JPS6342152A - 混成集積回路基板及びその製造方法 - Google Patents

混成集積回路基板及びその製造方法

Info

Publication number
JPS6342152A
JPS6342152A JP18591486A JP18591486A JPS6342152A JP S6342152 A JPS6342152 A JP S6342152A JP 18591486 A JP18591486 A JP 18591486A JP 18591486 A JP18591486 A JP 18591486A JP S6342152 A JPS6342152 A JP S6342152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
substrate
insert material
copper plate
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP18591486A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0738423B2 (ja
Inventor
Takashi Shoji
孝志 荘司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP61185914A priority Critical patent/JPH0738423B2/ja
Publication of JPS6342152A publication Critical patent/JPS6342152A/ja
Publication of JPH0738423B2 publication Critical patent/JPH0738423B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は混成集積回路基板及びその製造方法に関する。
(従来の技術及び解決しようとする問題点)従来、パワ
ーモジュール基板等の基板の製造は、アルミナなどのセ
ラミック基板にメタライズ化処理を施して表面に金属層
を形成する方法がとられており1例えば、基板表面にW
、Mo等の金属ペーストを用いる方法、金属粉を含むガ
ラスペーストを印刷する方法などがあり、これらを改良
する方法として無電解メツキ等で直接金属メツキを施す
方法(特開昭60−195079参照)などがある。し
かし、無電解メツキ法では一旦皮膜が形成されるとそれ
以上継続できないために膜厚がとれず、強度が不足する
という欠点がある。
これに対し、セラミック基板の両面に基板厚さよりも薄
い金属板(銅板)を接合する方法が研究されているが(
特開昭59−121890)、この方法では、片面にの
み金属板を接合する場合に比べて反りや基板の割れなど
を防止できるものの、接合手段として銅と酸素との共晶
を利用する酸化処理法を採用しているため、制御が薙し
く、接着強度上問題がある。
本発明は、上記従来技術の欠点を解消し、セラミック基
板と金属材との接着強度が大きく、かつ耐熱性、放熱性
に優れ、しかも任意厚さの金属材層を形成し得る混成集
積回路基板の製造技術を提供することを目的とするもの
である。
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明者は、上記従来技術に
係るセラミック基板両面への金属板接合法について検討
を加え、接合手段として新たな方策を見い出すべく鋭意
研究を重ねた結果、接着剤として特定のインサート材を
使用し特定の処理を施すことにより可能であることを知
得し、本発明をなしたものである。
すなわち、本発明に係る混成集積回路基板は、アルミナ
等のセラミック基板と、該基板の両面に印刷、焼成した
複合金属粉末からなるインサート材と、該基板の一方の
面に該インサート材を介して加熱接合された銅箔並びに
他方の面に該インサート材を介して加熱接合された銅板
と、該銅箔及び銅板の表面に施されたレジスト印刷層と
からなることを特徴とするものである。
また、その製造方法は、アルミナ等のセラミック基板の
両面に複合金属粉末をペースト状にしたインサート材を
印刷し、これを乾燥、焼成した後、該基板の一方の面に
該インサート材を介して銅箔を、また他方の面に該イン
サート材を介して銅板を重ね合わせ、非酸化性雰囲気中
乃至は10””Torr以下の真空中にて加熱して該基
板と銅箔及び銅板とを接合し、次いで該銅箔及び銅板の
表面にレジスト印刷を施すことを特徴とするものである
以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
まず、セラミック基板としては、従来と同様の材質のも
のでよく、アルミナ、窒化アルミニウム等、々のセラミ
ック材料を用いるる。
このセラミック基板の両面に金属板を接合するに際して
は、特に、一方の面に銅箔を、また他方の面に銅板を後
述のインサート材を使用して加熱接合するものである。
銅板はヒートシンクとして並びに熱膨張の変化に追随し
得るためにある程度の厚みを必要とし、例えば、セラミ
ック基板の厚さく通常、0.1〜1 mm+)よりも大
きい板厚(例、2mm)とする。一方、銅箔の場合、熱
膨張の変化に追随できるが、逆に厚くなると銅箔側へイ
ンサート成分が拡散して表面層に変質を来たすので、拡
散が生じない範囲で任意の厚みのものとし、特に大電流
向けの場合には厚みを大きくとる。
インサート材によるセラミック基板と銅箔及び銅板との
接合には、特定組成のペースト状インサート材をセラミ
ック基板の両面に印刷し、加熱接合処理する。すなわち
、そのためには、インサート材として、例えばAg系の
複合金属粉末をペースト状にしたものを用いる。
具体的には、例えば、Cu及びNiのうちの少なくとも
1種を10〜60wt%(以下、同じ)、Ti、Nb及
びZrのうちの少なくとも1種を10〜8゜%含み、残
部が実質的にAgである組成を有し、各成分をメカニカ
ルアロイ法によって機械的に噛合結合した複合粉末を有
機溶媒中に分散させペースト状にしたインサート材、或
いはCu及びNiのうちの少なくとも1種を10〜60
%、Ti、Nb及びZrのうちの少なくとも1種を7〜
80%、希土類元素(Yを含む)のうちの少なくとも1
種を5 ppm〜3%含み、残部が実質的にAgである
組成を有し、各成分をメカニカルアロイ法によって機械
的に噛合結合した複合粉末を有機溶媒中に分散させ、ペ
ースト状にしたインサート材などが好ましい。このよう
な複合粉末は、いわゆるメカニカルアロイ法によって製
造することができ、各成分の金属粉末を摺潰機、ボール
ミル、アトライター等の攪拌機を用いて高速、高エネル
ギー下で所要時間混合攪拌して粉砕することにより、各
成分粒子が機械的に噛合結合した、いわゆるメカニカル
アロイ形態の複合粉末が得られる。この複合粉末の粒度
は44μm以下、好ましくは10μm以下のものが50
vt%以上である微粉末が望ましい。この複合粉末はペ
ースト状にするために有機溶媒中に分散させる。有機溶
媒としては、テレピネオール、ブチルカルピトール、テ
キサノール、ブチルカルピトールアセテートなどを使用
することができ、またペースト中の金属粉量は60〜9
0wt%とするのが適当である。なお、有機溶媒の他に
界面活性剤(例、ロジン・ワックス)を少量添加したり
、またバインダーとしてエチルセルロースなどを添加し
てもよい。
次いで、第1図(、)、(b)に示すように、ペースト
状インサート材2をセラミック基板1の両面に所要量印
刷し、乾燥後、焼成(脱脂処理)する。脱脂処理は、不
活性雰囲気中で550〜600”Cで焼成するのが望ま
しく、これによりバインダー分を揮発させる。なお、イ
ンサート材及びセラミック基板の材質、銅板及び銅箔の
厚さにもよるが、銅板側の焼成膜厚が40〜65μ、銅
箔側の焼成膜厚が5〜1oμとなるようにペースト状イ
ンサート材を印刷する。
その後、セラミック基板の両面に上記インサート材を介
して銅箔3及び銅板4を各々重ね合わせ、N2、Ar等
の非酸化性雰囲気中又はl O−’ Torr以下の真
空中で所要時間加熱し、接合する。なお、加熱温度は、
上記組成のインサート材を用いた場合には600〜90
0℃が好ましく、また1〜100kg/aJの加圧下で
接合する。
接合後、銅箔3及び銅板4の表面にレジスト印刷5を施
す。これは、後の回路エツチング工程で銅も腐食される
ので、これを防止するために行うものである。
上記の工程により本発明の基板が製造されるが、インサ
ート材としてAg系の複合金属粉末を用いるので接着強
度及び耐熱性の優れた接合面とすることができると共に
、銅箔の厚みを自由に選択でき、かつ、ヒートシンクと
して銅板を用い、放熱シートや放熱グリースなどを用い
ていないので放熱性が非常に良い。また、得られた基板
は更に半田でプリント基板や金属ベース胴張り基板へ実
装でき、その際、か\る基板の通常の製造工程で製造で
きる利点がある。
次に本発明の実施例を示す。
(実施例) 一20μに分級したスポンジチタン粉末20部と平均粒
径1.6μの銀粉末40部と平均粒径1.5μの銅粉末
40部とを合計50g準備し、前処理として摺潰機で5
時間混合粉砕した。混合粉砕後、フィッシャー・サブ・
シーブ・サイザー(粒度分布測定装置)で平均粒径を測
定したところ。
1.3μであった。
更に、次の割合で摺潰機を使用して5時間、予備混練し
た。
上記混合粉砕物      80部 エチル・セルロース    1.5部 テキサノール     16.7部 界面活性剤       1.8部 予備混線の目的は、粉末表面を活性にし、ビヒクルと接
触させることによって分散性をよくするためである。予
備混線の終了後、三本ロール・ミルで本混線を行い、ペ
ースト状インサート材を得た。
一方、約25mm口X0.635mmt  の96%A
Q30.基板、2511!I口X2mmtの銅板並び番
こ25m鳳口×35μtの銅箔を用意した。そして、銅
板を貼り付ける側のAl2zO,基板に対しては、焼成
膜厚が16μ、30μ、45μ、63μ、1mmになる
ように(焼成膜厚45μとする乾燥膜厚は120〜13
0μ)、200メツシユ、バイアス張り、エマルジョン
厚さ45μのスクリーンを使用したスクリーン印刷機に
より、上記ペースト状インサート材を三回全面にわたっ
て印刷した後、120℃で30分間乾燥した。更に銅箔
を貼り付ける側のAQ、0.基板に対しては、上記ペー
スト状インサート材をテキサノールで1=1に希釈し。
焼成膜厚が7μ、31μになるようにスクリーン印刷し
た。その際に用いたスクリーンは250メツシユ、バイ
アス張り、エマルジョン厚さ25μのスクリーンで、1
回で全面印刷した後、120℃で30分間乾燥した。
上記乾燥後、膜厚焼成炉を使用し、N2気流中にて90
分間プロファイルで15分間ピーク温度(600°C)
保持の焼成を行い、含有しているバインダー(ビヒクル
)成分を揮発させた。
次いで、上記AI2.03基板の両面に銅板と銅箔を各
々重ね合わせ、更に全面1kgの荷重をかけ、真空炉に
装入し、真空度10”−3Torr、接合温度850℃
で1時間保持し、常温になってから取り出した。なお、
真空炉への装入に際しては、第2図に示すように、ステ
ンレス鋼板6及び炉体(缶体)7と銅板4及び銅箔3と
の融着を防止するため並びに反りを防止するために上下
にそれぞれAQ、03板8を装着した。
得られた基板の接着強度は次のようにして調べた。
まず、MEEK加工機(放電砥石切断機)によって10
mm口に切り出した。サンプルは、1枚につき16ケ切
り出すことができた。このようなサンプルについて塩化
第2鉄水溶液を用いたエツチング処理で銅箔を取り除い
た後、次のような方法で銅板側の接着強度を測定した。
すなわち、第3図に示すように、アラルダイトAZ−1
5を使用して、25m1llX 50m+++X 2m
mtのステンレス鋼板(SUS304)9の中央部に銅
板側を接着し。
AQ20.基板1のアルミナ面(銅箔除去面)に10m
mφの銅リベット10を接合した後、ブツシュ・プル・
テスター(金山製作所製)で銅板側の接着強度を測定し
た。
また、銅箔側の接着強度は次のような方法で測定した。
すなわち、銅箔側にレジストを印刷すると共に粘着テー
プ(住友スリー・エム社製)にて全面マスクした後、エ
ツチング処理にて銅板を取り除き、次いでレジスト及び
粘着テープを剥離して。
銅箔付きAQ20.基板を得た。接着強度用テストパタ
ーンは2mm口とし、第4図に示すように、AQ、O,
基板1上のテストパターンである銅箔2mm口バッド1
1に、L字型にしたQ、6mmφ#線(スズ・メツキ処
理されたもの)12を半田にて接合した後、バーチカル
・ボンド・テスターによって銅箔側の接着強度(初期値
、高温強度)を測定した。これらの結果を第1表及び第
2表に示す。
第1表及び第2表かられかるように、A2□○。
基板と銅板又は銅箔との間のインサート材の焼成膜厚を
適当に選ぶならば(Nα3.4.6)、接着強度の優れ
た接合面が得られ、銅箔との接合面の耐熱性も優れてい
る。なお、Nα8は従来のメツキ法による接合の場合を
示し、強度が不足している。
(発明の効果) 以上詳述したように、本発明によれば、特定のペースト
状インサート材を使用してセラミック基板両面にそれぞ
れ銅板、銅箔を接合するので、接着強度及び耐熱性に優
れ、しかも銅箔の厚みを自由にとれるので特に大電流向
けに適し、また特別のヒートシンクを使用しないので放
熱性も非常に良い。更に、本発明の製造工程は通常のプ
リント基板製造工程を使用でき、得られた基板は半田付
けでプリント基板や金属ベース鋼張り基板などに実装で
きる等のメリットもある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(d)は本発明法の製造工程の一例を示
す説明図、 第2図は真空炉を用いて加熱接合する際の装入状態を示
す断面図、 第3図はAQ、03基板と銅板の接着強度を試験する時
の試料取付状態を示す断面図、 第4図はAQ、○、基板と銅箔の接着強度を試験する時
の試料取付状態を示す断面図である。 1・・・AQzO,基板、2・・・インサート材、3・
、・・銅箔、4・・・銅板、5・・・レジスト印刷層。 特許出願人    昭和電工株式会社 代理人弁理士   中  村   尚 第1図 (C) ス 第2図 第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルミナ等のセラミック基板と、該基板の両面に
    印刷、焼成した複合金属粉末からなるインサート材と、
    該基板の一方の面に該インサート材を介して加熱接合さ
    れた鋼箔並びに他方の面に該インサート材を介して加熱
    接合された銅板と。 該銅箔並びに銅板の表面に施されたレジスト印刷層とか
    らなることを特徴とする混成集積回路基板。
  2. (2)アルミナ等のセラミック基板の両面に複合金属粉
    末をペースト状にしたインサート材を印刷し、これを乾
    燥、焼成した後、該基板の一方の面に該インサート材を
    介して銅箔を、また他方の面に該インサート材を介して
    鋼板を重ね合わせ、非酸化性雰囲気中乃至は10^−^
    3Torr以下の真空中にて加熱して該基板と銅箔及び
    銅板とを接合し、次いで該銅箔及び銅板の表面にレジス
    ト印刷を施すことを特徴とする混成集積回路基板の製造
    方法。
JP61185914A 1986-08-07 1986-08-07 混成集積回路基板及びその製造方法 Expired - Lifetime JPH0738423B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61185914A JPH0738423B2 (ja) 1986-08-07 1986-08-07 混成集積回路基板及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61185914A JPH0738423B2 (ja) 1986-08-07 1986-08-07 混成集積回路基板及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6342152A true JPS6342152A (ja) 1988-02-23
JPH0738423B2 JPH0738423B2 (ja) 1995-04-26

Family

ID=16179087

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61185914A Expired - Lifetime JPH0738423B2 (ja) 1986-08-07 1986-08-07 混成集積回路基板及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0738423B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03101153A (ja) * 1989-09-13 1991-04-25 Denki Kagaku Kogyo Kk 銅回路を有する窒化アルミニウム基板の製法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5267275U (ja) * 1975-11-13 1977-05-18
JPS6032343A (ja) * 1983-08-02 1985-02-19 Toshiba Corp パワ−半導体モジユ−ル基板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5267275U (ja) * 1975-11-13 1977-05-18
JPS6032343A (ja) * 1983-08-02 1985-02-19 Toshiba Corp パワ−半導体モジユ−ル基板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03101153A (ja) * 1989-09-13 1991-04-25 Denki Kagaku Kogyo Kk 銅回路を有する窒化アルミニウム基板の製法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0738423B2 (ja) 1995-04-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5527627A (en) Ink composition for an ultra-thick thick film for thermal management of a hybrid circuit
JP7317397B2 (ja) 酸化銅ペースト及び電子部品の製造方法
JP2571233B2 (ja) 回路基板の製造方法
JP2501835B2 (ja) 金属質接着材料
JPS6342152A (ja) 混成集積回路基板及びその製造方法
JPS6342153A (ja) 混成集積回路基板及びその製造方法
JP2967929B2 (ja) 窒化アルミニウム基板用導体ペースト
JPS63256291A (ja) 接着用材料
JP3522295B2 (ja) 金属板接合セラミック基板とその製造方法
JP3482580B2 (ja) 高放熱性金属複合板材及びそれを用いた高放熱性金属基板
JPH05226515A (ja) メタライズ層を有する窒化アルミニウム基板とそのメタライズ方法
JPH02126700A (ja) ガラスセラミックス多層回路基板焼結体
JPH07207452A (ja) 金属粉末組成物及びそれを用いたメタライズ基板の製造方法
TWI789698B (zh) 氧化銅糊料及電子零件之製造方法
JP2003089807A (ja) 金属粒子及びその製造方法並びに樹脂組成物、接着フィルム及び半導体装置
JP2004299970A (ja) 銅メタライズ窒化アルミニウム基板及びその製造方法
JPH0361353B2 (ja)
JPS58130590A (ja) セラミツク配線基板および該セラミツク配線基板を用いた厚膜ハイブリツドic
JPS6387790A (ja) 高放熱性回路基板の製造方法
JPH09191059A (ja) パワー半導体モジュール基板
JPH0923060A (ja) 新規メタライズ基板
JPH0468138B2 (ja)
CN117506235A (zh) 焊膏、制备陶瓷覆铜板的方法和陶瓷覆铜板
JPS62197373A (ja) 窒化アルミニウム焼結体のメタライズ方法
JPH04125955A (ja) 半導体装置及びその製造方法