JPS6370940A - レジスト原盤の熱処理装置 - Google Patents
レジスト原盤の熱処理装置Info
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- JPS6370940A JPS6370940A JP21477786A JP21477786A JPS6370940A JP S6370940 A JPS6370940 A JP S6370940A JP 21477786 A JP21477786 A JP 21477786A JP 21477786 A JP21477786 A JP 21477786A JP S6370940 A JPS6370940 A JP S6370940A
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- resist
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
失血ユ１
本発明は、レジスト原盤の熱処理′Ｓ３ｃ買に関する。
１旦且韮
映像つ音声情報等をディスク（円盤）状の記録媒体に記
録する方式として光学方式がある。この光学方式は、基
板となるガラス円盤の盤面上にフォトレジストを塗布し
レジスト層を形成することによってレジスト原盤を作成
し、このレジスト原盤のレジスト層に微小な点に集光し
たレーデビームを映像や音声情報等に応じて明滅させる
いわゆるピットバイピッ１一方式で照射感光させ、しか
る模これを現像して得られるビット（へこみ）の長さ及
びその繰返し周期により情報を記録するものである。
録する方式として光学方式がある。この光学方式は、基
板となるガラス円盤の盤面上にフォトレジストを塗布し
レジスト層を形成することによってレジスト原盤を作成
し、このレジスト原盤のレジスト層に微小な点に集光し
たレーデビームを映像や音声情報等に応じて明滅させる
いわゆるピットバイピッ１一方式で照射感光させ、しか
る模これを現像して得られるビット（へこみ）の長さ及
びその繰返し周期により情報を記録するものである。
かかる方式において、レジスト原盤の作成は洗浄及びプ
ライマ処理が完了したガラス原盤に対してフォトレジス
トを塗布した後、そのレジスト層を熱処理（ベーキング
）することによって行なわれる。
ライマ処理が完了したガラス原盤に対してフォトレジス
トを塗布した後、そのレジスト層を熱処理（ベーキング
）することによって行なわれる。
従来、このレジスト原盤のレジス１へ層を熱処理する装
置としては熱風循環式オープンが知られている。この熱
風循環式オーブンにおいては、第２図に示すように、送
風ファン１によって送り込まれた空気（気体）をヒータ
２によって加熱した後、フィルタ３を介してレジスト原
盤４に送り込み、当該原盤のレジスト層を加熱すると共
に、温度センサ５によってオーブン内の雰囲気温度を測
定し、その測定温度に基づいてヒータ２を駆動制御する
構成となっている。
置としては熱風循環式オープンが知られている。この熱
風循環式オーブンにおいては、第２図に示すように、送
風ファン１によって送り込まれた空気（気体）をヒータ
２によって加熱した後、フィルタ３を介してレジスト原
盤４に送り込み、当該原盤のレジスト層を加熱すると共
に、温度センサ５によってオーブン内の雰囲気温度を測
定し、その測定温度に基づいてヒータ２を駆動制御する
構成となっている。
かかる従来装置では、熱伝導による加熱を行なうため加
熱効率が悪く、また可動部（ファン１〉がオーブン内に
設けられているため汚染を発生し易いという欠点がある
。更には、ベーキング温度のコントロールは雰囲気温度
に対してのものであり、レジスト原盤４の熱容量の差が
そのままベーキング温度の差となるため、ベーキング温
度にばらつきが生じることになる。
熱効率が悪く、また可動部（ファン１〉がオーブン内に
設けられているため汚染を発生し易いという欠点がある
。更には、ベーキング温度のコントロールは雰囲気温度
に対してのものであり、レジスト原盤４の熱容量の差が
そのままベーキング温度の差となるため、ベーキング温
度にばらつきが生じることになる。
一般的に、ベーキング温度とフォトレジスト感度との間
には、ベーキング温度が上昇する程フォトレジストの感
度が低下するという相関関係がある。フオトレジス１〜
の感度が低下すると、一定のパターンを得るのに必要な
露光量（ドーズ吊）が上背するので、ベーキング温度の
ばらつきはそのままパターンのばらつきに反映され、レ
ジスト原盤の品質のばらつきとなってしまう。
には、ベーキング温度が上昇する程フォトレジストの感
度が低下するという相関関係がある。フオトレジス１〜
の感度が低下すると、一定のパターンを得るのに必要な
露光量（ドーズ吊）が上背するので、ベーキング温度の
ばらつきはそのままパターンのばらつきに反映され、レ
ジスト原盤の品質のばらつきとなってしまう。
１里立且ｊ
本発明は、上述した点に名みなされたもので、加熱効率
が良くかつ常に一定の温度で熱処理を行ない得るレジス
ト原盤の熱処理装置を提供することを目的とする。
が良くかつ常に一定の温度で熱処理を行ない得るレジス
ト原盤の熱処理装置を提供することを目的とする。
本発明によるレジスト原盤の熱処理装置は、レジスト原
盤のレジスト層の熱処理を遠赤外線を用いて行なうと共
に、レジスト原盤の表面温度を測定しこの測定温度に基
づいてベーキング温度を管理する構成となっている。
盤のレジスト層の熱処理を遠赤外線を用いて行なうと共
に、レジスト原盤の表面温度を測定しこの測定温度に基
づいてベーキング温度を管理する構成となっている。
火−蓋−１
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す構成図であり、レジ
スト原盤４のレジスト層のベーキング（熱処理）を行な
うために遠赤外線ヒータ６が用いられる。この遠赤外線
ヒータ６を用いることにより、遠赤外線の吸収によるエ
ネルギー変換で加熱できるので、レジスト原盤４０表面
のみを有効に加熱できると共に、レジスト内の＠Ｒ溶剤
等の赤外吸収によって効率的にベーキングできることに
なる。その結果、ベーキング時間の短縮化が可能となり
、従来の熱風循環式オーブンによるベーキング方式に比
してベーキング時間を約５分の１に短縮できることにな
る。更に、ベーキング後のレジスト原盤４を冷ます時間
の短縮化も可能となる。すなわち、本装置の場合、レジ
スト原盤４の表面のみが加熱されるため、ベーキング温
度から常温までの冷却時間を、従来の熱風循環式オーブ
ンの場合に比して約２分の１に短縮できることになる。
スト原盤４のレジスト層のベーキング（熱処理）を行な
うために遠赤外線ヒータ６が用いられる。この遠赤外線
ヒータ６を用いることにより、遠赤外線の吸収によるエ
ネルギー変換で加熱できるので、レジスト原盤４０表面
のみを有効に加熱できると共に、レジスト内の＠Ｒ溶剤
等の赤外吸収によって効率的にベーキングできることに
なる。その結果、ベーキング時間の短縮化が可能となり
、従来の熱風循環式オーブンによるベーキング方式に比
してベーキング時間を約５分の１に短縮できることにな
る。更に、ベーキング後のレジスト原盤４を冷ます時間
の短縮化も可能となる。すなわち、本装置の場合、レジ
スト原盤４の表面のみが加熱されるため、ベーキング温
度から常温までの冷却時間を、従来の熱風循環式オーブ
ンの場合に比して約２分の１に短縮できることになる。
ベーキングが行なわれているレジスト原盤４の表面温度
を例えば非接触で測定するための放射温度計７が設けら
れており、この放射温度計７の測定出力はコントローラ
８に供給される。コントローラ８（ま放ｑ・１温度計７
のα１定出力に基づいて常にレジスト原盤４の表面温度
がある一定温度に到達したらベーキングを終了するよう
にヒータ駆動回路９を制御する。放射温度５１７によっ
て測定される表面温度は見掛は上の温度であるため、レ
ジスト原５１ｉ！４の放射率及び放射温度計７による観
測経路での放射の透過率の実効的な値を予め求めてＪ３
き、この求めたデータに基づいて放射温度計７の測定出
力を補正することによって、より正確に表面温度を測定
できることになる。その結果、ベーキング温度の管理も
より正確に行なうことができるので、感度の安定したレ
ジスト原盤を作成できることになる。
を例えば非接触で測定するための放射温度計７が設けら
れており、この放射温度計７の測定出力はコントローラ
８に供給される。コントローラ８（ま放ｑ・１温度計７
のα１定出力に基づいて常にレジスト原盤４の表面温度
がある一定温度に到達したらベーキングを終了するよう
にヒータ駆動回路９を制御する。放射温度５１７によっ
て測定される表面温度は見掛は上の温度であるため、レ
ジスト原５１ｉ！４の放射率及び放射温度計７による観
測経路での放射の透過率の実効的な値を予め求めてＪ３
き、この求めたデータに基づいて放射温度計７の測定出
力を補正することによって、より正確に表面温度を測定
できることになる。その結果、ベーキング温度の管理も
より正確に行なうことができるので、感度の安定したレ
ジスト原盤を作成できることになる。
なお、上記実施例では、レジスト原盤４の表面温度を測
定する手段として放射温度苫１７を用いた場合について
説明したが、これに限定されるものではなく、接触型、
非接触型を問わずレジスト原盤４の表面温度を測定でき
るのであれば良い。
定する手段として放射温度苫１７を用いた場合について
説明したが、これに限定されるものではなく、接触型、
非接触型を問わずレジスト原盤４の表面温度を測定でき
るのであれば良い。
几■夏皇盟
以上説明したように、本発明によるレジスト原盤の熱処
理装置によれば、遠赤外線の吸収によるエネルギー変換
で加熱するため加熱効率が良く、またレジスト原盤の表
面温度を実測してベーキング温度を管理することにより
、レジスト圧路の熱容量によらずベーキング濁度を常に
一定にできるので、感度の安定したレジスト原盤が得ら
れ、高歩留が達成できることになる。
理装置によれば、遠赤外線の吸収によるエネルギー変換
で加熱するため加熱効率が良く、またレジスト原盤の表
面温度を実測してベーキング温度を管理することにより
、レジスト圧路の熱容量によらずベーキング濁度を常に
一定にできるので、感度の安定したレジスト原盤が得ら
れ、高歩留が達成できることになる。
第１図は本発明の一実ＩＩＡ例を示づ構成図、第２図は
従来例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明 ４・・・・・・レジスト原盤 ６・・・・・・遠赤外線ヒータ ７・・・・・・放射温度計
従来例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明 ４・・・・・・レジスト原盤 ６・・・・・・遠赤外線ヒータ ７・・・・・・放射温度計
Claims (2)
- （１）レジスト原盤のレジスト層を熱処理する装置であ
つて、前記レジスト原盤に対して遠赤外線を照射する遠
赤外線ヒータと、前記レジスト原盤の表面温度を測定す
る測定手段とを備え、前記測定手段の測定出力に基づい
て前記遠赤外線ヒータの駆動制御を行なうことを特徴と
するレジスト原盤の熱処理装置。 - （２）前記測定手段は放射温度計であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のレジスト原盤の熱処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477786A JPS6370940A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | レジスト原盤の熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477786A JPS6370940A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | レジスト原盤の熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370940A true JPS6370940A (ja) | 1988-03-31 |
| JPH0557657B2 JPH0557657B2 (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=16661361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21477786A Granted JPS6370940A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | レジスト原盤の熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6370940A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268477A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| JPH0268478A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| EP0776005A3 (de) * | 1995-11-21 | 1999-04-07 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
| WO1999059191A3 (de) * | 1998-05-12 | 2001-08-23 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und vorrichtung zur trocknung von photoresistschichten |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI632185B (zh) | 2013-08-07 | 2018-08-11 | 旭硝子股份有限公司 | Crosslinkable fluoroelastomer composition and crosslinked product thereof |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP21477786A patent/JPS6370940A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268477A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| JPH0268478A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| JPH0749910B2 (ja) * | 1988-09-02 | 1995-05-31 | パイオニア株式会社 | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| JPH0749911B2 (ja) * | 1988-09-02 | 1995-05-31 | パイオニア株式会社 | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| EP0776005A3 (de) * | 1995-11-21 | 1999-04-07 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
| WO1999059191A3 (de) * | 1998-05-12 | 2001-08-23 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und vorrichtung zur trocknung von photoresistschichten |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0557657B2 (ja) | 1993-08-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |