JPS6344744B2 - - Google Patents

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JPS6344744B2
JPS6344744B2 JP59278997A JP27899784A JPS6344744B2 JP S6344744 B2 JPS6344744 B2 JP S6344744B2 JP 59278997 A JP59278997 A JP 59278997A JP 27899784 A JP27899784 A JP 27899784A JP S6344744 B2 JPS6344744 B2 JP S6344744B2
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JP
Japan
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fluorine
peroxide
polymerization
monomers
coo
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JP59278997A
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JPS61152652A (ja
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Masahiko Oka
Shigeru Morita
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Kogyo Co Ltd
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Publication of JPS6344744B2 publication Critical patent/JPS6344744B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C407/00Preparation of peroxy compounds

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は含フツ素ジアシルパーオキサイドおよ
びその用途、特にエチレン性不飽和モノマーの重
合開始剤としての用途に関する。
これまで、多くのジアシルパーオキサイドの合
成に関する研究がなされ、高分子工業において有
用な様々なジアシルパーオキサイドが合成され、
市販されている。
含フツ素モノマーの重合に対しても、種々のパ
ーオキサイド化合物の利用が検討されてきたが、
一般に 1 含フツ素モノマーの多くは重合反応性が高い
ので、より緩慢な条件、たとえば低温条件下で
重合を行うのが有利であり、そのためには低温
で活性なラジカルを発生し得るパーオキサイド
が望ましいこと、 2 重合反応中に生成する含フツ素ポリマーの生
長鎖ラジカル活性であるため、連鎖移動反応等
の副反応を起こしにくいパーオキサイドである
こと、 3 さらに重合反応の結果、ポリマー末端に導入
されるパーオキサイドの切片は熱に対して安定
性が高いこと などの要求から、主として含フツ素ジアシルパー
オキサイドが用いられてきた。たとえば、式: [Cl(CFClCF2)nCF2COO―]2 (DLP) [H(CF2CF2)nCOO―]2 (DHP) [ClCF2CF2COO―]2 (DIP) [CF3CF2COO―]2 (3P) で示される化合物が知られている。しかし、いづ
れも実用分解速度を得るには10〜40℃またはそれ
以上の重合温度が必要である。
本発明者らは、同様な観点から含フツ素パーオ
キサイド化合物の合成に関して永年研究を続けて
きたが、一般式: [ROCH2CF2COO―]2 () [式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基または
含ハロゲン炭化水素基を表す。] で示される含フツ素ジアシルパーオキサイドはよ
り低温で容易にラジカルを発生し、効率よくモノ
マーの重合を起こし得ることを見い出した。ま
た、驚くべきことに、含フツ素ジアシルパーオキ
サイド()の存在下で重合して得られたポリマ
ーは、その末端に反応性の高い水酸基を導入で
き、いわゆるテレケリツクポリマーとなる可能性
があるという別の特徴も見い出した。なお、特別
な重合開始剤を使つてフツ素系のテレケリツクポ
リマーを製造する試みはこれまでも検討された
が、水酸基を末端に持つテレケリツクポリマーは
知られていない。
本発明は、上記知見に基づいて完成されたもの
であつて、その要旨は上記一般式()で示され
る含フツ素ジアシルパーオキサイドおよびそれか
ら成るエチレン性不飽和モノマー用重合開始剤に
存する。
一般式()のRは、炭素数1〜10の炭化水素
基または含ハロゲン炭化水素基であり、飽和また
は不飽和の脂肪族炭化水素基、もしくは芳香族炭
化水素基のいずれも包含し、置換基を有していて
もよい。これらの具体例としては、エチル、メチ
ル、異性体プロピル、異性体ブチル、ペンチル、
アリル、フエニル、トリフエニルメチル、クロロ
エチル、クロロプロピル、2,2,3,3―テト
ラフルオロプロピル、2,2,2―トリフルオロ
エチルなどである。代表的な本発明の含フツ素ジ
アシルパーオキサイドを以下に示す。
(CH3OCH2CF2COO―)2 (CH3CH2OCH2CF2COO―)2 [(CH33COCH2CF2COO―]2 (CF3CH2OCH2CF2COO―)2 含フツ素ジアシルパーオキサイド()は新規
化合物であり、これらは、一般式:
ROCH2CF2COX () [式中、Rは前記と同意義。Xはハロゲン、た
とえばフツ素、塩素、臭素、沃素を表す。] で示される酸ハロゲン化物とNa2O2とを反応させ
ることにより製造することができる。この場合、
酸ハロゲン化物とNa2O3とを水中で反応させた
後、適当な溶媒で抽出することにより得られる。
溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、ヘ
キサン、ヘプタン等、水に不溶性の液体炭化水素
が用いられる。反応温度としては―20〜0℃が採
用される。
本発明の含フツ素ジアシルパーオキサイド
()を用いて重合できるモノマーとしては、エ
チレン性不飽和結合を持つモノマーが広く対象と
なる。具体的には、炭化水素系モノマーとして
は、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、酢酸ビニル、酪酸ビニル、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸またはメタクリル
酸のエステル(たとえば、メチルエステル)、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、アクロレイン、メチルビニルケトン、メチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、フマ
ル酸ジエチル、スチレンを挙げることができ、含
フツ素炭化水素系モノマーとしては、フツ化ビニ
ル、フツ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、
テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロペ
ン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、クロ
ロトリフルオロエチレンなどを挙げることができ
る。これらは単独でまたは2種以上を混合して用
いることができる。
本発明の含フツ素ジアシルパーオキサイド
()を用いた重合は、従来のこれらモノマーの
重合に採用される条件で行うことができ、通常、
―10〜+30℃で開始することができる。重合は溶
媒中で行うのが好ましく、溶媒としては、特に含
フツ素炭化水素系モノマーの重合の場合には、連
鎖多動反応を受けにくいパーフルオロケロシン、
オクタフルオロジクロロブタン、1,1,2―ト
リフルオロ―1,2,2―トリクロロエタン、
1,2―ジフルオロ―1,1,2,2―テトラフ
ルオロエタンなどの含フツ素溶媒が用いられる。
本発明の含フツ素ジアシルパーオキサイド
()は、未端にエーテル基を含有しているが、
これは種々のモノマーの重合後、熱処理により、
あるいは鉱酸(たとえば、塩酸、臭化水素酸な
ど)または有機酸(たとえば、トリフルオロ酢酸
など)で処理することにより、容易に水酸基に変
換することができる。また、フツ素を含有してい
るため、低温で分解するから、種々のモノマーに
対して比較的緩やかな条件で使用でき、多くの有
用なポリマーの製造に開始剤として用いることが
できる。特に含フツ素モノマーに対して高い活性
を有しており、高効率でラジカル重合を開始でき
る。このことは、本発明の含フツ素ジアシルパー
オキサイド()が、従来のパーオキサイド化合
物に比べて短い半減期を有していることからも確
認される。
次に実施例を示し、本発明を具体的に説明す
る。
実施例 1 [(CH33COCH2CF2COO―]2の合成: 塩化ナトリウム10gを純水40gに溶解し、撹拌
機付フラスコに入れ、―20℃に冷却した。これに
Na2O21.0gを加え、α,α―ジフルオロ―β―
t―ブトキシプロピオン酸クロライド(52〜53
℃/30mmHg)5.0gを徐々に滴下した。この間、
十分に撹拌を行い、温度は―20℃に保つた。滴下
終了後、同温度で30分間撹拌し、さらに1,1,
2―トリクロロ1,2,2―トリフルオロエタン
5mlを加え、さらに同温度で30分間撹拌した。そ
の後、有機層約6mlを分離した。沃素滴定法によ
り標記パーオキサイドの量を求めたところ、約
0.3g/mlの濃度であつた。
実施例 2 スケールを5倍にする以外は実施例1と同様の
手順を繰り返したところ、標記パーオキサイドを
濃度0.29g/mlで含む反応溶液約30mlが得られ
た。
実施例 3 分解速度の測定: 実施例2で得たパーオキサイド溶液1mlを1,
1,2―トリクロロ―1,2,2―トリフルオロ
エタン9mlと混合し、窒素雰囲気中、20℃の水浴
上で分解させ、濃度の変化を調べたところ、同温
度での半減期は約22分であつた。
また、同様にして10℃における半減期を測定し
たところ、約128分であつた。
なお、分解の活性化エネルギーは約28Kcal/
molとなつた。
参考の為、従来のパーオキサイド化合物の20℃
における半減期を示す。
DLP 385分 DHP 360分 DIP 1066分 実施例 4 フツ化ビニリデン17.1g、パーフルオロプロピ
レン19.2gおよび実施例2で得たパーオキサイド
のトリクロロトリフルオロエタン溶液2mlを、ス
テンレス製反応容器に仕込み、20℃において21時
間重合を行なつた。この間、容器内の圧力は、22
Kg/cm2Gから20Kg/cm2Gまで低下した。
重合終了後、未反応モノマーを蒸発させて液状
ポリマー3.5gを得た。
IRおよびNMRで分析したところ、フツ化ビニ
リデン/パーフルオロプロピレンのモル比は、
77.3/22.7であり、t―ブチル基を含有してい
た。GPC測定より、平均分子量は約4500と求め
られた。
実施例 5 末端水酸基化: 実施例4で得たポリマーの一部を200℃で3時
間加熱したところ、IRおよびNMR分析の結果に
よれば、t―ブチル基が約20%残り、他の約80%
は水酸基に変換されていた。
実施例 6 末端水酸基化: 実施例4で得たポリマーの一部をトリフルオロ
酢酸で一夜処理した後、水洗し、乾燥した。IR
およびNMRの結果によれば、t―ブチル基が約
8%残り、他の92%は水酸基に変換されていた。
実施例 7 スチレンモノマー2mlおよび実施例2で得たパ
ーオキサイドのトリフルオロトリクロロエタン溶
液1mlをガラスアンプル中に入れ、脱気後室温で
5時間反応させた。
反応終了後、内容物をメタノール中に投入し、
得られたポリマーの分子量をGPCで測定したと
ころ3080であつた。このポリマーを実施例6の手
順に従つて処理したところ、両末端に水酸基を持
つポリスチレンが得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: [ROCH2CF2COO―]2 [式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基または
    含ハロゲン炭化水素基を表す] で示される含フツ素ジアシルパーオキサイド。 2 一般式: [ROCH2CF2COO―]2 [式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基または
    含ハロゲン炭化水素基を表す。] で示される含フツ素ジアシルパーオキサイドから
    成るエチレン性不飽和モノマー用重合開始剤。 3 エチレン性不飽和モノマーが含フツ素エチレ
    ン性不飽和モノマーである特許請求の範囲第2項
    記載の開始剤。
JP59278997A 1984-12-27 1984-12-27 含フツ素ジアシルパ−オキサイドおよびその用途 Granted JPS61152652A (ja)

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