JPS62192637U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS62192637U JPS62192637U JP8148886U JP8148886U JPS62192637U JP S62192637 U JPS62192637 U JP S62192637U JP 8148886 U JP8148886 U JP 8148886U JP 8148886 U JP8148886 U JP 8148886U JP S62192637 U JPS62192637 U JP S62192637U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- pressurized water
- water outlet
- chamber
- drain port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
第１図は、本考案の一実施例における平面図、
第２図Ａは、半導体ウエハスクラブ時における第
１図のＡ―Ａ線断面図、第２図Ｂは半導体ウエハ
乾燥及びハンドリング時における第１図のＡ―Ａ
線断面図である。第３図は従来例を示す図である
。 １……チヤンバー、２……加圧水流口、３……
排水口、４……水流加圧機、５……加圧水流路、
６……位置可変可能ノズル、７……排水路、８…
…フイルター、９……半導体ウエハステージ、１
０……Ｏリング、１１……半導体ウエハ、１２…
…吸引系路、１３……吸引ポンプ、１４……純水
、１５……モーター、１６……加圧純水、１７…
…大気。
第２図Ａは、半導体ウエハスクラブ時における第
１図のＡ―Ａ線断面図、第２図Ｂは半導体ウエハ
乾燥及びハンドリング時における第１図のＡ―Ａ
線断面図である。第３図は従来例を示す図である
。 １……チヤンバー、２……加圧水流口、３……
排水口、４……水流加圧機、５……加圧水流路、
６……位置可変可能ノズル、７……排水路、８…
…フイルター、９……半導体ウエハステージ、１
０……Ｏリング、１１……半導体ウエハ、１２…
…吸引系路、１３……吸引ポンプ、１４……純水
、１５……モーター、１６……加圧純水、１７…
…大気。
Claims (1)
- 加圧水流口と排水口及び半導体ウエハステージ
が出入りできるチヤンバーを有し、前記加圧水流
口に位置可変可能ノズルを有することを特徴とす
る半導体ウエハジエツトスクラブ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8148886U JPS62192637U (ja) | 1986-05-28 | 1986-05-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8148886U JPS62192637U (ja) | 1986-05-28 | 1986-05-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62192637U true JPS62192637U (ja) | 1987-12-08 |
Family
ID=30933269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8148886U Pending JPS62192637U (ja) | 1986-05-28 | 1986-05-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62192637U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03263831A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Dan Clean Prod:Kk | スプレー洗浄装置 |
| JPH03263832A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Dan Clean Prod:Kk | エアブロー装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5736833A (ja) * | 1980-08-15 | 1982-02-27 | Hitachi Ltd | Uehasenjohohooyobisochi |
| JPS5999725A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-08 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハ処理装置 |
-
1986
- 1986-05-28 JP JP8148886U patent/JPS62192637U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5736833A (ja) * | 1980-08-15 | 1982-02-27 | Hitachi Ltd | Uehasenjohohooyobisochi |
| JPS5999725A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-08 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハ処理装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03263831A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Dan Clean Prod:Kk | スプレー洗浄装置 |
| JPH03263832A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Dan Clean Prod:Kk | エアブロー装置 |