JPS6365221U - - Google Patents

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JPS6365221U
JPS6365221U JP15946786U JP15946786U JPS6365221U JP S6365221 U JPS6365221 U JP S6365221U JP 15946786 U JP15946786 U JP 15946786U JP 15946786 U JP15946786 U JP 15946786U JP S6365221 U JPS6365221 U JP S6365221U
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JP
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etching
substrate
etched
storage tank
inclined nozzle
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JP15946786U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案のエツチング装置の一実施例の
概略全体構成図、第2図a,bは第1図の傾斜ノ
ズルの詳細図であり、第2図aは断面図、第2図
bは吐出口部分図である。 1……エツチング液、2……Si半導体基板、
3……貯留槽、4……ポンプ、5……温調器、6
……傾斜ノズル、7……リニアモータ、8……回
転体。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. エツチング液を被エツチング基板の片面に噴流
    させてエツチングを行うエツチング装置において
    、前記エツチング液の貯留槽と、この貯留槽の水
    位を一定に流量制御するポンプと、エツチング液
    の温度制御を行う温調器と、前記貯留槽から流出
    するエツチング液の流路を複数に分岐せしめ、こ
    れを一体形成し、前記被エツチング基板のエツチ
    ング面に対していずれの吐出口も等距離で、且つ
    、所定の角度、例えば45度に傾斜せしめたもの
    から形成される傾斜ノズルと、この傾斜ノズルを
    前記被エツチング基板に対して平行移動させる移
    動機構と、前記被エツチング基板を支持するター
    ンテーブルを有する回転体のそれぞれから構成さ
    れることを特徴とするエツチング装置。
JP15946786U 1986-10-20 1986-10-20 Expired JPH029548Y2 (ja)

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JP15946786U JPH029548Y2 (ja) 1986-10-20 1986-10-20

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15946786U JPH029548Y2 (ja) 1986-10-20 1986-10-20

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Publication Number Publication Date
JPS6365221U true JPS6365221U (ja) 1988-04-30
JPH029548Y2 JPH029548Y2 (ja) 1990-03-09

Family

ID=31083929

Family Applications (1)

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JP15946786U Expired JPH029548Y2 (ja) 1986-10-20 1986-10-20

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JP (1) JPH029548Y2 (ja)

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Publication number Publication date
JPH029548Y2 (ja) 1990-03-09

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