膜型磁気記録媒体は、坑磁力や角形比等に優れ、短波長
での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層の厚み
を極めて薄くすることが可能であるため記録減磁や再生
時の厚み損失が著しく小さいこと、磁性層中に非磁性材
である有機バインダーを混入する必要がないため磁性材
料の充填密度を高めることができること等、数々の利点
を有している。
に、Co N i合金等の強も仔性金属(オオ′4を
、メツキや真空薄膜形成技術(真空茎着法やスパッタリ
ング法、イオンブレーティング法等)によってポリエス
テルフィルムやポリイミドフィルム等の非磁性支持体上
に直接被着した、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録
媒体が捉案され、注目を集めている。この強磁性金属薄
膜型磁気記録媒体は、坑磁力や角形比等に優れ、短波長
での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層の厚み
を極めて薄くすることが可能であるため記録減磁や再生
時の厚み損失が著しく小さいこと、磁性層中に非磁性材
である有機バインダーを混入する必要がないため磁性材
料の充填密度を高めることができること等、数々の利点
を有している。
しかしながら、上述の強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体
では、磁性層表面の平滑性が極めて良好であるために実
質的な接触面積が大きくなり、凝着現象(いわゆるはり
つき)が起こり易くなったり摩擦係数が大きくなる等、
耐久性や走行性等に欠点が多く、その改善が大きな課題
となっている。
では、磁性層表面の平滑性が極めて良好であるために実
質的な接触面積が大きくなり、凝着現象(いわゆるはり
つき)が起こり易くなったり摩擦係数が大きくなる等、
耐久性や走行性等に欠点が多く、その改善が大きな課題
となっている。
一般に、磁気記録媒体は磁気信号の記録・再生の過程で
磁気ヘッドとの高速相対運動のもとにおかれ、その際走
行が円滑に、かつ安定な状態で行われなければならない
。また、磁気ヘッドとの接触による摩耗や損傷はなるべ
く少ないほうがよい。
磁気ヘッドとの高速相対運動のもとにおかれ、その際走
行が円滑に、かつ安定な状態で行われなければならない
。また、磁気ヘッドとの接触による摩耗や損傷はなるべ
く少ないほうがよい。
そこで例えば、上記磁気記録媒体の磁性層、すなわち強
磁性金属′iii膜表面に潤滑剤を塗布して保護膜を形
成することにより、上記耐久性や走行性を改善すること
が試みられている。
磁性金属′iii膜表面に潤滑剤を塗布して保護膜を形
成することにより、上記耐久性や走行性を改善すること
が試みられている。
ところで、上述のように潤滑剤を塗布して保護膜を形成
した場合には、この保護膜が磁性層である強磁性金属薄
膜に対して良好な密着性を示し、かつ高い潤滑効果を発
揮することが要求される。
した場合には、この保護膜が磁性層である強磁性金属薄
膜に対して良好な密着性を示し、かつ高い潤滑効果を発
揮することが要求される。
また、これら密着性や・潤滑効果は、熱帯、亜熱帯地方
等のように高温多湿の条件下でも、寒冷地のように低温
の条件下でも優れたものでなければならない。
等のように高温多湿の条件下でも、寒冷地のように低温
の条件下でも優れたものでなければならない。
しかしながら、従来広く用いられている潤滑剤の使用温
度範囲は限られており、特に、0〜−5℃のような低温
下では固体化または凍結するものが多く、充分にその潤
滑効果を発揮させることができなかった。
度範囲は限られており、特に、0〜−5℃のような低温
下では固体化または凍結するものが多く、充分にその潤
滑効果を発揮させることができなかった。
そこで本発明は、如何なる使用条件下においても密着性
や潤滑性が保たれ、かつ長期に亘り・潤滑効果が持続す
る潤滑剤を提供し、走行性、耐久性に優れた磁気記録媒
体を提供することを目的とする。
や潤滑性が保たれ、かつ長期に亘り・潤滑効果が持続す
る潤滑剤を提供し、走行性、耐久性に優れた磁気記録媒
体を提供することを目的とする。
本発明者は、上述の目的を達成せんものと鋭意研究の結
果、不飽和結合を有する脂肪酸アミドが広い温度範囲に
亘って良好な潤滑効果を発揮することを見出し本発明を
完成するに至ったものであうで、非磁性支持体上に強磁
性金属薄膜を形成し、上記強磁性金属薄膜に不飽和脂肪
酸アミドを被着したことを特徴とするものである。
果、不飽和結合を有する脂肪酸アミドが広い温度範囲に
亘って良好な潤滑効果を発揮することを見出し本発明を
完成するに至ったものであうで、非磁性支持体上に強磁
性金属薄膜を形成し、上記強磁性金属薄膜に不飽和脂肪
酸アミドを被着したことを特徴とするものである。
本発明で潤滑剤として使用される不飽和脂肪酸アミドは
、一般式 %式%(1) (但し、式中Rは炭素数10以上で不飽和結合を有する
脂肪族炭化水素基である。) で表される化合物である。
、一般式 %式%(1) (但し、式中Rは炭素数10以上で不飽和結合を有する
脂肪族炭化水素基である。) で表される化合物である。
上記不飽和脂肪酸アミドは、相当するカルボン酸をオキ
サリルクロライドあるいはチオニルクロライドで酸クロ
リドとした後、アンモニア水と反応させることによって
容易に得ることができる。
サリルクロライドあるいはチオニルクロライドで酸クロ
リドとした後、アンモニア水と反応させることによって
容易に得ることができる。
例えば、リルン酸アミドを合成するには、リルン酸をオ
キサリルクロライドによってリルン酸クロリド(b、p
、 153℃10.1mmHg)とした後、アンモニア
水中に滴下することによって合成することができる。
キサリルクロライドによってリルン酸クロリド(b、p
、 153℃10.1mmHg)とした後、アンモニア
水中に滴下することによって合成することができる。
ここで、上記一般式(1)において、不飽和脂肪酸アミ
ドのアルキル基の炭素数nは10以上の整数であること
が望ましく、アルキル基の炭素数が10以下の場合には
所定の潤滑効果を期待することができない。
ドのアルキル基の炭素数nは10以上の整数であること
が望ましく、アルキル基の炭素数が10以下の場合には
所定の潤滑効果を期待することができない。
上述の条件に合致し使用できる不飽和脂肪酸アミドとし
ては、 ■リルン酸アミド C113C)11CH,CHC)12C11,CHC)
12C)l=clI (CHl> 1CONH1■リノ
ール酸アミド CHl3 (CL)=CIb(JICLCII=CH(
CI(t) tcONHz■オレイン酸アミド C1h(CHz)tcII=cH(C1lz)+C0N
Hz (cis)■ウンデシレン酸アミド Cf1z=CH(CHz)acONHz■ニレオスチア
リン酸アミド CH3(CH2) tcH=clIcH=cHcToc
H(CHり tcONHz■エライジン酸アミド(オレ
イン酸アミドの異性体) CH:+(Cllz)tcH=c)I(CHl)tcO
NH2(trans)■アラキドン酸アミド C113(CL) 4((JI=CHCHz) 4(C
Hz) tcON)It■セトレイン酸アミド CH3(C)It) qcH=cH(C)lx) qc
ONtlz■エルカ酸アミド Cfh(CIft)tcH=cH(CHz)++C0N
)It (cis)0ブラシジン酸アミド(エルカ酸
アミドの異性体)C)13(CHz)tcH=cH(C
Hz)++CONH2(trans)等が挙げられる。
ては、 ■リルン酸アミド C113C)11CH,CHC)12C11,CHC)
12C)l=clI (CHl> 1CONH1■リノ
ール酸アミド CHl3 (CL)=CIb(JICLCII=CH(
CI(t) tcONHz■オレイン酸アミド C1h(CHz)tcII=cH(C1lz)+C0N
Hz (cis)■ウンデシレン酸アミド Cf1z=CH(CHz)acONHz■ニレオスチア
リン酸アミド CH3(CH2) tcH=clIcH=cHcToc
H(CHり tcONHz■エライジン酸アミド(オレ
イン酸アミドの異性体) CH:+(Cllz)tcH=c)I(CHl)tcO
NH2(trans)■アラキドン酸アミド C113(CL) 4((JI=CHCHz) 4(C
Hz) tcON)It■セトレイン酸アミド CH3(C)It) qcH=cH(C)lx) qc
ONtlz■エルカ酸アミド Cfh(CIft)tcH=cH(CHz)++C0N
)It (cis)0ブラシジン酸アミド(エルカ酸
アミドの異性体)C)13(CHz)tcH=cH(C
Hz)++CONH2(trans)等が挙げられる。
上述のようにして合成される不飽和脂肪酸アミドは、単
独で潤滑剤として用いてもよいが、従来公知の潤滑剤と
混合して用い、さらに使用温度帯域の拡大を図るように
してもよい。
独で潤滑剤として用いてもよいが、従来公知の潤滑剤と
混合して用い、さらに使用温度帯域の拡大を図るように
してもよい。
使用される潤滑剤としては、脂肪酸またはその金属塩、
脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコールまた
はそのアルコキシド、脂肪族アミン、多価アルコール、
ソルビタンエステル、マンニフタンエステル、硫黄化脂
肪酸、脂肪族メルカプタン、変性シリコーンオイル、パ
ーフルオロアルキルエチレンオキシド、パーフルオロポ
リエーテル類、高級アルキルスルホン酸またはその金属
塩、パーフルオロアルキルスルホン酸またはそのアンモ
ニウム塩あるいはその金属塩、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸またはその金属塩等が例示される。
脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコールまた
はそのアルコキシド、脂肪族アミン、多価アルコール、
ソルビタンエステル、マンニフタンエステル、硫黄化脂
肪酸、脂肪族メルカプタン、変性シリコーンオイル、パ
ーフルオロアルキルエチレンオキシド、パーフルオロポ
リエーテル類、高級アルキルスルホン酸またはその金属
塩、パーフルオロアルキルスルホン酸またはそのアンモ
ニウム塩あるいはその金属塩、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸またはその金属塩等が例示される。
特に、一般弐C−F!−ICOOR’ (但し、式中
mは6〜10の整数を表し、R′は炭素数1〜25の炭
化水素基を表す。)で示されるパーフルオロアルキルカ
ルボン酸エステルや一般式R’CO○(CHz)=Ch
Fgヶ9.(但し、R”は炭素数1〜25の炭化水素基
を表し、0≦j≦5、k≧3である。)も低温特性が良
好であることから上記不飽和脂肪酸アミドと併用するの
に好適である。
mは6〜10の整数を表し、R′は炭素数1〜25の炭
化水素基を表す。)で示されるパーフルオロアルキルカ
ルボン酸エステルや一般式R’CO○(CHz)=Ch
Fgヶ9.(但し、R”は炭素数1〜25の炭化水素基
を表し、0≦j≦5、k≧3である。)も低温特性が良
好であることから上記不飽和脂肪酸アミドと併用するの
に好適である。
さらには、より厳しい使用条件に対処し、かつ潤滑効果
を持続するために、上記カルボン酸パーフルオロアルキ
ルエステル中にfi[lI比で30ニア0〜70:30
程度の配合比で極圧剤を併用してもよい。
を持続するために、上記カルボン酸パーフルオロアルキ
ルエステル中にfi[lI比で30ニア0〜70:30
程度の配合比で極圧剤を併用してもよい。
上記極圧剤は、境界潤滑領域において部分的に金属接触
を生じたとき、これに伴う摩擦熱によって金属面と反応
し、反応生成物被膜を形成することにより摩擦・摩耗防
止作用を行うものであって、リン酸エステル、亜リン酸
エステル又はリン酸エステルアミン塩等のリン系極圧剤
、硫化油脂、モノサルファイド又はポリサルファイド等
のイオウ系極圧剤、ヨウ素化合物、臭素化合物又は塩素
化合物等のハロゲン系極圧剤、チオリン酸塩、チオカル
バミン酸塩又は金属アルキルジチオカルバミン酸塩等の
有機金属系極圧剤、ジアルキルチオリン酸アミン、チオ
フォスフェート又はチオフォスファイト等の複合型極圧
剤等が知られている。
を生じたとき、これに伴う摩擦熱によって金属面と反応
し、反応生成物被膜を形成することにより摩擦・摩耗防
止作用を行うものであって、リン酸エステル、亜リン酸
エステル又はリン酸エステルアミン塩等のリン系極圧剤
、硫化油脂、モノサルファイド又はポリサルファイド等
のイオウ系極圧剤、ヨウ素化合物、臭素化合物又は塩素
化合物等のハロゲン系極圧剤、チオリン酸塩、チオカル
バミン酸塩又は金属アルキルジチオカルバミン酸塩等の
有機金属系極圧剤、ジアルキルチオリン酸アミン、チオ
フォスフェート又はチオフォスファイト等の複合型極圧
剤等が知られている。
また、上述の潤滑剤、極圧剤の他必要に応じて防錆剤を
併用してもよい。
併用してもよい。
使用可能な防錆剤としては、通常この種の磁気記録媒体
の防錆剤として使用されるものであれば如何なるもので
もよく、例えば二価フェノール。
の防錆剤として使用されるものであれば如何なるもので
もよく、例えば二価フェノール。
アルキルフェノールあるいはニトロソフェノール等のフ
ェノール類、純ナフトール又はニトロ、ニトロソ、アミ
ノ、ハロゲノ置換ナフトール等のナフトール類、メチル
キノン、ヒドロキシキノン。
ェノール類、純ナフトール又はニトロ、ニトロソ、アミ
ノ、ハロゲノ置換ナフトール等のナフトール類、メチル
キノン、ヒドロキシキノン。
アミノキノン、ニトロキノン又はハロゲキノキン等のキ
ノン類、ヘンシフエノン及びその誘導体であるヒドロキ
シベンゾフェノン、アミノベンゾフェノン等のジアリー
ルケトン、アクリジン、4−キノリツール、キヌレン酸
又はリボフラビン等の窒素原子を含む複素環化合物、ト
コフェロール又はグアノンン等の酸素原子を含む複素環
化合物、スルホラン、スルホレン又はビチオン等の硫黄
原子を含む複素環化合物、チオフェノール、ジチゾン又
はチオオキシン等のメルカプト基を有する化合物、エン
タチオ酸又はルベアン酸等のチオカルボン酸またはその
塩、ジアゾスルフィド又はヘンジチアプリン等のチアゾ
ール系化合物等が挙げられる。上記防錆剤は、潤滑剤と
混合させて用いても良いが、例えば強磁性金属薄膜の表
面に先ず上記防錆剤を塗布し、しかる後潤滑剤を塗布す
るというように、2層以上に分けて被着すると効果が高
い。
ノン類、ヘンシフエノン及びその誘導体であるヒドロキ
シベンゾフェノン、アミノベンゾフェノン等のジアリー
ルケトン、アクリジン、4−キノリツール、キヌレン酸
又はリボフラビン等の窒素原子を含む複素環化合物、ト
コフェロール又はグアノンン等の酸素原子を含む複素環
化合物、スルホラン、スルホレン又はビチオン等の硫黄
原子を含む複素環化合物、チオフェノール、ジチゾン又
はチオオキシン等のメルカプト基を有する化合物、エン
タチオ酸又はルベアン酸等のチオカルボン酸またはその
塩、ジアゾスルフィド又はヘンジチアプリン等のチアゾ
ール系化合物等が挙げられる。上記防錆剤は、潤滑剤と
混合させて用いても良いが、例えば強磁性金属薄膜の表
面に先ず上記防錆剤を塗布し、しかる後潤滑剤を塗布す
るというように、2層以上に分けて被着すると効果が高
い。
これら不飽和脂肪酸アミドを含有する潤滑剤層を強磁性
金属薄膜上に付着させる方法としては、上記潤滑剤を溶
媒に溶解して得られた溶液を強磁性金属薄膜の表面に塗
布もしくは噴霧するか、あるいは逆にこの溶液中に強磁
性金属薄膜を浸漬し乾燥すればよい。
金属薄膜上に付着させる方法としては、上記潤滑剤を溶
媒に溶解して得られた溶液を強磁性金属薄膜の表面に塗
布もしくは噴霧するか、あるいは逆にこの溶液中に強磁
性金属薄膜を浸漬し乾燥すればよい。
ここで、その塗布量は、0.5mg/n(〜10Qmg
/イであるのが好ましく、1■/イ〜20■/m′であ
るのがより好ましい。この塗布量が、あまり少なすぎる
と、摩擦係数の低下、耐摩耗性・耐久性の向上という効
果が顕れず、一方あまり多すぎると、摺動部材と強磁性
金属薄膜との間ではりつき現象が起こり、却って走行性
が悪くなる。
/イであるのが好ましく、1■/イ〜20■/m′であ
るのがより好ましい。この塗布量が、あまり少なすぎる
と、摩擦係数の低下、耐摩耗性・耐久性の向上という効
果が顕れず、一方あまり多すぎると、摺動部材と強磁性
金属薄膜との間ではりつき現象が起こり、却って走行性
が悪くなる。
本発明が適用される磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
磁性層として強磁性金属薄膜を設けたものであるが、こ
こで非磁性支持体の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースダイアセテート、セルロースアセテート
ブチレート等のセルロース11体、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーポ皐−ト
、ポリイミド、ポリアミドイミド等のプラスチック、ア
ルミニウム合金、チタン合金等の軽金属、アルミナガラ
ス等のセラミックス等が挙げられる。
磁性層として強磁性金属薄膜を設けたものであるが、こ
こで非磁性支持体の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースダイアセテート、セルロースアセテート
ブチレート等のセルロース11体、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーポ皐−ト
、ポリイミド、ポリアミドイミド等のプラスチック、ア
ルミニウム合金、チタン合金等の軽金属、アルミナガラ
ス等のセラミックス等が挙げられる。
この非磁性支持体の形態としては、フィルム、シート、
ディスク、カード、ドラム等のいずれでもよい。
ディスク、カード、ドラム等のいずれでもよい。
上記非磁性支持体には、その表面に山状突起やしわ状突
起1粒状突起等の突起を1種以上を形成し、表面粗さを
コントロールしてもよい。
起1粒状突起等の突起を1種以上を形成し、表面粗さを
コントロールしてもよい。
上記山状突起は、例えば高分子フィルム製膜時に粒径5
00〜3000人程度の無機微粒子を内添することによ
り形成され、高分子フィルム表面からの高さは100〜
1000人、密度はおよそIXIQ’〜10XIO’個
/ mm ”とする。山状突起を形成するために使用さ
れる無機微粒子としては、炭酸カルシウム(CaCOz
)やシリカ。アルミナ等が好適である。
00〜3000人程度の無機微粒子を内添することによ
り形成され、高分子フィルム表面からの高さは100〜
1000人、密度はおよそIXIQ’〜10XIO’個
/ mm ”とする。山状突起を形成するために使用さ
れる無機微粒子としては、炭酸カルシウム(CaCOz
)やシリカ。アルミナ等が好適である。
上記しわ状突起は、例えば特定の混合ン容媒を用いた樹
脂の希薄溶液を塗布乾燥することにより形成される起伏
であって、その高さは0.01〜10μm、好ましくは
0.03〜0.5μm、突起間の最短間隔は0.1〜2
0μmとする。このしわ状突起を形成するための樹脂と
しては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等の会包和ポリエステル、ポリアミド、ポリ
スチロール、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリフェ
ニレンオキサイド、フェノキシ樹脂等の各種樹脂の単体
、混合体または共重合体であり、可ン容性ン容剤を有す
るものが適している。そして、これらの樹脂をその良溶
媒に溶解せしめた樹脂?屈度1〜10001000pp
溶液に、その樹脂の貧溶媒であって前記良溶媒より高い
沸点を有する溶媒を樹脂に対して10〜100倍量添加
した溶液を、高分子フィルムの表面に塗布・乾燥するこ
とにより、非常に微細なしわ状凹凸を有する薄層を得る
ことができる。
脂の希薄溶液を塗布乾燥することにより形成される起伏
であって、その高さは0.01〜10μm、好ましくは
0.03〜0.5μm、突起間の最短間隔は0.1〜2
0μmとする。このしわ状突起を形成するための樹脂と
しては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等の会包和ポリエステル、ポリアミド、ポリ
スチロール、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリフェ
ニレンオキサイド、フェノキシ樹脂等の各種樹脂の単体
、混合体または共重合体であり、可ン容性ン容剤を有す
るものが適している。そして、これらの樹脂をその良溶
媒に溶解せしめた樹脂?屈度1〜10001000pp
溶液に、その樹脂の貧溶媒であって前記良溶媒より高い
沸点を有する溶媒を樹脂に対して10〜100倍量添加
した溶液を、高分子フィルムの表面に塗布・乾燥するこ
とにより、非常に微細なしわ状凹凸を有する薄層を得る
ことができる。
粒状突起は、アクリル樹脂等の有機超微粒子またはシリ
カ。金属粉等の無機微粒子を球状あるいは半球状に付着
させることにより形成される。この粒状突起の高さは、
50〜500人、密度は1×106〜50X10’個/
璽■2程度とする。
カ。金属粉等の無機微粒子を球状あるいは半球状に付着
させることにより形成される。この粒状突起の高さは、
50〜500人、密度は1×106〜50X10’個/
璽■2程度とする。
これら突起の少なくとも一種以上を形成すれば磁性層で
ある強磁性金属Fi4膜の表面性が制御されるが、2種
以上を組み合わせることにより効果が増し、特に山状突
起を設けたベースフィルム上にしわ状突起とつぶ状突起
を形成すれば、極めて附久性、走行性が改善される。
ある強磁性金属Fi4膜の表面性が制御されるが、2種
以上を組み合わせることにより効果が増し、特に山状突
起を設けたベースフィルム上にしわ状突起とつぶ状突起
を形成すれば、極めて附久性、走行性が改善される。
この場合、突起の全体としての高さは、100〜200
0人の範囲内であることが好ましく、その密度L;!1
mm”当す平均で1XIo’ 〜lXl0’個であるこ
とが好ましい。
0人の範囲内であることが好ましく、その密度L;!1
mm”当す平均で1XIo’ 〜lXl0’個であるこ
とが好ましい。
また、上記磁性層である強磁性金属薄膜は、真空蒸着法
やイオンブレーティング法、スパッタリング法等の真空
薄膜形成技術ネiにより連続膜として形成される6 上記真空蒸着法は、10−4〜10−’Torrの真空
下で強磁性金属材料を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビー
ム加熱等により蒸発させ、ディスク基板上に蒸発金属(
強磁性金属材料)を沈着するというものであり、一般に
高い抗磁力を得るため基板に対して上記強磁性金属材料
を斜めに蒸着する斜方蒸着法が採用される。あるいは、
より高い抗磁力を得るために酸素雰囲気中で上記ア着を
行うものも含まれる。
やイオンブレーティング法、スパッタリング法等の真空
薄膜形成技術ネiにより連続膜として形成される6 上記真空蒸着法は、10−4〜10−’Torrの真空
下で強磁性金属材料を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビー
ム加熱等により蒸発させ、ディスク基板上に蒸発金属(
強磁性金属材料)を沈着するというものであり、一般に
高い抗磁力を得るため基板に対して上記強磁性金属材料
を斜めに蒸着する斜方蒸着法が採用される。あるいは、
より高い抗磁力を得るために酸素雰囲気中で上記ア着を
行うものも含まれる。
上記イオンブレーティング法も真空蒸着法の一種であり
、10−4〜1 (I”Torrの不活性ガス雰囲気中
でDCグロー放電、RFグロー放電を起こして、放電中
で上記強Eft性金属材料を茶発させるというものであ
る。
、10−4〜1 (I”Torrの不活性ガス雰囲気中
でDCグロー放電、RFグロー放電を起こして、放電中
で上記強Eft性金属材料を茶発させるというものであ
る。
上記スパッタリング法は、I O−3〜l O−’To
rrのアルゴンガスを主成分とする雰囲気中でグロー放
電を起こし、生したアルゴンガスイオンでターゲット表
面の原子をたたき出すというものであり、グロー放電の
方法により直流2$7m、3極スパック法や、高周波ス
パッタ法、またはマグネトロン放電を利用したマグネト
ロンスパッタ法等がある。
rrのアルゴンガスを主成分とする雰囲気中でグロー放
電を起こし、生したアルゴンガスイオンでターゲット表
面の原子をたたき出すというものであり、グロー放電の
方法により直流2$7m、3極スパック法や、高周波ス
パッタ法、またはマグネトロン放電を利用したマグネト
ロンスパッタ法等がある。
このスパックリング法による場合には、CrやW。
■等の下地膜を形成しておいてもよい。
なお、上記いずれの方法においても、基板上にあらかじ
めBi、Sb、Pb、Sn、Ga、In。
めBi、Sb、Pb、Sn、Ga、In。
Cd、Ge、Si、Tf等の下地金属層を被着形成して
おき、基板面に対して垂直方向から成膜することにより
、磁気異方性の配向かなく面内等方法に優れた磁性層を
形成することができ、例えば磁気ディスクとする場合に
は好適である。
おき、基板面に対して垂直方向から成膜することにより
、磁気異方性の配向かなく面内等方法に優れた磁性層を
形成することができ、例えば磁気ディスクとする場合に
は好適である。
このような真空薄膜形成技術により金属磁性薄膜を形成
する際に、使用される強磁性金属材料としては、Fe、
Co、Ni等の金属の他に、C01’J+合金、Co−
Pt合金、Co−Ni−Pt合金、Fe−Co合金、F
e−N+金合金Fe−CoNi合金、Fe−Co−B合
金、Co−N1−Fe−B合金、C0−Cr合金あるい
はこれらにCr、 AI等の金属が含有されたもの等が
挙げられる。特に、Co−Cr合金を使用した場合には
、垂直磁化膜が形成される。
する際に、使用される強磁性金属材料としては、Fe、
Co、Ni等の金属の他に、C01’J+合金、Co−
Pt合金、Co−Ni−Pt合金、Fe−Co合金、F
e−N+金合金Fe−CoNi合金、Fe−Co−B合
金、Co−N1−Fe−B合金、C0−Cr合金あるい
はこれらにCr、 AI等の金属が含有されたもの等が
挙げられる。特に、Co−Cr合金を使用した場合には
、垂直磁化膜が形成される。
このような手法により形成される磁性層の膜厚は、0.
04〜1μm程度である。
04〜1μm程度である。
また、非磁性支持体の磁性層が設けられる面とは反対側
に、いわゆるバンクコート層を形成してもよい。バンク
コート層は、塩化ビニル−酢酸ビニル、フェノール樹脂
又はボリフフ化ビニル並びにポリウレタン樹脂又はブタ
ジェン系共重合体等の結合剤樹脂と導電性を付与するた
めのカーボン系微粉末又は表面粗度のコントロール及び
耐久性向上のために添加される無機顔料等の粉末成分と
をアセトン、メチルエチルケトン又はベンゼン等の有[
溶媒に混合分散させたバックコート用塗料を非磁性支持
体面に塗布することにより形成される。
に、いわゆるバンクコート層を形成してもよい。バンク
コート層は、塩化ビニル−酢酸ビニル、フェノール樹脂
又はボリフフ化ビニル並びにポリウレタン樹脂又はブタ
ジェン系共重合体等の結合剤樹脂と導電性を付与するた
めのカーボン系微粉末又は表面粗度のコントロール及び
耐久性向上のために添加される無機顔料等の粉末成分と
をアセトン、メチルエチルケトン又はベンゼン等の有[
溶媒に混合分散させたバックコート用塗料を非磁性支持
体面に塗布することにより形成される。
前述のバックコート層には潤滑剤を使用してもよい。こ
の場合、上記バックコート層中に潤滑剤を内添する方法
、あるいはバックコート層上に潤滑剤を被着する方法が
ある。いずれにしても、上記潤滑剤としては、脂肪酸、
脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石鹸、脂肪族アル
コール、パラフィン、シリコーン等従来より周知の潤滑
剤が使用できる。
の場合、上記バックコート層中に潤滑剤を内添する方法
、あるいはバックコート層上に潤滑剤を被着する方法が
ある。いずれにしても、上記潤滑剤としては、脂肪酸、
脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石鹸、脂肪族アル
コール、パラフィン、シリコーン等従来より周知の潤滑
剤が使用できる。
不飽和脂肪酸アミドを強磁性金属薄膜に被着することに
より良好な潤滑作用を発揮してFj擦係数を低減する。
より良好な潤滑作用を発揮してFj擦係数を低減する。
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
先ず、以下の合成例に従って不飽和脂肪酸アミドを合成
した。
した。
合成例
リルン酸、リノール酸、オレイン酸をオキサリルクロラ
イドによって、それぞれリノール酸クロリド、リノール
酸クロリド、オレイン酸クロリドとしだ後28%アンモ
ニア水中に滴下してリルン酸アミド、リノール酸アミド
、オレイン酸アミドを合成した。
イドによって、それぞれリノール酸クロリド、リノール
酸クロリド、オレイン酸クロリドとしだ後28%アンモ
ニア水中に滴下してリルン酸アミド、リノール酸アミド
、オレイン酸アミドを合成した。
次いで、これら不飽和脂肪酸アミドを用いて強磁性金属
薄膜型の磁気記録媒体を作製した。
薄膜型の磁気記録媒体を作製した。
実施例1゜
14μmJIのポリエチレンテレフタレートフィルムに
斜め蒸着法によりCoを被着させ、膜厚1000人の強
磁性金属薄膜を形成した。
斜め蒸着法によりCoを被着させ、膜厚1000人の強
磁性金属薄膜を形成した。
次に、この強磁性金属薄膜表面に、リルン酸アミド(C
HsCHzC)1=CHCHzCIl=CIIC)lz
cH=c)I (Cl12) 7cONtl□〕をフレ
オン溶液に溶解し、塗布量が5 ng / n(となる
ように塗布し、1/2インチ幅に裁断してサンプルテー
プを作製した。
HsCHzC)1=CHCHzCIl=CIIC)lz
cH=c)I (Cl12) 7cONtl□〕をフレ
オン溶液に溶解し、塗布量が5 ng / n(となる
ように塗布し、1/2インチ幅に裁断してサンプルテー
プを作製した。
実施例2
14μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに斜
め蒸着法によりCOを被着させ、膜[1000人の強磁
性金属薄膜を形成した。
め蒸着法によりCOを被着させ、膜[1000人の強磁
性金属薄膜を形成した。
次に、この強磁性金属薄膜表面に、リノール酸アミド(
Cth(CHz)=CIbCtlC1hCH=CIl(
CHz) ?C0N11□〕をフレオン溶液に溶解し、
塗布量が5■/%となるように塗布し、1/2インチ幅
に裁断してサンプルテープを作製した。
Cth(CHz)=CIbCtlC1hCH=CIl(
CHz) ?C0N11□〕をフレオン溶液に溶解し、
塗布量が5■/%となるように塗布し、1/2インチ幅
に裁断してサンプルテープを作製した。
実施例3
14μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに斜
め蒸着法によりCOを被着させ、膜厚1000人の強磁
性金属薄膜を形成した。
め蒸着法によりCOを被着させ、膜厚1000人の強磁
性金属薄膜を形成した。
次に、この強磁性金属薄膜表面に、オレイン酸アミド(
CH2(CH2)?CH,CH(C)lり?C0NH1
)をフレオン?容ン夜に?溶解し、塗布量が5■/dと
なるように塗布し、1/2インチ幅に裁断してサンプル
テープを作製した。
CH2(CH2)?CH,CH(C)lり?C0NH1
)をフレオン?容ン夜に?溶解し、塗布量が5■/dと
なるように塗布し、1/2インチ幅に裁断してサンプル
テープを作製した。
作製された各サンプルテープについて、温度25°C1
相対湿度(RH)60%、および−5℃の各条件下での
動摩擦係数及びシャトル耐久性を測定した。この動摩擦
係数は、材質がステンレス(SUS304)のガイドビ
ンを用い、一定のテンションをかけ5 mm/secの
速度で送り、試験したものである。また、シャトル耐久
性は、1回につき2分間のシャトル走行を行い、出力が
一3dB低下までのシャトル回数で評価した。スチル耐
久性はポーズ状態での出力の一3dBまでの減衰時間を
評価した。なお、比較例として、全く潤滑剤を被着しな
いブランクテープについても測定した。
相対湿度(RH)60%、および−5℃の各条件下での
動摩擦係数及びシャトル耐久性を測定した。この動摩擦
係数は、材質がステンレス(SUS304)のガイドビ
ンを用い、一定のテンションをかけ5 mm/secの
速度で送り、試験したものである。また、シャトル耐久
性は、1回につき2分間のシャトル走行を行い、出力が
一3dB低下までのシャトル回数で評価した。スチル耐
久性はポーズ状態での出力の一3dBまでの減衰時間を
評価した。なお、比較例として、全く潤滑剤を被着しな
いブランクテープについても測定した。
結果を次表に示す。
(以下余白)
上記表から明らかなように、本発明の各実施例の条件下
で動摩擦係数が小さく、走行が極めて安定しており、ま
た100回往復走行後もテープ表面の損傷は全く見られ
なかった。また、スチル耐久性も極めて良く、150回
シャトル走行を行っても出力の一3dB低下は見られな
かった。これに対して、潤滑剤層のない比較例のテープ
では、摩擦係数が往復走行回数が多くなるにつれて大と
なり、走行も不安定でテープの摩擦が見られ、耐久性も
悪いものであった。
で動摩擦係数が小さく、走行が極めて安定しており、ま
た100回往復走行後もテープ表面の損傷は全く見られ
なかった。また、スチル耐久性も極めて良く、150回
シャトル走行を行っても出力の一3dB低下は見られな
かった。これに対して、潤滑剤層のない比較例のテープ
では、摩擦係数が往復走行回数が多くなるにつれて大と
なり、走行も不安定でテープの摩擦が見られ、耐久性も
悪いものであった。
以上の説明からも明らかなように、本発明においては、
強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体の潤滑剤として不飽和
脂肪酸アミドを用いているので、如何なる温度条件下に
おいても動摩擦係数を小さくすることができ、走行安定
性や耐摩耗性に優れた磁気記録媒体とすることができる
。
強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体の潤滑剤として不飽和
脂肪酸アミドを用いているので、如何なる温度条件下に
おいても動摩擦係数を小さくすることができ、走行安定
性や耐摩耗性に優れた磁気記録媒体とすることができる
。
Claims (1)
- 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成し、上記強磁性
金属薄膜に不飽和脂肪酸アミドを被着したことを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18231486A JPS6339125A (ja) | 1986-08-02 | 1986-08-02 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18231486A JPS6339125A (ja) | 1986-08-02 | 1986-08-02 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339125A true JPS6339125A (ja) | 1988-02-19 |
Family
ID=16116136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18231486A Pending JPS6339125A (ja) | 1986-08-02 | 1986-08-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6339125A (ja) |
-
1986
- 1986-08-02 JP JP18231486A patent/JPS6339125A/ja active Pending
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