JPS6359266B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6359266B2 JPS6359266B2 JP57135084A JP13508482A JPS6359266B2 JP S6359266 B2 JPS6359266 B2 JP S6359266B2 JP 57135084 A JP57135084 A JP 57135084A JP 13508482 A JP13508482 A JP 13508482A JP S6359266 B2 JPS6359266 B2 JP S6359266B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- gate electrode
- electrode
- passivation film
- amorphous silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57135084A JPS5927574A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | セルフアライメント形薄膜トランジスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57135084A JPS5927574A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | セルフアライメント形薄膜トランジスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5927574A JPS5927574A (ja) | 1984-02-14 |
JPS6359266B2 true JPS6359266B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-11-18 |
Family
ID=15143451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57135084A Granted JPS5927574A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | セルフアライメント形薄膜トランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5927574A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6190188A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 薄膜表示装置 |
JPS61139069A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-26 | Fuji Xerox Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JPS61145531A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPS61156771A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-16 | Fujitsu Ltd | 薄膜半導体装置の製造方法 |
JPS61162048A (ja) * | 1985-01-10 | 1986-07-22 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH0691105B2 (ja) * | 1985-02-15 | 1994-11-14 | 株式会社日立製作所 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPH07101742B2 (ja) * | 1985-04-09 | 1995-11-01 | 富士通株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPS62171160A (ja) * | 1986-01-22 | 1987-07-28 | Sharp Corp | 薄膜トランジスタ |
JPH0680685B2 (ja) * | 1986-12-29 | 1994-10-12 | 日本電気株式会社 | 薄膜トランジスタとその製造方法 |
JPS644071A (en) * | 1987-06-26 | 1989-01-09 | Nippon Telegraph & Telephone | Thin film transistor and manufacture thereof |
JPH01173650A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-10 | Seikosha Co Ltd | 非晶質シリコン薄膜トランジスタの製造方法 |
-
1982
- 1982-08-04 JP JP57135084A patent/JPS5927574A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5927574A (ja) | 1984-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5045487A (en) | Process for producing a thin film field-effect transistor | |
WO2017008370A1 (zh) | 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构 | |
CN1309034C (zh) | 底栅控制型多晶硅薄膜晶体管的制造方法 | |
JPS62124775A (ja) | 傾斜エツチングによる薄膜トランジスタの製造方法および薄膜トランジスタ | |
JPS6359266B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
WO2017177498A1 (zh) | Tft基板及其制作方法 | |
CN103474396A (zh) | Tft-lcd阵列基板的制造方法 | |
JP3844745B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
JP2678044B2 (ja) | アクティブマトリクス基板の製造方法 | |
CN101017832A (zh) | 薄膜晶体管基板及其制造方法以及具有该基板的显示面板 | |
CN100580939C (zh) | 显示器件及其制造方法 | |
JP3857142B2 (ja) | 液晶用マトリクス基板の製造方法 | |
JPH0612780B2 (ja) | 薄膜トランジスタアレイの製造法 | |
JPS5927575A (ja) | セルフアライメント形薄膜トランジスタの製造方法 | |
JP2877363B2 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPH06177387A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
JPS5927576A (ja) | セルフアライメント形薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPS62132367A (ja) | 薄膜電界効果型トランジスタ | |
JPH03271720A (ja) | アクティブマトリクス型表示装置の薄膜トランジスタアレイの製造方法 | |
JPH0262050A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPH05134271A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPH02211635A (ja) | 電界効果トランジスターの製造方法 | |
JPH07131024A (ja) | 液晶表示装置における薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPS63155766A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
JPS61224362A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 |