JPS6376250A - 電子顕微鏡装置 - Google Patents
電子顕微鏡装置Info
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- JPS6376250A JPS6376250A JP21920186A JP21920186A JPS6376250A JP S6376250 A JPS6376250 A JP S6376250A JP 21920186 A JP21920186 A JP 21920186A JP 21920186 A JP21920186 A JP 21920186A JP S6376250 A JPS6376250 A JP S6376250A
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- object lens
- lens diaphragm
- objective lens
- 500muomega
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- Pending
Links
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 13
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は電子顕微鏡装置に係り、更に詳しくは電子顕微
鏡装置の対物レンズ絞りに関する。
鏡装置の対物レンズ絞りに関する。
（従来の技術）
走査型電子顕微鏡、Ｘ線マイクロアナライザ等、電子線
を細く絞って電子グローブとし、試料の微細形状観察ま
たは、微小部の元素分析を行なう、電子顕微鏡装置は、
真空中での試料の蒸発、分解あるいは、真空ポンプオイ
ルミストの侵入等により汚染される。特て対物絞りは試
料に近いため、試料から発生したカーボン等の汚れが付
きやすく。
を細く絞って電子グローブとし、試料の微細形状観察ま
たは、微小部の元素分析を行なう、電子顕微鏡装置は、
真空中での試料の蒸発、分解あるいは、真空ポンプオイ
ルミストの侵入等により汚染される。特て対物絞りは試
料に近いため、試料から発生したカーボン等の汚れが付
きやすく。
且つ、対物絞り孔周囲に付着した汚れは、８１Ｍ像。
反射電子像等試料の像観察を困難にし、分析位置精度を
低下させるなど影響が大きい◇ 従来は、汚染が進み、観察または、分析に大きな支障を
きたすと判断されると、電子線発生を停止後、真空を下
げ大気圧とし、而る後、対物レンズ絞シをとシだし、ク
リーニングまたは交換を行っていたがこの方法では、多
くの時間を要し、またクリーング後または新品交換後は
、１対物絞り位置がずれるため調整が必要であり１分解
能低下の恐れもあった。
低下させるなど影響が大きい◇ 従来は、汚染が進み、観察または、分析に大きな支障を
きたすと判断されると、電子線発生を停止後、真空を下
げ大気圧とし、而る後、対物レンズ絞シをとシだし、ク
リーニングまたは交換を行っていたがこの方法では、多
くの時間を要し、またクリーング後または新品交換後は
、１対物絞り位置がずれるため調整が必要であり１分解
能低下の恐れもあった。
また、電子プローブを直接対物レンズ絞シの汚染部に照
射し、その部分の温度を上昇させ、汚れを燃焼、抑散さ
せる方法も、すでに知られている。
射し、その部分の温度を上昇させ、汚れを燃焼、抑散さ
せる方法も、すでに知られている。
しかし、通常対物レンズ絞りとして使われているＭＯは
電気抵抗率が小さいため、汚れを燃焼、揮散させるのに
十分な温度まで上昇させるにはプローブ電流値を通常の
使用よシ甚だしく大きくしなければならず、電子銃のフ
ィラメントの寿命短縮という欠点があり、また、汚染が
局部的に除去されるのみで完全に除去しにくい〇 （発明が解決しようとする問題点） 従来の電子顕微鏡装置では分解能低下の主因となる対物
レンズ絞りの汚染を除去しにくいという問題点があった
。
電気抵抗率が小さいため、汚れを燃焼、揮散させるのに
十分な温度まで上昇させるにはプローブ電流値を通常の
使用よシ甚だしく大きくしなければならず、電子銃のフ
ィラメントの寿命短縮という欠点があり、また、汚染が
局部的に除去されるのみで完全に除去しにくい〇 （発明が解決しようとする問題点） 従来の電子顕微鏡装置では分解能低下の主因となる対物
レンズ絞りの汚染を除去しにくいという問題点があった
。
本発明はこのような問題点に鑑みなされ念ものであり、
対物レンズ絞りの汚染を防止した電子顕微鏡装置を提供
することを目的とする・〔発明の構成〕 （問題点を解決するための手段） 本発明は、電子顕微鏡装置において、対物レンズ絞りに
２０℃における固有抵抗が１０μΩ・１以上５００μΩ
・１以下の金ｓｈるいは合金を用いたことを特徴とする
電子顕微鏡装置である。
対物レンズ絞りの汚染を防止した電子顕微鏡装置を提供
することを目的とする・〔発明の構成〕 （問題点を解決するための手段） 本発明は、電子顕微鏡装置において、対物レンズ絞りに
２０℃における固有抵抗が１０μΩ・１以上５００μΩ
・１以下の金ｓｈるいは合金を用いたことを特徴とする
電子顕微鏡装置である。
本発明の対物レンズ絞シは′Ｉに気抵抗値１０μΩ・１
以上５００μΩ・１以下の金属または合金を用いたもの
であればよく、格別に限定されるものではない。電気抵
抗値が１０μΩ・１以下では十分満足のいく効果が得ら
れず、５００μΩ・１以上では照射された電子がたまる
いわゆるチャージアップ現象がおこシ、像観察の分解能
の低下し、ときには像観察及び分析が不可能となる・ （作用） 本発明は対物レンズ絞シが１０〜５００１）Ωｅ ＋、
７Ａの固有抵抗（２０℃）を持つ材料で作製されている
ので電子線照射により対物レンズ絞りが吸収電流のため
加熱される。
以上５００μΩ・１以下の金属または合金を用いたもの
であればよく、格別に限定されるものではない。電気抵
抗値が１０μΩ・１以下では十分満足のいく効果が得ら
れず、５００μΩ・１以上では照射された電子がたまる
いわゆるチャージアップ現象がおこシ、像観察の分解能
の低下し、ときには像観察及び分析が不可能となる・ （作用） 本発明は対物レンズ絞シが１０〜５００１）Ωｅ ＋、
７Ａの固有抵抗（２０℃）を持つ材料で作製されている
ので電子線照射により対物レンズ絞りが吸収電流のため
加熱される。
汚れは、より温度の低い表面に付着する傾向があるので
、従来装置で対物レンズ絞りに付着した汚れは、対物レ
ンズ絞り板が加熱されれば、他の場所、碗部内壁等へ付
着する０ （実施例） 次に本発明の実施例を第１図を参照して説明する。図中
、１は電子銃フィラメント、２は陽極、３は集束レンズ
、４は対物レンズ、５は対物レンズ絞シ、ｎｅｔ偏向コ
イル、７は試料、８はトラップ、９は液体窒素容器であ
る。
、従来装置で対物レンズ絞りに付着した汚れは、対物レ
ンズ絞り板が加熱されれば、他の場所、碗部内壁等へ付
着する０ （実施例） 次に本発明の実施例を第１図を参照して説明する。図中
、１は電子銃フィラメント、２は陽極、３は集束レンズ
、４は対物レンズ、５は対物レンズ絞シ、ｎｅｔ偏向コ
イル、７は試料、８はトラップ、９は液体窒素容器であ
る。
電子銃のフィラメント１から発生した電子線は集束レン
ズ３と対物レンズ４とで細く絞られ偏向コイル６で走査
される。試料８に照射される直前に対物レンズ絞シ５で
さらに絞られ、余分な電子は対物レンズ絞９５等に吸収
される。
ズ３と対物レンズ４とで細く絞られ偏向コイル６で走査
される。試料８に照射される直前に対物レンズ絞シ５で
さらに絞られ、余分な電子は対物レンズ絞９５等に吸収
される。
対物レンズ絞り５は第１表に示すような７種類の材料を
用いた。これらの材料を用いて作られた対物レンズ絞り
を使用し、加速電圧２０ＫＶ、試料電流０．２μＡの条
件での対物レンズ絞シの温度は第１表に示すような値に
なった。尚、比較例として従来のＭＯの場合も載せであ
る０ 更に、前述の電子プローブの１！流値を増大させ汚染部
に照射して除去する方法を適用したところ、従来装置と
異なシ対物しンズ絞り板金体の温度が上昇するので、全
体的にムラなく除去された。
用いた。これらの材料を用いて作られた対物レンズ絞り
を使用し、加速電圧２０ＫＶ、試料電流０．２μＡの条
件での対物レンズ絞シの温度は第１表に示すような値に
なった。尚、比較例として従来のＭＯの場合も載せであ
る０ 更に、前述の電子プローブの１！流値を増大させ汚染部
に照射して除去する方法を適用したところ、従来装置と
異なシ対物しンズ絞り板金体の温度が上昇するので、全
体的にムラなく除去された。
以下余白
第１表
衆加速電圧２０ＫＶ１ 試料電流０．２μＡ対物レンズ
絞シの温度が上昇すると、その下にある試料、表面の汚
れが増すことも考えられるため、その対処として１本実
施例では対物レンズ絞りと試料との間に低温トラップ８
を設けている。
絞シの温度が上昇すると、その下にある試料、表面の汚
れが増すことも考えられるため、その対処として１本実
施例では対物レンズ絞りと試料との間に低温トラップ８
を設けている。
これは熱伝導のよい材質でできておシ、鏡筒外にある液
体窒素と接続されている。
体窒素と接続されている。
本発明の電子顕微鏡装置では対物レンズ絞シの汚染を防
止し、観察あるいは分析の分解能を向上させることがで
きる。
止し、観察あるいは分析の分解能を向上させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例の構成図である０５・・・対
物レンズ絞り 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 以下余白 第１図
物レンズ絞り 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 以下余白 第１図
Claims (1)
- （１）電子顕微鏡装置において、対物レンズ絞りに２０
℃における電気抵抗率が１０μΩ・ｃｍ以上５００μΩ
・ｃｍ以下の金属あるいは合金を用いたことを特徴とす
る電子顕微鏡装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21920186A JPS6376250A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 電子顕微鏡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21920186A JPS6376250A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 電子顕微鏡装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6376250A true JPS6376250A (ja) | 1988-04-06 |
Family
ID=16731790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21920186A Pending JPS6376250A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 電子顕微鏡装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6376250A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08240698A (ja) * | 1995-03-06 | 1996-09-17 | Fujitsu Ltd | 加熱絞り、これを用いた荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム照射方法 |
| JP2013251088A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置 |
| WO2014061738A1 (ja) * | 2012-10-18 | 2014-04-24 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置内の異物除去方法、及び荷電粒子線装置 |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP21920186A patent/JPS6376250A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08240698A (ja) * | 1995-03-06 | 1996-09-17 | Fujitsu Ltd | 加熱絞り、これを用いた荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム照射方法 |
| JP2013251088A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置 |
| WO2014061738A1 (ja) * | 2012-10-18 | 2014-04-24 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置内の異物除去方法、及び荷電粒子線装置 |
| JP2014082140A (ja) * | 2012-10-18 | 2014-05-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置内の異物除去方法、及び荷電粒子線装置 |
| US9368319B2 (en) | 2012-10-18 | 2016-06-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for removing foreign substances in charged particle beam device, and charged particle beam device |
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