JPS636796A - 真空ダクト - Google Patents
真空ダクトInfo
- Publication number
- JPS636796A JPS636796A JP15032586A JP15032586A JPS636796A JP S636796 A JPS636796 A JP S636796A JP 15032586 A JP15032586 A JP 15032586A JP 15032586 A JP15032586 A JP 15032586A JP S636796 A JPS636796 A JP S636796A
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- JP
- Japan
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- vacuum
- vacuum duct
- synchrotron radiation
- light
- reflective end
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
電子蓄積リングにおいて、高エネルギ電子より放射され
る放射光が、電子蓄積リングの真空ダクト内部で散乱し
、吸着ガスの光解離、または光脱離により内壁よりの放
出ガス量が１〜２桁増大し、真空度が劣化してしまう問
題がある。それを防止するため、真空ダクト内の放射光
が直接照射される部位に、光学的に無反射となるような
構造体を備え、散乱光が広く真空ダクト内へ散乱しない
ようにした。
る放射光が、電子蓄積リングの真空ダクト内部で散乱し
、吸着ガスの光解離、または光脱離により内壁よりの放
出ガス量が１〜２桁増大し、真空度が劣化してしまう問
題がある。それを防止するため、真空ダクト内の放射光
が直接照射される部位に、光学的に無反射となるような
構造体を備え、散乱光が広く真空ダクト内へ散乱しない
ようにした。
本発明は放射光を利用する超高真空用真空ダクトの構造
に関する。
に関する。
電子蓄積リングは線幅０．５μｍ以下の超微細加工に必
要なＸ線露光光源として用いられている。
要なＸ線露光光源として用いられている。
超高真空に保たれた電子蓄積リング内を電子ビームは何
時間も回り続け、放射光はリングに設けられた偏向電磁
石の位置で電子ビームの軌道の外に取り出され露光のＸ
線源として利用される。
時間も回り続け、放射光はリングに設けられた偏向電磁
石の位置で電子ビームの軌道の外に取り出され露光のＸ
線源として利用される。
この場合の電子蓄積リングの性能を左右する電子蓄積寿
命は装置内の真空度で決まる。
命は装置内の真空度で決まる。
しかし、放射光のように高エネルギ光が真空ダクトの内
壁にあたると、光解＾■、または光脱離作用により、壁
面に吸着された多量のガスが放出されて装置内の真空度
が著しく劣化し、電子蓄積寿命を制限してしまう。この
ような装置を超高真空に保つには、真人な排気速度をも
つ真空ポンプが必要となる。
壁にあたると、光解＾■、または光脱離作用により、壁
面に吸着された多量のガスが放出されて装置内の真空度
が著しく劣化し、電子蓄積寿命を制限してしまう。この
ような装置を超高真空に保つには、真人な排気速度をも
つ真空ポンプが必要となる。
放射光があたっても、放出ガス量の増加が少なく真空劣
化を生じないような材料を用いることが望ましいが、現
在のところそのような理想的な材料はない。
化を生じないような材料を用いることが望ましいが、現
在のところそのような理想的な材料はない。
放射光があたっても真空劣化を生じないようにするため
には、壁にあたった放射光を反射、敗乱させない構造に
することが最も有望である。
には、壁にあたった放射光を反射、敗乱させない構造に
することが最も有望である。
従来、電子蓄積リングの真空ダクトはステンレス、また
はアルミニウム合金の滑らかな面をもつ材料でつくられ
ていた。そのため斜めに入射した放射光は効率よく反射
してしまい、真空ダクト内全体に散乱し、多量の放出ガ
スを出し、真空度を劣化させていた。
はアルミニウム合金の滑らかな面をもつ材料でつくられ
ていた。そのため斜めに入射した放射光は効率よく反射
してしまい、真空ダクト内全体に散乱し、多量の放出ガ
スを出し、真空度を劣化させていた。
従来の真空ダクトの内壁は放射光を効率よ（反射、散乱
して放出ガスを出して真空度を劣化させていた。
して放出ガスを出して真空度を劣化させていた。
上記問題点の解決は、放射光の照射される部位の内壁に
、放射光照射方向に開口面積が漸次減少する複数の開口
部を有する無反射端構造体を設けてなり、該無反射端構
造体が放射光に対して無反射、もしくは低反射である本
発明による真空ダクトにより達成される。
、放射光照射方向に開口面積が漸次減少する複数の開口
部を有する無反射端構造体を設けてなり、該無反射端構
造体が放射光に対して無反射、もしくは低反射である本
発明による真空ダクトにより達成される。
放射光が金属に照射された場合、斜め入射になるほど、
高エネルギ光まで反射するようになる。
高エネルギ光まで反射するようになる。
本発明は真空ダクト内に備えた無反射端構造体により、
垂直に近い入射光は勿論、斜め入射の高エネルギ光も照
射方向に向いた開口部内に形成された交差する２面で交
互に反射、吸収させて構造体の外部へ敗乱しないように
したものである。
垂直に近い入射光は勿論、斜め入射の高エネルギ光も照
射方向に向いた開口部内に形成された交差する２面で交
互に反射、吸収させて構造体の外部へ敗乱しないように
したものである。
従って、真空ダクト内壁に照射された光が敗乱して真空
ダクト内に敗らないため、光解離ガス、または光読離ガ
スの放出がなく、真空度の劣化を生しない。
ダクト内に敗らないため、光解離ガス、または光読離ガ
スの放出がなく、真空度の劣化を生しない。
第１図ｆｌ）、（２）は本発明の無反射端構造体を備え
た真空ダクトの断面図と斜視図である。
た真空ダクトの断面図と斜視図である。
図において、ステンレス、またはアルミニウムでつくら
れた真空ダク）１の内部の放射光があたる部位に、真空
ダクトｌと同様の材料でつくられた無反射端構造体２を
設置する。
れた真空ダク）１の内部の放射光があたる部位に、真空
ダクトｌと同様の材料でつくられた無反射端構造体２を
設置する。
このような無反射端構造体２は照射された放射光をすべ
て吸収するので、冷却水通路３に水を流して冷却する。
て吸収するので、冷却水通路３に水を流して冷却する。
第２図は無反射端構造体内に光が吸収されるまでの光の
経路を示す断面図である。
経路を示す断面図である。
無反射端に入射した放射光は図のように開口部内に形成
された交差する２面で交互に反射され、反射を繰り返し
ながら内部に進み吸収されてしまうので、外部に散乱す
ることはない。
された交差する２面で交互に反射され、反射を繰り返し
ながら内部に進み吸収されてしまうので、外部に散乱す
ることはない。
実施例に使用した無反射端構造体の寸法例はっぎの通り
である。
である。
真空ダクトの内径
Ｄｒ ×Ｉ）ｚ ＝ ２００ Ｘ ５０ｍｍ。
無反射端構造体：
Ｒ＋ ＝１９８０ ｍｍ、 Ｒｚ ＝２０００ ｍｍ。
ｒＩ＝ ６０ ｍｍ１ｒｚ ＝ ８０ ｍｍ。
ａ＝ ２０ ｍｍ＋ ｂ ＝ ４０ ｍｍ。
ｃ ＝ ２５ ｍｍ、 ｄ ＝ ２０ ｍｍ。
以上説明したよう番こ無反射端構造体により、真空ダク
ト１内に散乱光が充満することはなく、光解離ガス、ま
たは光読１離ガスの放出はない。
ト１内に散乱光が充満することはなく、光解離ガス、ま
たは光読１離ガスの放出はない。
以上詳細に説明したように本発明によれば、真空ダクト
の内壁にあたる放射光を吸収するため、真空度の劣化を
生じない。
の内壁にあたる放射光を吸収するため、真空度の劣化を
生じない。
従って、本発明を電子蓄積リングに通用することにより
、電子蓄積寿命の長い効率のよい装置が得られる。
、電子蓄積寿命の長い効率のよい装置が得られる。
第１図＋１＋、（２）は本発明の無反射端構造体を備え
た真空ダクトの断面図と斜視図、 第２図は無反射端構造体内に光が吸収されるまでの光の
経路を示す断面図である。 図において、 ■は真空ダクト、 ２は無反射端構造体、 ３は冷却水通路 （１） ＭｆＴ面図 （２）封視督 オ→で明の」Ｉ３７’クト 孕１図
た真空ダクトの断面図と斜視図、 第２図は無反射端構造体内に光が吸収されるまでの光の
経路を示す断面図である。 図において、 ■は真空ダクト、 ２は無反射端構造体、 ３は冷却水通路 （１） ＭｆＴ面図 （２）封視督 オ→で明の」Ｉ３７’クト 孕１図
Claims (1)
- 放射光の照射される部位の内壁に、放射光照射方向に開
口面積が漸次減少する複数の開口部を有する構造体を設
けてなり、該構造体が放射光に対して無反射、もしくは
低反射であることを特徴とする真空ダクト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15032586A JPS636796A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 真空ダクト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15032586A JPS636796A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 真空ダクト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS636796A true JPS636796A (ja) | 1988-01-12 |
Family
ID=15494550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15032586A Pending JPS636796A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 真空ダクト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS636796A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH025400A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 放射光発生装置 |
| US7067731B2 (en) | 1999-11-29 | 2006-06-27 | Yamaha Corporation | Sound source circuit and telephone terminal using same |
-
1986
- 1986-06-26 JP JP15032586A patent/JPS636796A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH025400A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 放射光発生装置 |
| US7067731B2 (en) | 1999-11-29 | 2006-06-27 | Yamaha Corporation | Sound source circuit and telephone terminal using same |
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