JPS6342370A - 蒸着膜厚制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空蒸着膜の膜厚制御装置に関し、特に、同一
蒸着基板上に異なる膜厚の蒸着膜を形成するための蒸着
膜厚制御装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、１枚の蒸着基板上に異なる膜厚の蒸着膜を形成す
るには、第３図のように、蒸着基板３１と蒸発源との間
に可動のしゃへい板３２を置き、蒸着時にじゃへい板３
２を動かして、蒸着基板３１上のしゃへい部分を移動さ
せることによって、蒸着膜の膜厚を変化させていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述した従来の蒸着膜厚制御装置では、蒸着基板上に比
較的長時間連続して蒸着される部分と比較的短時間連続
して蒸着される部分とをつくり出すことによって異なる
膜厚の蒸着膜を形成しているため、蒸着中の蒸着レート
の変動が基板上の特定の部分にのみ影響を及ぼし、期待
する膜厚を正確に得ることが困難である。

上述した従来の蒸着膜厚制御装置に対し、本発明は開口
部を有する帯状じやへい板を、蒸着基板をはさむような
形に設定し、かつ、しやへい板を２つのローラーで動か
すことにより膜厚を制御するという独創的内容を有する
。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の蒸着膜厚制御装置は、蒸発源から蒸着基板へ飛
来する蒸着粒子をしやへい板によって部分的にじゃへい
して膜厚分制御する蒸着膜厚制御装置において、しやへ
い板が帯状でその一部に開口部を有し、該しやへい板は
２つのローラーにかけられ蒸着基板をはさむ形に設置さ
れ、ローラーの回転により帯状のしゃへい板が周回運動
し、前記開口部の形状により膜厚を制御することを特徴
とするものである。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の実施例の側面図、第２図は同実施例の
平面図である。帯状じゃへい板１１はローラー１２．１
３の回転によって矢印の方に動く。

蒸着中、蒸発源から飛来する蒸着粒子は帯状じゃへい板
１１の開口部１４が蒸着基板１５と蒸発源の間に来た時
だけ蒸着基板に到達し、蒸着膜を形成する。このため、
蒸着基板上の各場所の蒸着膜厚は各場所の直上の帯状じ
ゃへい板の開口部の進行方向の長さによって決まり、開
口部の長さの比が各場所の膜厚の比になり、正確な膜厚
の蒸着膜が形成される。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、開口部を有する帯状じゃ
へい板を周回運動させて、帯状じゃへい板の開口部の進
行方向の長さの大小によって、全蒸着時間と蒸着基板の
各部分の蒸着時間との比を決めており、かつ、開口部が
周期的に動くことにより蒸着時間が細分化されるため、
しやへい板の開口部の形状を変えることにより所望の膜
厚の蒸着膜を蒸着基板上の所望の場所に形成でき、しか
も蒸着中の蒸着レートの変化に左右されずに、正確な膜
厚で１枚の基板上に異なる膜厚の膜を形成できる効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の側面図、第２図は同実施例
の平面図、第３図は従来例の平面図である。 １１・・・帯状しヤへい板、１２・・・ローラー、１３
・・・ローラー、１４・・・開口部、１５・・・蒸着基
板、３１・・・蒸着基板、３２・・・しやへい板。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　蒸発源から蒸着基板へ飛来する蒸着粒子をしやへい板
   によって部分的にしやへいして膜厚を制御する蒸着膜厚
   制御装置において、しやへい板が帯状でその一部に開口
   部を有し、該しやへい板は２つのローラーにかけられ蒸
   着基板をはさむ形に設置され、ローラーの回転により帯
   状のしやへい板が周回運動し、前記開口部の形状により
   膜厚を制御することを特徴とする蒸着膜厚制御装置。