JPS636559A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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- JPS636559A JPS636559A JP14942086A JP14942086A JPS636559A JP S636559 A JPS636559 A JP S636559A JP 14942086 A JP14942086 A JP 14942086A JP 14942086 A JP14942086 A JP 14942086A JP S636559 A JPS636559 A JP S636559A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、浸漬塗布による電子写真感光体の製造方法に
関し、特に機能分離型電子写真感光体の電荷発生層を効
率的に塗布するための製造方法に関する。
関し、特に機能分離型電子写真感光体の電荷発生層を効
率的に塗布するための製造方法に関する。
従来の技術
従来より、感光層を電荷発生層と電荷輸送層に分は感度
や帯電特性等を向上させた機能分離型電子写真感光体が
実用化されている。それらの層は電荷発生顔料、又は電
荷輸送材料と成膜性の良い樹脂に分散又は相溶させ、塗
布して製造される。
や帯電特性等を向上させた機能分離型電子写真感光体が
実用化されている。それらの層は電荷発生顔料、又は電
荷輸送材料と成膜性の良い樹脂に分散又は相溶させ、塗
布して製造される。
電荷発生層に用いる結着樹脂の選択に当たっては、電荷
発生物質に対する分散性、分散液の安定性、導電層ある
いは下引層に対する密着性あるいは電荷輸送層中に含有
する行別溶剤に対する耐溶解性及び耐浸透性などの、塗
料としての性質を考慮する必要があり、ざらに使用する
結着樹脂の種類によって電子写真感光体の電子写真特性
、例えば感度、電位保持性あるいは光履歴特性、さらに
は耐久特性、例えば保存安定性、環境変化に対する耐久
性あるいは繰り返し使用した時の耐久性などが変動する
ため、これらの点についても十分に考慮する必要がある
。
発生物質に対する分散性、分散液の安定性、導電層ある
いは下引層に対する密着性あるいは電荷輸送層中に含有
する行別溶剤に対する耐溶解性及び耐浸透性などの、塗
料としての性質を考慮する必要があり、ざらに使用する
結着樹脂の種類によって電子写真感光体の電子写真特性
、例えば感度、電位保持性あるいは光履歴特性、さらに
は耐久特性、例えば保存安定性、環境変化に対する耐久
性あるいは繰り返し使用した時の耐久性などが変動する
ため、これらの点についても十分に考慮する必要がある
。
樹脂材料としては、ポリエステル、ポリスチレン、脂肪
酸セルロースエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル類、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラー
ルなどがあげられるが、これらの中では、特開昭59−
64848号公報にも記載されているように、ポリビニ
ルブチラール樹脂(以下rPVBJという。)が上記特
性を効果的に満足させる。
酸セルロースエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル類、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラー
ルなどがあげられるが、これらの中では、特開昭59−
64848号公報にも記載されているように、ポリビニ
ルブチラール樹脂(以下rPVBJという。)が上記特
性を効果的に満足させる。
また、塗布方法としては、円筒状基体の上に継ぎ目がな
く、平滑な表面が得られる点で、浸漬塗布が最良である
。PVB溶液に分散して電荷発生層を浸漬塗布する場合
、特開昭59−64848号公報には、不揮発分濃度を
0.3〜3%に調整し、引き上げ塗布速度を40cm1
分以下で塗布すべきことが記載されている。この方法は
、電荷発生層を0.03〜0.5μmの膜厚に塗布する
場合に、良好な表面性と膜厚が得られる最適の方法であ
る。
く、平滑な表面が得られる点で、浸漬塗布が最良である
。PVB溶液に分散して電荷発生層を浸漬塗布する場合
、特開昭59−64848号公報には、不揮発分濃度を
0.3〜3%に調整し、引き上げ塗布速度を40cm1
分以下で塗布すべきことが記載されている。この方法は
、電荷発生層を0.03〜0.5μmの膜厚に塗布する
場合に、良好な表面性と膜厚が得られる最適の方法であ
る。
発明が解決しようとする問題点
電荷発生層の膜厚は電子写真特性上、受容電位、感度、
光メモリー効果、耐久性、環境特性などに寄与している
が、顔料の種類によっては、膜厚をより厚く、0.5〜
5μmにしたい場合もある。
光メモリー効果、耐久性、環境特性などに寄与している
が、顔料の種類によっては、膜厚をより厚く、0.5〜
5μmにしたい場合もある。
例えば、電荷発生顔料としては、モノアゾ/ジスアゾ/
トリスアゾ/それ以上のポリアゾ顔料、多環キノン顔料
、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾー
ル顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料などが
知られており、これらのうち、アゾ系の顔料を用いて電
荷発生層を形成する場合には、0.03〜0.5μmの
膜厚が好適であるけれども、他の顔料の場合には、最適
膜厚が大でなければならないものもある。例えば、特開
昭47−18544M公報に記載されているアントアン
トロン、ピランスロン、ジベンズピレンキノン、ピレン
キノン、ジブロムアントアントロン、などの多環キノン
類、特開昭47−30330号公報に記載されているペ
リレン顔料、特開昭47−30331号公報に記載され
ているインジゴ顔料、特開昭47−18543号公報に
記載されているごスベンゾイミダゾール顔料、特開昭4
7−30332号公報に記載されているキナクリドン顔
料は、それぞれ真空蒸着により0.8μmの膜厚に形成
されているが、それら顔料を分散系塗液の形で塗布する
場合にはそれよりもざらに厚くする必要がある。ところ
が、従来の公知の塗布方法によっては、電荷発生層を厚
めに形成することができなかった。
トリスアゾ/それ以上のポリアゾ顔料、多環キノン顔料
、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾー
ル顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料などが
知られており、これらのうち、アゾ系の顔料を用いて電
荷発生層を形成する場合には、0.03〜0.5μmの
膜厚が好適であるけれども、他の顔料の場合には、最適
膜厚が大でなければならないものもある。例えば、特開
昭47−18544M公報に記載されているアントアン
トロン、ピランスロン、ジベンズピレンキノン、ピレン
キノン、ジブロムアントアントロン、などの多環キノン
類、特開昭47−30330号公報に記載されているペ
リレン顔料、特開昭47−30331号公報に記載され
ているインジゴ顔料、特開昭47−18543号公報に
記載されているごスベンゾイミダゾール顔料、特開昭4
7−30332号公報に記載されているキナクリドン顔
料は、それぞれ真空蒸着により0.8μmの膜厚に形成
されているが、それら顔料を分散系塗液の形で塗布する
場合にはそれよりもざらに厚くする必要がある。ところ
が、従来の公知の塗布方法によっては、電荷発生層を厚
めに形成することができなかった。
したがって、本発明の目的は、PVB溶液に電荷発生顔
料を分散して得た塗液を用いて浸漬塗布によって電荷発
生層を形成する際に、膜厚を0.5〜5μmに塗布でき
るような塗布方法を提供することにある。
料を分散して得た塗液を用いて浸漬塗布によって電荷発
生層を形成する際に、膜厚を0.5〜5μmに塗布でき
るような塗布方法を提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明は、基体上に少なくとも電荷発生層及び電荷輸送
層を形成させることよりなる電子写真感光体の製造方法
において、PV8溶液に電荷発生顔料を分散してなる塗
液を用い、浸漬塗布により基体上に電荷発生層を形成す
るに際し、該塗液の不揮発分濃度を5〜20%に調整し
、基体の引き上げ速度を5〜40cm分にして浸漬塗布
を行うことを特徴とする。
層を形成させることよりなる電子写真感光体の製造方法
において、PV8溶液に電荷発生顔料を分散してなる塗
液を用い、浸漬塗布により基体上に電荷発生層を形成す
るに際し、該塗液の不揮発分濃度を5〜20%に調整し
、基体の引き上げ速度を5〜40cm分にして浸漬塗布
を行うことを特徴とする。
本発明において用いるPVBは、次の構造式を3H7
(式中、p、m及びnのそれぞれの比は、m即ち、アセ
チル基が5モル%以下、g即ら、ブチラール基が60〜
81モル%、n即ち、水酸基がその残りとなっている。
チル基が5モル%以下、g即ら、ブチラール基が60〜
81モル%、n即ち、水酸基がその残りとなっている。
)
本発明において、電荷発生顔料をPVB溶液に分散して
浸漬塗布により0.5〜5μm厚の電荷発生層を形成す
るには、まず、塗液の不揮発分濃度を5〜20%にしな
ければならない。不揮発分濃度が5%未満の場合には、
基体の引き上げ速度を40cm1分をこえる高速度にぜ
ねばならなくなり、このような高速度では、塗膜のダレ
やムラがひどくなって、良好な結果が得られない。また
、20%をこえる場合には、引き上げ速度をいくら遅く
しても、最適膜厚を得ることが困難でおる。
浸漬塗布により0.5〜5μm厚の電荷発生層を形成す
るには、まず、塗液の不揮発分濃度を5〜20%にしな
ければならない。不揮発分濃度が5%未満の場合には、
基体の引き上げ速度を40cm1分をこえる高速度にぜ
ねばならなくなり、このような高速度では、塗膜のダレ
やムラがひどくなって、良好な結果が得られない。また
、20%をこえる場合には、引き上げ速度をいくら遅く
しても、最適膜厚を得ることが困難でおる。
また、本発明において、被塗布物である基体の引き上げ
速度は、5〜40cm1分にする必要がある。引き上げ
速度が5cm1分未満の場合には、製造上の効率が悪く
なり、好ましくない。また40cm1分をこえる場合に
は、上述のような好ましくない結果が得られ、不適当で
ある。
速度は、5〜40cm1分にする必要がある。引き上げ
速度が5cm1分未満の場合には、製造上の効率が悪く
なり、好ましくない。また40cm1分をこえる場合に
は、上述のような好ましくない結果が得られ、不適当で
ある。
したがって、本発明においては、塗液の不揮発分濃度を
5〜20%として基体の引き上げ速度を5〜40cm1
分とすることが0.5〜5μm厚の電荷発生層を形成す
るために必須の要件となる。
5〜20%として基体の引き上げ速度を5〜40cm1
分とすることが0.5〜5μm厚の電荷発生層を形成す
るために必須の要件となる。
電荷発生層の形成について、更に詳しく述べる。
塗液は顔料をPVB塗液に分散させて得られるが、顔料
を溶剤のみに分散し、その後、分散液にPVB溶液を加
えて調整してもよい。塗液における顔料と樹脂の配合比
は、40:1〜1:4、好ましくは20:1〜1:2程
度に設定される。PVBは顔料の分散安定度を良好に維
持するので樹脂分を多く加えなくとも顔料の凝集は起こ
りにくく、この点からも本発明におけるPVBの使用は
有利である。
を溶剤のみに分散し、その後、分散液にPVB溶液を加
えて調整してもよい。塗液における顔料と樹脂の配合比
は、40:1〜1:4、好ましくは20:1〜1:2程
度に設定される。PVBは顔料の分散安定度を良好に維
持するので樹脂分を多く加えなくとも顔料の凝集は起こ
りにくく、この点からも本発明におけるPVBの使用は
有利である。
電荷発生顔料をPVB溶液に分散させる方法としては、
ボールミル、ロールミル、アトライター、サンドミル、
アジテータ−ミル等を用いる常法が適用できる。分散に
は、界面活性剤や各種の分散助剤を併用することも有効
である。分散終了後、分散液に適量の溶剤を加えて不揮
発分濃度を5〜20%に調整して塗液を得る。分散にさ
いして用いられる溶剤としては、プロパツール、ブタノ
ール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、メトキシエタノール、エト
キシエタノール等のセロソルブ類、酢酸メトキシエチル
、酢酸エトキシエチル等のセロソルブアセテート類が好
適である。これら溶剤は単独でも複数種併用してもよい
。
ボールミル、ロールミル、アトライター、サンドミル、
アジテータ−ミル等を用いる常法が適用できる。分散に
は、界面活性剤や各種の分散助剤を併用することも有効
である。分散終了後、分散液に適量の溶剤を加えて不揮
発分濃度を5〜20%に調整して塗液を得る。分散にさ
いして用いられる溶剤としては、プロパツール、ブタノ
ール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、メトキシエタノール、エト
キシエタノール等のセロソルブ類、酢酸メトキシエチル
、酢酸エトキシエチル等のセロソルブアセテート類が好
適である。これら溶剤は単独でも複数種併用してもよい
。
次に、上記塗液を用いて塗布するざいに用いる浸漬IN
装置について、第1図によって説明する。
装置について、第1図によって説明する。
塗液1は塗布槽2に満たされ、ざらにポンプ10によっ
て塗布槽下部の供給ロアから供給され、オーバーフロー
したオーバーフロー液4は排出口6からタンク11に戻
り、循環される。円筒状基体3は適宜の方法で昇降する
ようにし、塗布槽中に浸漬する。塗布槽上部には、壁面
5、ふた8、塗料受け9が設けられている。
て塗布槽下部の供給ロアから供給され、オーバーフロー
したオーバーフロー液4は排出口6からタンク11に戻
り、循環される。円筒状基体3は適宜の方法で昇降する
ようにし、塗布槽中に浸漬する。塗布槽上部には、壁面
5、ふた8、塗料受け9が設けられている。
本発明では、電荷発生層の塗布工程において、基体を塗
液中に浸漬した後、引き上げる時の速度を5〜40cm
1分に制御する。基体を浸漬する時と引き上げる時とで
、オーバーフローの液量は異なるが、ざしつかえない。
液中に浸漬した後、引き上げる時の速度を5〜40cm
1分に制御する。基体を浸漬する時と引き上げる時とで
、オーバーフローの液量は異なるが、ざしつかえない。
また、循環系の途中に、フィルター12を設けてもよい
。
。
次に、形成された電荷発生層の上に電荷輸送層を形成さ
せる。即ち、芳香族第3級アミノ化合物、ヒドラゾン化
合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、オキサ
ジアゾール化合物、スチルベン誘導体、カルバゾール化
合物等の電荷輸送物質をポリカーボネート、ポリアシレ
ート、ポリエステル、ポリスチレン、スチレン−アクリ
ロニトリルコポリマー、ポリスルホン、ポリメタクリル
酸エステル類、スチレン−メタクリル酸エステルコポリ
マー等と共に適宜の溶剤に溶解し、得られた塗液を電荷
発生層上に塗布する。電荷輸送層の膜厚は5〜50μm
程度が好ましい。
せる。即ち、芳香族第3級アミノ化合物、ヒドラゾン化
合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、オキサ
ジアゾール化合物、スチルベン誘導体、カルバゾール化
合物等の電荷輸送物質をポリカーボネート、ポリアシレ
ート、ポリエステル、ポリスチレン、スチレン−アクリ
ロニトリルコポリマー、ポリスルホン、ポリメタクリル
酸エステル類、スチレン−メタクリル酸エステルコポリ
マー等と共に適宜の溶剤に溶解し、得られた塗液を電荷
発生層上に塗布する。電荷輸送層の膜厚は5〜50μm
程度が好ましい。
また、本発明においては、電荷発生層と基体の間に障壁
層を形成してもよい。障壁層は、基体からの不必要な電
荷注入を阻止するために有効であり、帯電特性の向上や
、画質の向上をもたらすことができる。ざらに基体での
接着性を向上させることもできる。障壁層の構成材料と
しては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン
、ポリビニルピリジン、セルロースエーテル類、セルロ
ースエステル類、ポリアミド、ポリウレタン、カゼイン
、ゼラチン、ポリグルタミン酸、でんぷん、スターチア
セテート、アミンスターチ、ポリアクリル酸塩、ポリア
クリルアミド等があげられける。
層を形成してもよい。障壁層は、基体からの不必要な電
荷注入を阻止するために有効であり、帯電特性の向上や
、画質の向上をもたらすことができる。ざらに基体での
接着性を向上させることもできる。障壁層の構成材料と
しては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン
、ポリビニルピリジン、セルロースエーテル類、セルロ
ースエステル類、ポリアミド、ポリウレタン、カゼイン
、ゼラチン、ポリグルタミン酸、でんぷん、スターチア
セテート、アミンスターチ、ポリアクリル酸塩、ポリア
クリルアミド等があげられける。
これら材料の抵抗率は10〜1014Ω・cm程度であ
ることが好ましい。障壁層の膜厚は0.05〜2μm程
度が好適でおる。
ることが好ましい。障壁層の膜厚は0.05〜2μm程
度が好適でおる。
実施例
以下、本発明を実施例によって説明する。
PVB (商品名:BMl 漬水化学11製>1部(
a滑部、以下に同じ)をシクロへキサノン19部に溶解
した。この溶液20部にジブロムアントアントロン顔料
(C,1,Pigment Red 168)8部を混
合し、次いてサンドミルによって分散処理を行った。分
散後の平均粒径は0.4μmであった。分散液に更にシ
クロヘキサノンを加えて、各種の不揮発分濃度の塗液を
作成した。
a滑部、以下に同じ)をシクロへキサノン19部に溶解
した。この溶液20部にジブロムアントアントロン顔料
(C,1,Pigment Red 168)8部を混
合し、次いてサンドミルによって分散処理を行った。分
散後の平均粒径は0.4μmであった。分散液に更にシ
クロヘキサノンを加えて、各種の不揮発分濃度の塗液を
作成した。
一方、基体として、84φX 338mのアルミニウム
パイプを用いた。第1図に示す浸漬塗布機により、上記
塗液を上記アルミニウムパイプ上に浸漬塗布し、電荷発
生層を形成した。不揮発分濃度、塗液の状態、引き上げ
速度及び膜厚を第1表に示す。
パイプを用いた。第1図に示す浸漬塗布機により、上記
塗液を上記アルミニウムパイプ上に浸漬塗布し、電荷発
生層を形成した。不揮発分濃度、塗液の状態、引き上げ
速度及び膜厚を第1表に示す。
第1表
次に、形成された電荷発生層の上、電荷輸送層を形成し
た。即ち、N、N−ジフェニル−N、N−ビス(3−メ
チルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4.4’
−ジアミン5部を電荷輸送材料とし、ポリカーボネート
Z樹脂6部と共にモノクロルベンゼン40部に溶解させ
、得られた溶液を浸漬塗布装置によって’I”Icm1
分の引き上げ速度で塗布した。110°Cで1時間の乾
燥をして20μm厚の電荷輸送層を形成し、電子写真感
光体を得た。
た。即ち、N、N−ジフェニル−N、N−ビス(3−メ
チルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4.4’
−ジアミン5部を電荷輸送材料とし、ポリカーボネート
Z樹脂6部と共にモノクロルベンゼン40部に溶解させ
、得られた溶液を浸漬塗布装置によって’I”Icm1
分の引き上げ速度で塗布した。110°Cで1時間の乾
燥をして20μm厚の電荷輸送層を形成し、電子写真感
光体を得た。
得られたそれぞれの電子写真感光体に対し、−800V
となるようコロナ帯電を施し、次いで、F3ergS/
ciの白色光を照射した部分の電位(VBKこする。)
と光を照射しない部分の電位(V[)とする。)を測定
した。また、電子写真感光体を電子複写機に入れて、コ
ピー画像の検討も行った。
となるようコロナ帯電を施し、次いで、F3ergS/
ciの白色光を照射した部分の電位(VBKこする。)
と光を照射しない部分の電位(V[)とする。)を測定
した。また、電子写真感光体を電子複写機に入れて、コ
ピー画像の検討も行った。
結果を第2表に示す。
第2表
以上の結果から、不揮発分濃度5〜40cm1分、かつ
、引き上げ速度5〜40cm1分で塗布した場合、膜厚
が1〜4μmの電荷発生層が良好な状態で得られること
が分る。
、引き上げ速度5〜40cm1分で塗布した場合、膜厚
が1〜4μmの電荷発生層が良好な状態で得られること
が分る。
比較例
実施例と同じ顔料(ジブロムアントアントロン)を用い
、樹脂のみを下記のものに代える以外は同様に分散処理
を行った。
、樹脂のみを下記のものに代える以外は同様に分散処理
を行った。
しかしながら、得られたいずれの分散液も、で果物の集
合体が存在しており、流動性の液体を得ることはできず
、したがって、浸漬塗布には供することができなかった
。
合体が存在しており、流動性の液体を得ることはできず
、したがって、浸漬塗布には供することができなかった
。
O酢酸醋酸セルロース樹脂
(商品名: CA3381 イーストマン化学製)Q
ポリエステル樹脂 (商品名:バイロン200東洋紡(t、Q製)○ポリス
チレン樹脂 (商品名: HH102三菱モン三菱トンサンド○アク
リル樹脂 (商品名: BR80三菱レーヨン■製)発明の効果 本発明の製造方法を適用すれば、0.5〜5μm厚の電
荷発生層を能率的に、かつ安定的に形成することができ
、電子写真感光体の生産性向上をもたらすことができる
。
ポリエステル樹脂 (商品名:バイロン200東洋紡(t、Q製)○ポリス
チレン樹脂 (商品名: HH102三菱モン三菱トンサンド○アク
リル樹脂 (商品名: BR80三菱レーヨン■製)発明の効果 本発明の製造方法を適用すれば、0.5〜5μm厚の電
荷発生層を能率的に、かつ安定的に形成することができ
、電子写真感光体の生産性向上をもたらすことができる
。
本発明により(qられた電子写真感光体は、電子写真複
写機に有効に使用されるが、ざらにゼログラフィー技術
を応用した各種のプリンター、マイクロフィルムリーダ
ー、電子写真製版システム等にも適用可能である。
写機に有効に使用されるが、ざらにゼログラフィー技術
を応用した各種のプリンター、マイクロフィルムリーダ
ー、電子写真製版システム等にも適用可能である。
図面は本発明の製造方法に使用する装置の一例の概略断
面図である。 1・・・塗液、2・・・塗布槽、3・・・基体、4・・
・オーバーフロー液、5・・・壁面、6・・・排出口、
7・・・供給口、8・・・ふた、9・・・受は器、10
・・・ポンプ、11・・・り、 ンク、12・・・フィ
ルター。
面図である。 1・・・塗液、2・・・塗布槽、3・・・基体、4・・
・オーバーフロー液、5・・・壁面、6・・・排出口、
7・・・供給口、8・・・ふた、9・・・受は器、10
・・・ポンプ、11・・・り、 ンク、12・・・フィ
ルター。
Claims (1)
- 基体上に少なくとも電荷発生層及び電荷輸送層を形成さ
せることよりなる電子写真感光体の製造方法において、
ポリビニルブチラール樹脂溶液に電荷発生顔料を分散し
てなる塗液を用い、浸漬塗布によって基体上に電荷発生
層を形成させるに際し、該塗液の不揮発分濃度を5〜2
0%に調整し、基体の引き上げ速度を5〜40cm/分
にして浸漬塗布することを特徴とする電子写真感光体の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14942086A JPS636559A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14942086A JPS636559A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS636559A true JPS636559A (ja) | 1988-01-12 |
JPH0518420B2 JPH0518420B2 (ja) | 1993-03-11 |
Family
ID=15474721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14942086A Granted JPS636559A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS636559A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0269760A (ja) * | 1988-09-06 | 1990-03-08 | Canon Inc | 電子写真感光体の層形成法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5964848A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-12 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP14942086A patent/JPS636559A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5964848A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-12 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0269760A (ja) * | 1988-09-06 | 1990-03-08 | Canon Inc | 電子写真感光体の層形成法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0518420B2 (ja) | 1993-03-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |