JPS6372627A - 子宮内膜症治療薬 - Google Patents
子宮内膜症治療薬Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、下垂体性ゴナドトロピン(II′日H1LH
)の産生と放出を抑制し、子宮内膜症の治療に有用な子
宮内膜症治療薬に関する。
)の産生と放出を抑制し、子宮内膜症の治療に有用な子
宮内膜症治療薬に関する。
従来、下垂体性ゴナドトロピンの産生と放出を抑制する
薬剤としてはダナゾール(Danazol )が挙げら
れ、子宮内膜症の治療薬として億めて有効であることが
示されているが、更に活性の高い子宮内膜症治療薬につ
いて鋭意研究した結果、ダナゾールより更に強力にゴナ
ドトロピンの産生と放出を抑制し、従ってよシ少用童で
子宮内膜症を治療することのできる化合物を見い出し本
発明に到達した。
薬剤としてはダナゾール(Danazol )が挙げら
れ、子宮内膜症の治療薬として億めて有効であることが
示されているが、更に活性の高い子宮内膜症治療薬につ
いて鋭意研究した結果、ダナゾールより更に強力にゴナ
ドトロピンの産生と放出を抑制し、従ってよシ少用童で
子宮内膜症を治療することのできる化合物を見い出し本
発明に到達した。
本発明の要旨は、下記一般式(I)
〔式中、Rは01〜C1のアルキル基、Xは))ロゲン
原子またはシアン基を表わす。〕で示されるゴナトリエ
ン紡導体を有効成分とする子宮内膜症治療薬に存する。
原子またはシアン基を表わす。〕で示されるゴナトリエ
ン紡導体を有効成分とする子宮内膜症治療薬に存する。
上記一般式(I)において、Rは、メチル、エチル、プ
ロピルおよびイソプロピル基の炭素数/〜3のアルキル
基を示すが、メチル基およびエチル基が好ましい。Xは
、弗素、塩素、臭素、沃素のハロゲン原子またはシアン
基を示すが、塩素原子およびシアノ基が好ましb0 本発明に係る治療薬として用いられる化合物の具体例と
しては、例えば、次のものが挙げられる。
ロピルおよびイソプロピル基の炭素数/〜3のアルキル
基を示すが、メチル基およびエチル基が好ましい。Xは
、弗素、塩素、臭素、沃素のハロゲン原子またはシアン
基を示すが、塩素原子およびシアノ基が好ましb0 本発明に係る治療薬として用いられる化合物の具体例と
しては、例えば、次のものが挙げられる。
/2α−シアノメチルー/2β−ヒドロキシ−/3β−
メチルーゴナーダ、9.//−)ジエン−3−オン、 /2α−シアノメチルー/7β−ヒト四キシ−/3β−
エチルーゴナーダ、?、//−トリエン−3−オン、 /2α−シアノメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
プロピルーゴナー4t、9.//−)ジエン−3−オン
、 /7α−クロロメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
メチルーゴナー4t、ワ、//−トリエン−3−オン、 /2α−クロ四メチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
エチルーゴナーダ、 ?、 //−トリエン−3−オン
、 /2α−クロロメチルー/2β−ヒドロ中シー/3β−
プロピル−ゴナ−4t、 ?、 //−トリエン−3−
オン、 /2α−フルオロメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β
−エチルーゴナーグ、?、/l−)ジエン−3−オン、 /2α−ブロモメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
エチルーゴナーク、ワ、//−)ジエン−3−オン。
メチルーゴナーダ、9.//−)ジエン−3−オン、 /2α−シアノメチルー/7β−ヒト四キシ−/3β−
エチルーゴナーダ、?、//−トリエン−3−オン、 /2α−シアノメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
プロピルーゴナー4t、9.//−)ジエン−3−オン
、 /7α−クロロメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
メチルーゴナー4t、ワ、//−トリエン−3−オン、 /2α−クロ四メチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
エチルーゴナーダ、 ?、 //−トリエン−3−オン
、 /2α−クロロメチルー/2β−ヒドロ中シー/3β−
プロピル−ゴナ−4t、 ?、 //−トリエン−3−
オン、 /2α−フルオロメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β
−エチルーゴナーグ、?、/l−)ジエン−3−オン、 /2α−ブロモメチルー/7β−ヒドロキシ−/3β−
エチルーゴナーク、ワ、//−)ジエン−3−オン。
次に、本発明に用いられる上記化合物の製造法について
説明する。
説明する。
本発明に用いられる一般式(1)で示されるゴナトリエ
ン訪導体は下記一般式(II)で示されるそれ自体公知
(フランス特許第/!249に2号(/りt/年)およ
びフランス特許第1!26り67号(/り6/年))の
ジケトン類から次のルートに従って製造される。
ン訪導体は下記一般式(II)で示されるそれ自体公知
(フランス特許第/!249に2号(/りt/年)およ
びフランス特許第1!26り67号(/り6/年))の
ジケトン類から次のルートに従って製造される。
(ff) (III)(IV)
(V) 1J 〔式中、RおよびXは一般式(1)で定義したとお)で
あシ、Yはエチレン基、トリメチレン基または一、ニー
ジメチルトリメチレン基を表わす。〕一般式(■)のジ
ケトンは3位カルボニル基が選択的に保護される。通常
、一般式(II)のジケトンにエチレングリコール、ト
リメチレングリコール、−1λ−ジメチルトリメチレン
グリコールを酸性条件下に作用させて一般式(III)
のアセタールを得る。この際、脱水剤としてオルトギ酸
メチル、オルトギ酸エチルなどのオルトエステル類を共
存させると良い。又、オルトエステル類を使用しない場
合には、ベンゼン、トルエンなどの水と共沸する溶媒を
使用して生成する水を共沸脱水しながら行うこともでき
る。
(V) 1J 〔式中、RおよびXは一般式(1)で定義したとお)で
あシ、Yはエチレン基、トリメチレン基または一、ニー
ジメチルトリメチレン基を表わす。〕一般式(■)のジ
ケトンは3位カルボニル基が選択的に保護される。通常
、一般式(II)のジケトンにエチレングリコール、ト
リメチレングリコール、−1λ−ジメチルトリメチレン
グリコールを酸性条件下に作用させて一般式(III)
のアセタールを得る。この際、脱水剤としてオルトギ酸
メチル、オルトギ酸エチルなどのオルトエステル類を共
存させると良い。又、オルトエステル類を使用しない場
合には、ベンゼン、トルエンなどの水と共沸する溶媒を
使用して生成する水を共沸脱水しながら行うこともでき
る。
一般式<m>のアセタールは、沃化トリメチルスルホニ
ウム、沃化トリメチルスルホキソニウム、塩化トリメチ
ルスルホキソニウムなどのトリメチルスルホニウム、ト
リメチルスルホキソニウム類にカリウムt−ブトキシド
、水素化ナトリウムなどの塩基性物質を作用させて発生
させたジメチルスルホニウムメチリドあるいはジメチル
オキソスルホニウムメチリドを反応させて一般式(IV
)のエポキシトリエンにすることができる。この場合、
トリメチルスルホニウム、トリメチルスルホキソニウム
類はアセタールG[I)の等モル以上、好ましくは/−
〜!倍モル、カリウムt−ブトキシド、水素化ナトリウ
ムはトリメチルスルホニウムあるいはトリメチルスルホ
キソニウム類の等モル以上、好ましくはへ/〜/J倍モ
ル使用される。溶媒はジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドンなどの極性の高い非プロトン性溶媒が好適に
使用される。反応温度は一り0℃〜JQ℃、好ましくは
θ℃〜30℃である。
ウム、沃化トリメチルスルホキソニウム、塩化トリメチ
ルスルホキソニウムなどのトリメチルスルホニウム、ト
リメチルスルホキソニウム類にカリウムt−ブトキシド
、水素化ナトリウムなどの塩基性物質を作用させて発生
させたジメチルスルホニウムメチリドあるいはジメチル
オキソスルホニウムメチリドを反応させて一般式(IV
)のエポキシトリエンにすることができる。この場合、
トリメチルスルホニウム、トリメチルスルホキソニウム
類はアセタールG[I)の等モル以上、好ましくは/−
〜!倍モル、カリウムt−ブトキシド、水素化ナトリウ
ムはトリメチルスルホニウムあるいはトリメチルスルホ
キソニウム類の等モル以上、好ましくはへ/〜/J倍モ
ル使用される。溶媒はジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドンなどの極性の高い非プロトン性溶媒が好適に
使用される。反応温度は一り0℃〜JQ℃、好ましくは
θ℃〜30℃である。
一般式(IV)のエポキシトリエンはこれに青酸カリウ
ム、?酸ナトリウムなどのan−を放出させる青酸化合
物か、塩化リチウム、臭化リチウム、弗化リチウム、沃
化リチウム、沃化カリウムなどのハロゲンイオンを放出
させるハロゲン化物を反応させて一般式(V)のシアノ
メチルトリエンあるいはハロゲン化メチルトリエンを得
る。この場合、青酸化合物あるいはハロゲン化合物はエ
ポキシトリエン(■)の等モル以上、好ましくは3〜1
0倍モル使用される。溶媒はメタノール、エタノール、
プロパツールなどの低級アルコール類が好ましい。反応
温度は0℃以上、通常/θ〜!θ℃が好まし込。
ム、?酸ナトリウムなどのan−を放出させる青酸化合
物か、塩化リチウム、臭化リチウム、弗化リチウム、沃
化リチウム、沃化カリウムなどのハロゲンイオンを放出
させるハロゲン化物を反応させて一般式(V)のシアノ
メチルトリエンあるいはハロゲン化メチルトリエンを得
る。この場合、青酸化合物あるいはハロゲン化合物はエ
ポキシトリエン(■)の等モル以上、好ましくは3〜1
0倍モル使用される。溶媒はメタノール、エタノール、
プロパツールなどの低級アルコール類が好ましい。反応
温度は0℃以上、通常/θ〜!θ℃が好まし込。
一般式(■)のシアンメチルトリエンあるいはハロゲン
化メチルトリエンは、酸性条件下でアセタール基を分解
して、3位カルボニル基を再生させると所望の一般式(
1)のゴナトリエンを得ることができる。この工程は公
知のアセタール脱保饅法ならどの様な方法も採用できる
が、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類ヲ溶
媒トし、触媒量のp−)ルエンスルホン吊、硫酸、硝酸
などの酸性化合物を添加して行うのが好ましい。
化メチルトリエンは、酸性条件下でアセタール基を分解
して、3位カルボニル基を再生させると所望の一般式(
1)のゴナトリエンを得ることができる。この工程は公
知のアセタール脱保饅法ならどの様な方法も採用できる
が、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類ヲ溶
媒トし、触媒量のp−)ルエンスルホン吊、硫酸、硝酸
などの酸性化合物を添加して行うのが好ましい。
また、一般式(IV)のエポキシトリエンにfill、
あるhは塩酸、臭化水素酸、弗化水素酸などのハロゲン
化水素酸を作用させて、直接一般式(1)のゴナトリエ
ンを得ることもできる。この場合、各種の溶媒が使用で
きるが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
ジメチルアセトアミド、N−メチルビ日リドン、テトラ
ヒドロフランジオキサンなどが好適に使用できる。
あるhは塩酸、臭化水素酸、弗化水素酸などのハロゲン
化水素酸を作用させて、直接一般式(1)のゴナトリエ
ンを得ることもできる。この場合、各種の溶媒が使用で
きるが、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
ジメチルアセトアミド、N−メチルビ日リドン、テトラ
ヒドロフランジオキサンなどが好適に使用できる。
一般式(I)のゴナ) IJエン訪導体は、次のルート
に従って一般式(■)のゴナジエン類からも製造できる
。
に従って一般式(■)のゴナジエン類からも製造できる
。
(IX) (1)
〔式中、RおよびXは一般式(1)で定義したとおシで
あ’) 、RIおよび−はCI〜04のアルキル基を示
し、R1とR8が一緒になって−(cut)n−(nは
一〜μの整数)を表わしてもより0〕一般式(Yl)の
ゴナジエン類の製造法はArzn−eimittrlf
orschung /Drug Res 、! y (
/ 97 y )?9ご一タOO頁に記述された方法で
製造できる。
あ’) 、RIおよび−はCI〜04のアルキル基を示
し、R1とR8が一緒になって−(cut)n−(nは
一〜μの整数)を表わしてもより0〕一般式(Yl)の
ゴナジエン類の製造法はArzn−eimittrlf
orschung /Drug Res 、! y (
/ 97 y )?9ご一タOO頁に記述された方法で
製造できる。
一般式(Vl)のゴナジエンはジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、ピロリジンなどのアミン類@)を反応させ一
般式(Vl)のエナミンを製造する。
ルアミン、ピロリジンなどのアミン類@)を反応させ一
般式(Vl)のエナミンを製造する。
一般式(鴇)中、R1およびR2は炭素数/〜ダのアル
キル基であり、鴇と4が一緒になって−(04九−(n
は一〜ダの整数ンを形成していても良い。通常、ピロリ
ジンが好適に使用できる。
キル基であり、鴇と4が一緒になって−(04九−(n
は一〜ダの整数ンを形成していても良い。通常、ピロリ
ジンが好適に使用できる。
アミン類(■)の使用量はゴナジエン(Vl)の等モル
以上、通常へj〜3倍モルが使用される。溶媒はメタノ
ール、エタノール、プロパツール々どの低級アルコール
類が使用される。反応温度は一10〜70℃、通常/θ
〜4t0℃で実施される。
以上、通常へj〜3倍モルが使用される。溶媒はメタノ
ール、エタノール、プロパツール々どの低級アルコール
類が使用される。反応温度は一10〜70℃、通常/θ
〜4t0℃で実施される。
一般式01)のエナきンは酢酸、ビ四ピオン酸、酪酸な
どの低級脂肪酸と処理すると一般式(■)のジエンな与
える。この際、低級脂肪酸類は溶媒量使用してよく、ま
た水が共存してもよい。
どの低級脂肪酸と処理すると一般式(■)のジエンな与
える。この際、低級脂肪酸類は溶媒量使用してよく、ま
た水が共存してもよい。
低級脂肪酸に対する水の量は0.7〜θ、よ倍容量が好
適である。反応温度は一10o−jO”c、好ましくは
一λ〜10℃である。
適である。反応温度は一10o−jO”c、好ましくは
一λ〜10℃である。
一般式(IX)のジエンをDDQ(ジシアノジクロロベ
ンゾキノン)で脱水素すると所望のゴナトリエン(1)
が得られる。DDQの使用量はジエン(11)の等モル
以上、好ましくはへ3〜3倍モル使用される。溶媒は非
プロトン性#r媒が好ましく、通常ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなど塊状エーテル類が使用される。反応温
度は10−よ0℃、通常室温である。
ンゾキノン)で脱水素すると所望のゴナトリエン(1)
が得られる。DDQの使用量はジエン(11)の等モル
以上、好ましくはへ3〜3倍モル使用される。溶媒は非
プロトン性#r媒が好ましく、通常ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなど塊状エーテル類が使用される。反応温
度は10−よ0℃、通常室温である。
このような方法で得られる本発明のゴナトリエンvj導
体は、子宮内膜症治療薬として有効で、t)シ、さらに
は、避妊薬、前立腺肥大、乳癌、乳腺症、子冨癌等に対
する治療薬として有用であるが、その場合、経口、非経
口の適当な投与方法によら投与することができる。この
場合、提供される形態としては経口投与用には、たとえ
ば散剤、顆粒、錠剤、糖衣錠、ピル、カプセル、液剤等
、非経口投与用には、たとえば座剤、懸濁液、液剤、乳
剤、アンプルおよび注射液等が挙げられる。もちろん、
これらを組み合わせた形態でも提供しうる。製剤化に際
しては、この分野における常法によることができる。ま
た、投与量は、年令、性別、体重、感受性差、投与方法
、投与の時期・間隔、病状の程度、体調、医薬製剤の性
質・調剤・1類、有効成分の種類などを考慮して、医師
によシ決定される。たとえば、経口投与の場合、成人/
人/日当)、0、/〜jOwia度の投与量が選ばれる
が、もちろんこれに制限されない。
体は、子宮内膜症治療薬として有効で、t)シ、さらに
は、避妊薬、前立腺肥大、乳癌、乳腺症、子冨癌等に対
する治療薬として有用であるが、その場合、経口、非経
口の適当な投与方法によら投与することができる。この
場合、提供される形態としては経口投与用には、たとえ
ば散剤、顆粒、錠剤、糖衣錠、ピル、カプセル、液剤等
、非経口投与用には、たとえば座剤、懸濁液、液剤、乳
剤、アンプルおよび注射液等が挙げられる。もちろん、
これらを組み合わせた形態でも提供しうる。製剤化に際
しては、この分野における常法によることができる。ま
た、投与量は、年令、性別、体重、感受性差、投与方法
、投与の時期・間隔、病状の程度、体調、医薬製剤の性
質・調剤・1類、有効成分の種類などを考慮して、医師
によシ決定される。たとえば、経口投与の場合、成人/
人/日当)、0、/〜jOwia度の投与量が選ばれる
が、もちろんこれに制限されない。
以下、実施例および参考例によシ、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はその要旨を超えな込限シ、以下の
実施例に限定されな込。
説明するが、本発明はその要旨を超えな込限シ、以下の
実施例に限定されな込。
参考例/: /7α−クロロメチルー/2β−ヒドロキ
シ−13β−メチル−ゴナー籍?。
シ−13β−メチル−ゴナー籍?。
//−トリエン−3−オン
工程A:j−エチレンジオキシ−/3β−メチルーゴナ
ーダ、?、//−トリエン−7フーオン ♂、♂j l (j 2.9 Qmmol )の/3β
−メチルーゴナー弘、9.//−)ジエン−3,/フー
ジオンを’pt 20 mlのテトラヒドロフランにm
hし、22、dのエチレングリコール、次いで触媒量(
/θO■)のp−1ルエンスルホン鈑を加工、全体を水
浴中で0℃に冷却する。り3.どdのオルトギ酸エチル
を加え、窒素気流r、0℃にて3時間撹拌した後にj−
のトリエチルアミンを加え反応を中止する。反応液を3
θOdの酢酸エチルで希釈し、炭酸水素す) IJクム
飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水層な、
200−の塩化メチレンで抽出し、■@層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下に蒸留乾固した後/ ¥、J
7 #の粗生成物を黄色の油状物として得た。得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで処
理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて溶出し
、7.0り1114?、0%)の3−エチレンジオキシ
−/3β−メチルーゴナータ、9.//−トリエン−/
7−オンを黄白色の結晶として得た。
ーダ、?、//−トリエン−7フーオン ♂、♂j l (j 2.9 Qmmol )の/3β
−メチルーゴナー弘、9.//−)ジエン−3,/フー
ジオンを’pt 20 mlのテトラヒドロフランにm
hし、22、dのエチレングリコール、次いで触媒量(
/θO■)のp−1ルエンスルホン鈑を加工、全体を水
浴中で0℃に冷却する。り3.どdのオルトギ酸エチル
を加え、窒素気流r、0℃にて3時間撹拌した後にj−
のトリエチルアミンを加え反応を中止する。反応液を3
θOdの酢酸エチルで希釈し、炭酸水素す) IJクム
飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水層な、
200−の塩化メチレンで抽出し、■@層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下に蒸留乾固した後/ ¥、J
7 #の粗生成物を黄色の油状物として得た。得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで処
理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて溶出し
、7.0り1114?、0%)の3−エチレンジオキシ
−/3β−メチルーゴナータ、9.//−トリエン−/
7−オンを黄白色の結晶として得た。
工m”: −?−エチレンジオキシー73β−メチル
−ゴナ−μ、?、//−)リエンー/7β−スピロー/
′2.2′−オキシラン 上記工程Aで得られた7、θり1(−2,69mmol
)の3−エチレンジオキシ−/3β−メチルーゴナーダ
、9.//−)リエンー/7−オンを70−のジメチル
ホルムアミドに溶解し、?、2.69の沃化トリメチル
スルホニウムを加え、窒素気流下、室温にて3分間撹拌
する。次いで1、.379のカリウムt−ブトキシドを
刃口え、窒素気流下、室温にてさらに弘!分間撹拌する
。
−ゴナ−μ、?、//−)リエンー/7β−スピロー/
′2.2′−オキシラン 上記工程Aで得られた7、θり1(−2,69mmol
)の3−エチレンジオキシ−/3β−メチルーゴナーダ
、9.//−)リエンー/7−オンを70−のジメチル
ホルムアミドに溶解し、?、2.69の沃化トリメチル
スルホニウムを加え、窒素気流下、室温にて3分間撹拌
する。次いで1、.379のカリウムt−ブトキシドを
刃口え、窒素気流下、室温にてさらに弘!分間撹拌する
。
反応液をJr00ゴの酢酸エチルで希釈し、塩化アンモ
ニウム飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水
増をJOOmlの酢酸エチルテ抽呂し、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸留乾固した後、?、
♂49の粗生成物を褐色の油状物として得た。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで処理
し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて溶出し、
t、o 4ty (収率//、7%)の3−エチレンジ
オキシ−/3β−メチルーゴナー&、 ?。
ニウム飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水
増をJOOmlの酢酸エチルテ抽呂し、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸留乾固した後、?、
♂49の粗生成物を褐色の油状物として得た。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで処理
し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて溶出し、
t、o 4ty (収率//、7%)の3−エチレンジ
オキシ−/3β−メチルーゴナー&、 ?。
//−トリエン−/2β−スビ四−/′、λ′−オキシ
ランをアモルファス状の固形物として得た。
ランをアモルファス状の固形物として得た。
工aa: /7α−クロロメチルー/?β−ヒドロキ
シ−/3β−メチルーゴナーへ?。
シ−/3β−メチルーゴナーへ?。
//−トリエン−3−オン
上記工程Bで得られたJ、0/I(り、、z−mmol
)の3−エチレンジオキシ−/3β−メチルーゴナー9
.り、//−)ジエンー/2β−スピロ−/′。
)の3−エチレンジオキシ−/3β−メチルーゴナー9
.り、//−)ジエンー/2β−スピロ−/′。
−′−オキシランを/2011dのジメチルホルムアミ
ド チルホルムアミドからなる混合溶媒を、!分間かけて室
温にて滴下する。窒素気流下、室温に°て4tJ分間撹
拌した後、水浴中で冷却しuo.1へ炭酸水素ナトリウ
ム飽和水浴液を加え、反応を中止する。反応液を200
−の酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄する。
ド チルホルムアミドからなる混合溶媒を、!分間かけて室
温にて滴下する。窒素気流下、室温に°て4tJ分間撹
拌した後、水浴中で冷却しuo.1へ炭酸水素ナトリウ
ム飽和水浴液を加え、反応を中止する。反応液を200
−の酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄する。
洗浄した水層な4toowtの酢酸エチルで抽出し、有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸留乾
固した後、7,7 7 jの粗生成物を黄色の油状物と
して得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混
合溶媒にて浴出し、ベンゼン−シクロヘキサン■/:/
の混合溶媒よシ再結晶し、八9/l(収$ 6 1.0
% ) (h / 7α−クロロメチル−/りβ−ヒ
ドロキシ−/3βーメチルーゴナー41,f’//−)
ジエン−3ーオンを黄白色の結晶として得た。
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸留乾
固した後、7,7 7 jの粗生成物を黄色の油状物と
して得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混
合溶媒にて浴出し、ベンゼン−シクロヘキサン■/:/
の混合溶媒よシ再結晶し、八9/l(収$ 6 1.0
% ) (h / 7α−クロロメチル−/りβ−ヒ
ドロキシ−/3βーメチルーゴナー41,f’//−)
ジエン−3ーオンを黄白色の結晶として得た。
融点: /7!./ −/7J,41 ”CNMR
(ODO4,、90MHz)δ ; /.03 (
jH,S) 3、4tr (/l(、d,:1.、/.2H2 )3
、70 (jH, d, J−/JHz)j.りj
( /H, br−s )、4,、2j (/)1,
d,J−9Hz)d.4tJ (/H,d,、Tm?
Hz )工R (KBr)!+t30, /14tO
an−’参考側2二 /7αーレアツメチルー/2β
ーヒドロキシー/3β−メチル−ゴナ−4tJり。
(ODO4,、90MHz)δ ; /.03 (
jH,S) 3、4tr (/l(、d,:1.、/.2H2 )3
、70 (jH, d, J−/JHz)j.りj
( /H, br−s )、4,、2j (/)1,
d,J−9Hz)d.4tJ (/H,d,、Tm?
Hz )工R (KBr)!+t30, /14tO
an−’参考側2二 /7αーレアツメチルー/2β
ーヒドロキシー/3β−メチル−ゴナ−4tJり。
//−トリエン−3−オン
工[A: /7αーシアノメチルー12βーヒドロキ
シ−/3βーメチルー3−(N−ピロリジニル)−ゴナ
−3,! (/の,り(//)− ト リ エ ン タ.4t J I ( j O.3 4t mmol
)の/7Ct−シアノメチル−/7βーヒドロキシー/
Jβーメチルーゴナーヌ,タージエン−3−オンを一j
Otdのメタノールに溶解し、3.0I+/のピロリジ
ンを加え、窒素気流下、室温にて3時間30分間撹拌す
る不溶物が析出した反応液を、減圧下において、湯浴を
go℃以下に保ちながら蒸発乾固し、/ 、2.j J
#の粗生成物を黄褐色の固形物として得、このものを
祠製することなくただちに次の工程で使用した。
シ−/3βーメチルー3−(N−ピロリジニル)−ゴナ
−3,! (/の,り(//)− ト リ エ ン タ.4t J I ( j O.3 4t mmol
)の/7Ct−シアノメチル−/7βーヒドロキシー/
Jβーメチルーゴナーヌ,タージエン−3−オンを一j
Otdのメタノールに溶解し、3.0I+/のピロリジ
ンを加え、窒素気流下、室温にて3時間30分間撹拌す
る不溶物が析出した反応液を、減圧下において、湯浴を
go℃以下に保ちながら蒸発乾固し、/ 、2.j J
#の粗生成物を黄褐色の固形物として得、このものを
祠製することなくただちに次の工程で使用した。
工aB: /7αーシアノメチルー/7β−ヒドロキ
シ−/3βーメチルーゴナーj(10)。
シ−/3βーメチルーゴナーj(10)。
?(//)−ジエン−3−オン
上記工程Aで得られた/コ,j j lの/2αーシア
ノメチルー/2βーヒドロキシ−/3βーメチルー3−
(N−ピロリジル)−ゴナ−3,!(10) 、 ?
(//) − )ジエンの粗生成物に、/7.!―の氷
酢酸と7.3−の水からなる混合物を、0℃にお騒てゆ
っくり加える。窒素気流下、0℃にお込て73分間撹拌
した後、/!0−の水を加え、0℃におりて30分間放
置し、さらに/!Otdの水を加え、0℃において30
分間放置する。反応液をり00dの酢酸エチルで抽出し
、有機層を/規定水酸化す) IJウム水溶液、OJ規
定塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水の
順序で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発乾固した後に、り、/二Iの粗生成物を褐色の油
状物として得、このものを絹製することなく次の工程に
使用した。
ノメチルー/2βーヒドロキシ−/3βーメチルー3−
(N−ピロリジル)−ゴナ−3,!(10) 、 ?
(//) − )ジエンの粗生成物に、/7.!―の氷
酢酸と7.3−の水からなる混合物を、0℃にお騒てゆ
っくり加える。窒素気流下、0℃にお込て73分間撹拌
した後、/!0−の水を加え、0℃におりて30分間放
置し、さらに/!Otdの水を加え、0℃において30
分間放置する。反応液をり00dの酢酸エチルで抽出し
、有機層を/規定水酸化す) IJウム水溶液、OJ規
定塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水の
順序で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発乾固した後に、り、/二Iの粗生成物を褐色の油
状物として得、このものを絹製することなく次の工程に
使用した。
工@a: /7α−シアノメチル−/7β−ヒドロキ
シ−/3β−メチルーゴナータ、?。
シ−/3β−メチルーゴナータ、?。
//−トリエン−3−オン
上記工程Bで得られたり、!−Iの12α−シアノメチ
ル−/2β−ヒドロキシー/3β−メチル−ゴナ−1(
10)、り(//)−ジエン−3−オンの粗生成物をコ
!O−のジオキサンに溶解し、コ?、ぶ3Iのコツ3−
ジクロローj、4−ジシアノ−p−ベンゾキノンをjo
o−のジオキサンに溶解させた溶液を、室温において、
30分間かけて徐々に滴下する。滴下終了後、窒素気流
下、室温において/−2時間撹拌する。反応液を7jO
pの活性アルきすのカラムによ、?)/!00dの酢酸
エチルと共に濾過し、−93−ジクロロ−!、6−ジシ
アツーp−ハイドロキノン、過剰の2,3−シクロロー
!、6−ジシアノ−p−ベンゾキノンを除く。P液を減
圧下に蒸発乾固した後に!、/ j 79の粗生成物を
褐色の固形物として得た。
ル−/2β−ヒドロキシー/3β−メチル−ゴナ−1(
10)、り(//)−ジエン−3−オンの粗生成物をコ
!O−のジオキサンに溶解し、コ?、ぶ3Iのコツ3−
ジクロローj、4−ジシアノ−p−ベンゾキノンをjo
o−のジオキサンに溶解させた溶液を、室温において、
30分間かけて徐々に滴下する。滴下終了後、窒素気流
下、室温において/−2時間撹拌する。反応液を7jO
pの活性アルきすのカラムによ、?)/!00dの酢酸
エチルと共に濾過し、−93−ジクロロ−!、6−ジシ
アツーp−ハイドロキノン、過剰の2,3−シクロロー
!、6−ジシアノ−p−ベンゾキノンを除く。P液を減
圧下に蒸発乾固した後に!、/ j 79の粗生成物を
褐色の固形物として得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて
浴出し、n−ヘキサン−酢酸エチル−/ニー2の混合溶
媒より再結晶し、θ、67Jl(工程Aからの収率6.
デ%)の/7α−シアノメチルー/2β−ヒドロキシ−
/3β−メチルーゴナーダ、9.//−)ジエン−3−
オンを黄白色の結晶として得た。
ーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて
浴出し、n−ヘキサン−酢酸エチル−/ニー2の混合溶
媒より再結晶し、θ、67Jl(工程Aからの収率6.
デ%)の/7α−シアノメチルー/2β−ヒドロキシ−
/3β−メチルーゴナーダ、9.//−)ジエン−3−
オンを黄白色の結晶として得た。
融点 /j3.ター1s4t、4t”cNMR(aDe
l、、 90MHz) δ : /、o3(3H,8) !、7/r (/)l、 br−s )to、2? (
/H,a、 J=9.6Hz )t、6.2 (/H,
d、 J−9,6Hz )工R(KBr) j4tjO
,−λ30. /64tOcm−”−考例3: /2
α−シアノメチルー/3β−エチルー/7β−ヒドロキ
シ−ゴナー弘、9゜7/−トリエン−3−オン 工程A: /jβ−エチルー3−エチレンジオキシー
ゴナーダ、9.//−トリエン−/7−オン 6、oolt(2へ2jmmol)の/3β−エチルー
ゴナーグ、?、//−トリエン−3,7フージオンを3
7!ゴのテトラヒドロフランに溶解し、/4t、コdの
エチレングリコール、次すで触媒量(600■)のp−
トルエンスルホンばを加え、全体を水浴中で0℃に冷却
する。−?、3−のオルトギ酸エチルを加え、窒素気流
下、0℃にて3時間撹拌した後、!dのトリエチルアミ
ンを加え反応を中止する。反応液を300dの酢酸エチ
ルで希釈し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩
水で洗浄する。洗浄した水層をaooIRlの塩化メチ
レンで抽出し、有機層を無水@酸マグネシウムで乾燥し
減圧下に蒸発乾固した後、り、!r9の粗生成物を黄色
の油状物として得た。得られた粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸
エチルの混合溶媒にて浴出し、4..29#(収率りo
、t%)の/3β−エチルー3−エチレンジオキシ−ゴ
ナ−4t、9.//−)ジエンー/7−オンを黄白色の
結晶として得た。
l、、 90MHz) δ : /、o3(3H,8) !、7/r (/)l、 br−s )to、2? (
/H,a、 J=9.6Hz )t、6.2 (/H,
d、 J−9,6Hz )工R(KBr) j4tjO
,−λ30. /64tOcm−”−考例3: /2
α−シアノメチルー/3β−エチルー/7β−ヒドロキ
シ−ゴナー弘、9゜7/−トリエン−3−オン 工程A: /jβ−エチルー3−エチレンジオキシー
ゴナーダ、9.//−トリエン−/7−オン 6、oolt(2へ2jmmol)の/3β−エチルー
ゴナーグ、?、//−トリエン−3,7フージオンを3
7!ゴのテトラヒドロフランに溶解し、/4t、コdの
エチレングリコール、次すで触媒量(600■)のp−
トルエンスルホンばを加え、全体を水浴中で0℃に冷却
する。−?、3−のオルトギ酸エチルを加え、窒素気流
下、0℃にて3時間撹拌した後、!dのトリエチルアミ
ンを加え反応を中止する。反応液を300dの酢酸エチ
ルで希釈し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩
水で洗浄する。洗浄した水層をaooIRlの塩化メチ
レンで抽出し、有機層を無水@酸マグネシウムで乾燥し
減圧下に蒸発乾固した後、り、!r9の粗生成物を黄色
の油状物として得た。得られた粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸
エチルの混合溶媒にて浴出し、4..29#(収率りo
、t%)の/3β−エチルー3−エチレンジオキシ−ゴ
ナ−4t、9.//−)ジエンー/7−オンを黄白色の
結晶として得た。
工%B: /3β−エチルー3−エチレンジオキシ−
ゴナ−a、q、 // −トリエン−72β−スピロー
/’、、2’−オキシラン 上記工檻人で得られた4、J ? j (/り、コアm
mox )の/3β−エチルー3−エチレンジオキシー
ゴナーグ、9.//−)ジエンー77一オンを60−の
ジメチルホルムアミドに!解し、7.?≦Iの沃化トリ
メチルスルホニウムを加え、窒素気流下、室底にて1分
間撹拌する。次いで!、り/lのカリウムt−ブトキシ
ドを加え、伝素気流下、屋温にてさらに4tj分間撹拌
する。反応液をJ−00ydの酢酸エチルで希釈し、塩
化アンモニウム地和水溶液、飽和食塩水で洗浄する。洗
浄した水増を300−の酢酸エチルで佃出し、有機ノー
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸発乾固した
後、?!’、/ 7 gの粗生成物を褐色の油状物とし
て得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合
溶媒にて溶出し、3.63 Ii(rよ、/%)の/3
β−エチルー3−エチレンジオキシーゴナータ、り、/
/−)ジエンー/2β−スピロ−/ L 、 、z/−
オキシランをアモルファス状の固形物として得た。
ゴナ−a、q、 // −トリエン−72β−スピロー
/’、、2’−オキシラン 上記工檻人で得られた4、J ? j (/り、コアm
mox )の/3β−エチルー3−エチレンジオキシー
ゴナーグ、9.//−)ジエンー77一オンを60−の
ジメチルホルムアミドに!解し、7.?≦Iの沃化トリ
メチルスルホニウムを加え、窒素気流下、室底にて1分
間撹拌する。次いで!、り/lのカリウムt−ブトキシ
ドを加え、伝素気流下、屋温にてさらに4tj分間撹拌
する。反応液をJ−00ydの酢酸エチルで希釈し、塩
化アンモニウム地和水溶液、飽和食塩水で洗浄する。洗
浄した水増を300−の酢酸エチルで佃出し、有機ノー
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸発乾固した
後、?!’、/ 7 gの粗生成物を褐色の油状物とし
て得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合
溶媒にて溶出し、3.63 Ii(rよ、/%)の/3
β−エチルー3−エチレンジオキシーゴナータ、り、/
/−)ジエンー/2β−スピロ−/ L 、 、z/−
オキシランをアモルファス状の固形物として得た。
工程○: /2α−シアノメチルー/3β−エチル−3
−エチレンジオキシ−/2β−ヒドロキシーゴナーグ、
l//−)ジエン上記工程Bで得られた7、4 j #
(/ 4.j 4℃mmol )の/3β−エチルー
3−エチレンジオキシ−ゴナ−4t、?、//−トリエ
ンジエ7β−スピロ−// 、 J/−オキシランを7
30ydのエタノールに溶解する。次いでダ、θ!Iの
ナトリウムシアニドを加え、反応系内に密閉し、室温に
て!日間撹拌する。反応液をyooII/の塩化メチレ
ンで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水層
を4<00dの塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸留乾固した後、4.
& j jlの粗生成物を黄色の固形物として得た。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて溶
出し、3.72.9 (4a、3%)の/7α−シアノ
メチルー/3β−エチル−3−エチレンジオキシ−/7
β−ヒドロキシーゴナー4t、?、//−トリエンを黄
白色の結晶として得た。
−エチレンジオキシ−/2β−ヒドロキシーゴナーグ、
l//−)ジエン上記工程Bで得られた7、4 j #
(/ 4.j 4℃mmol )の/3β−エチルー
3−エチレンジオキシ−ゴナ−4t、?、//−トリエ
ンジエ7β−スピロ−// 、 J/−オキシランを7
30ydのエタノールに溶解する。次いでダ、θ!Iの
ナトリウムシアニドを加え、反応系内に密閉し、室温に
て!日間撹拌する。反応液をyooII/の塩化メチレ
ンで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水層
を4<00dの塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸留乾固した後、4.
& j jlの粗生成物を黄色の固形物として得た。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて溶
出し、3.72.9 (4a、3%)の/7α−シアノ
メチルー/3β−エチル−3−エチレンジオキシ−/7
β−ヒドロキシーゴナー4t、?、//−トリエンを黄
白色の結晶として得た。
工程り二 /りα−シアノメチル−/3β−エチルー/
7β−ヒドロキシ−ゴナー弘、デ。
7β−ヒドロキシ−ゴナー弘、デ。
jl−トリエン−3−オン
上記工程0で得られた、LO01(1/ tg mmo
l)の/7α−シアノメチルー/3β−エチル−3−エ
チレンジオキシ−/2β−ヒドロキシーゴナーダ、9.
//−トリエンを110ydのア七トンに溶解し、30
−の水を加え、次いで触媒量(10oq)のp−)ルエ
ンスルホン酸を加える。室温にて70分間撹拌した後、
20mの炭酸水素す) IJウム水溶液を加え、反応を
中止する。反応液をaOO−の酢酸エチルで希釈し、水
、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水層を4too−の
塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し減圧下に蒸発乾固した後、2JQ jの粗生成
物の黄色の油状物として得た。得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで処理し、n−へキサ
ン−酢酸エチルの混合溶媒で溶出し、n−ヘキサン−酢
酸エチル−/:コの混合溶媒よシ再結晶し、/、69り
I(収率に4tJ係)の/2α−シアノメチルー/3β
−エチル−/2β−ヒドロキシーゴナー夕、り、//−
)ジエンー3−オンを黄白色の結晶として得た。
l)の/7α−シアノメチルー/3β−エチル−3−エ
チレンジオキシ−/2β−ヒドロキシーゴナーダ、9.
//−トリエンを110ydのア七トンに溶解し、30
−の水を加え、次いで触媒量(10oq)のp−)ルエ
ンスルホン酸を加える。室温にて70分間撹拌した後、
20mの炭酸水素す) IJウム水溶液を加え、反応を
中止する。反応液をaOO−の酢酸エチルで希釈し、水
、飽和食塩水で洗浄する。洗浄した水層を4too−の
塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し減圧下に蒸発乾固した後、2JQ jの粗生成
物の黄色の油状物として得た。得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで処理し、n−へキサ
ン−酢酸エチルの混合溶媒で溶出し、n−ヘキサン−酢
酸エチル−/:コの混合溶媒よシ再結晶し、/、69り
I(収率に4tJ係)の/2α−シアノメチルー/3β
−エチル−/2β−ヒドロキシーゴナー夕、り、//−
)ジエンー3−オンを黄白色の結晶として得た。
融点 /?J −/り5℃
NMR(CDON、 、 ? OMHz )δ :
/、OJ−(jki; ’c、 J Ws7.71(z
)rJ / (/ )1. br−s )6.3に’
(/H,d、 :J−10,jHz )6.6≦(/)
I、 d、 、7羽10.!1−1ys)工R(KBr
) 34460. 22jO,16410cm”参考
例グ: /7α−クロロメチルー/3β−エチル−/7
β−ヒドロキシーゴナー4t、?。
/、OJ−(jki; ’c、 J Ws7.71(z
)rJ / (/ )1. br−s )6.3に’
(/H,d、 :J−10,jHz )6.6≦(/)
I、 d、 、7羽10.!1−1ys)工R(KBr
) 34460. 22jO,16410cm”参考
例グ: /7α−クロロメチルー/3β−エチル−/7
β−ヒドロキシーゴナー4t、?。
//−トリエン−3−オン
実施例3の工程A、Bと同様の操作で得られた4t//
η(/、4t / mmol )の/3β−エチルー3
−エチレンジオキシ−ゴナ−41,9,//−トリエン
−/2β−スピロー/1..QL−オキシランを/Id
!のジメチルホルムアミドに溶解し、0.3−の濃塩酸
と3.1IIdのジメチルホルムアミドからなる混合溶
媒を、1分間かけて室温にて滴下する。象素気流下、室
温にて20分間攪拌した後、水浴中で冷却し、/Q−の
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を加え、反応を中止する
。
η(/、4t / mmol )の/3β−エチルー3
−エチレンジオキシ−ゴナ−41,9,//−トリエン
−/2β−スピロー/1..QL−オキシランを/Id
!のジメチルホルムアミドに溶解し、0.3−の濃塩酸
と3.1IIdのジメチルホルムアミドからなる混合溶
媒を、1分間かけて室温にて滴下する。象素気流下、室
温にて20分間攪拌した後、水浴中で冷却し、/Q−の
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を加え、反応を中止する
。
反応液を100−の酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩
水で洗浄する。洗浄した水層なjOdの酢酸エチルで抽
出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発礼固し之後、/57J1qの粗生成物を黄褐色の
固形物として得た。得られた粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフイーテ処理し、4t−311v(収率り0.
0 % )の/7α−クロロメチルー/3β−エチル−
72β−ヒドロキシ−ゴナーu、?、//−トリエン−
3−オンを黄白色のアモルファス状の固体として得た。
水で洗浄する。洗浄した水層なjOdの酢酸エチルで抽
出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発礼固し之後、/57J1qの粗生成物を黄褐色の
固形物として得た。得られた粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフイーテ処理し、4t−311v(収率り0.
0 % )の/7α−クロロメチルー/3β−エチル−
72β−ヒドロキシ−ゴナーu、?、//−トリエン−
3−オンを黄白色のアモルファス状の固体として得た。
IJMR(CD(jl3 、40 MHz )δ
二 / 、02 (、?H,t、 、r
千7Hz)j、4+!? (/J d、 J−//Hz
)!、7? (/H,d、 J、−//H2)j、7
j (/ H,br−s ) 6.30 (/ )!、 d、 J=10Hvs )4
、t7(/H,d、 J−10Hz )工R(KBr)
34tjO,へ陣Ocm−”試験例 実施例にて得られた結晶0./、/、10If/に9を
/θチェタノール含有綿実油に懸濁溶解し、雌ラットに
74を日間経口投与し、卵巣重量を測定し綿実油のみを
与えたコントロール群と比較するととKよシ抗ゴナドト
ロピン作用の有無の測定を行なった。
二 / 、02 (、?H,t、 、r
千7Hz)j、4+!? (/J d、 J−//Hz
)!、7? (/H,d、 J、−//H2)j、7
j (/ H,br−s ) 6.30 (/ )!、 d、 J=10Hvs )4
、t7(/H,d、 J−10Hz )工R(KBr)
34tjO,へ陣Ocm−”試験例 実施例にて得られた結晶0./、/、10If/に9を
/θチェタノール含有綿実油に懸濁溶解し、雌ラットに
74を日間経口投与し、卵巣重量を測定し綿実油のみを
与えたコントロール群と比較するととKよシ抗ゴナドト
ロピン作用の有無の測定を行なった。
m:効果なし
十二効未あり
−1−+二著効
〔発明の効果〕
本発明忙係る化合物(1)は、強い抗ゴナドトロピン作
用を有し、子宮内膜症の治療薬として有用である。
用を有し、子宮内膜症の治療薬として有用である。
出 願 人 東京田辺製薬株式会社
三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
ほか/名
Claims (1)
- (1)下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、BはC_1〜C_3のアルキル基、Xはハロゲ
ン原子またはシアノ基を表わす。〕で示されるゴナトリ
エン誘導体を有効成分とする子宮内膜症治療薬。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21888786A JPS6372627A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 子宮内膜症治療薬 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21888786A JPS6372627A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 子宮内膜症治療薬 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6372627A true JPS6372627A (ja) | 1988-04-02 |
JPH0450B2 JPH0450B2 (ja) | 1992-01-06 |
Family
ID=16726863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21888786A Granted JPS6372627A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 子宮内膜症治療薬 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6372627A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0654267A1 (en) * | 1993-11-19 | 1995-05-24 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Carcinostatic for hormonotheraphy containing dienogest as effective component |
WO1999020647A1 (fr) * | 1997-10-17 | 1999-04-29 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Remede contre les hysteromyomes, contenant du dienogeste comme principe actif |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5312849A (en) * | 1976-06-14 | 1978-02-04 | Ienafuarumu Veb | Production of novel gonaa4*9 *10**diene |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21888786A patent/JPS6372627A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5312849A (en) * | 1976-06-14 | 1978-02-04 | Ienafuarumu Veb | Production of novel gonaa4*9 *10**diene |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0654267A1 (en) * | 1993-11-19 | 1995-05-24 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Carcinostatic for hormonotheraphy containing dienogest as effective component |
US5652231A (en) * | 1993-11-19 | 1997-07-29 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Carcinostatic for hormonotherapy containing dienogest as effective component |
WO1999020647A1 (fr) * | 1997-10-17 | 1999-04-29 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Remede contre les hysteromyomes, contenant du dienogeste comme principe actif |
US6274573B1 (en) | 1997-10-17 | 2001-08-14 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Method of treatment for uterine leiomyoma |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0450B2 (ja) | 1992-01-06 |
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