JPS634073A - 無電解めつき用触媒液及びその製造方法 - Google Patents

無電解めつき用触媒液及びその製造方法

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Publication number
JPS634073A
JPS634073A JP14761986A JP14761986A JPS634073A JP S634073 A JPS634073 A JP S634073A JP 14761986 A JP14761986 A JP 14761986A JP 14761986 A JP14761986 A JP 14761986A JP S634073 A JPS634073 A JP S634073A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electroless plating
dipyridyl
soln
chloride
palladium
Prior art date
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Pending
Application number
JP14761986A
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English (en)
Inventor
Takao Sato
高雄 佐藤
Shinichi Mitsui
三井 真一
Kenji Kobayashi
健治 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS634073A publication Critical patent/JPS634073A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は無電がめつき用触媒液及びその製造方法、詳し
くは電気絶縁物質、特にプラスチックを活性化して、無
電解めっきによる金属被覆工程の準備を行うためのパラ
ジウム触媒液及びその製造方法に関するものである。
(従来の技術〕 一般に電子工業においてはプラスチックを無電解めっき
により、金属被覆して導電化することが広く行われてい
る0例えば印刷配線板の製造においては、銅張リエポキ
シ樹脂積層板の表面の所望の位置に貫通孔を形成した後
、貫通孔壁に無電解めっき用触媒を吸着させ、次いで無
電解銅めっき等の無電解めっきにより貫通孔壁面に金属
被覆を施して貫通孔壁面を導電化することが行われてい
る。
無電解めっき用触媒としてはパラジウム金属が広く使用
されており、パラジウム金属の貫通孔壁面への形成は貫
通孔壁面を塩化第一錫と塩化パラジウムの混合コロイド
水溶液に接触させた後水洗し、次いでパラジウム金属と
同時に吸着した錫化合物を塩酸溶液あるいはホウフッ化
水素酸溶液に浸漬して除去し、パラジウム金属が露出す
るようにしなければならない。このような塩化第一錫と
塩化パラジウムの混合コロイド水溶液としては特公昭3
8−4161号に無電解銅めっき用増感剤(触媒液)と
して開示されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、これら塩化第一錫と塩化パラジウムの混合コロ
イド水溶液はプラスチックやガラス上への吸着性が十分
でなく、これがしばしば銅張リエポキシ樹脂積層板の貫
通孔壁への無電解銅めっきの析出不良(ピンホール、ボ
イド等)発生の原因となっていた。
(発明の従来技術に対する相違点〕 本発明はかかる従来技術の欠点を除去した無電解めっき
用触媒液およびその製造方法を提供することにあり、特
にパラジウムイオンの錫イオン(Sn44)による還元
反応を促進し、安定なパラジウム金属コロイドの生成及
びパラジウム金属の吸着促進効果を有するα、α′−ジ
ピリジルを該触媒液に含有させた点に独創的内容を有す
る。
〔問題点を解決するための手段〕 本発明は水溶液IQ当り、塩化パラジウム(PdCI2
2)0.1〜1g、塩酸(37%溶液)20〜150m
Q、塩酸第一錫(SnCf1.−2H,O)5〜30g
およびα、α′−ジピリジル1〜100■を含むことを
特徴とする無電解めっき用触媒液および、 塩酸を含む水溶液に塩化パラジウム、塩化第一錫および
α、α′−ジピリジルを溶解させた後、該水溶液を80
℃以上の液温で熟成することを特徴とする無電解めっき
用触媒液の製造方法である。
〔原理・作用〕
本発明の無電解めっき用触媒液(以下触媒液と略す)中
のα、α′−ピリジルは塩化パラジウムの塩化第一錫に
よる還元反応を促進させ、安定なパラジウム金属コロイ
ドの生成及びパラジウム金属のプラスチック及びガラス
上への吸着を促進する。
触媒液中のα、α′−ジピリジルの濃度が1mg/Qよ
り低下するとパラジウム金属の吸着促進効果が著しく減
少する。またα、α′−ジピリジルの濃度が100mg
#Iをこえると、銅張リエポキシ樹脂積層板を触媒液で
処理する場合鋼箔が変色しやすくなる。
α、α′−ジピリジルは上記の効果の他に触媒液中に不
純物として含まれ触媒液の安定度に影響を与える鉄イオ
ンのマスキング効果がある。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
(実施例1) 純水約700mAに37%濃度の塩酸を100mfi添
加し、次いで塩化パラジウムを1g溶解し、さらに塩化
第一錫(SnCI2.−2H,0)20 gとα、α′
−ジピリジル20mgを溶解させた後、液温を85℃に
して30分間熟成した。、液の色は黒縁色から黒褐色に
変化し、塩化パラジウム−塩化第一錫の混合コロイドが
生成したことを示している。なお比較例として、α、α
′−ジピリジルを含有しない水溶液について同じ液温で
熟成したところ、液の色が黒縁色がら黒褐色に変化し、
上記液と同じ吸光度を示すのに約1時間かかった。これ
によってα、α′−ジピリジルのパラジウムイオンの第
一錫イオン(Sn←)により還元反応を促進することが
立証された0次いで室温まで冷却後、純水を加えて全体
を12とし、触媒液を調製した1本触媒液に貫通孔の形
成された銅張リエボキシ樹脂積層板を約5分間浸漬後流
水洗し、さらに5%ホウフッ化水素酸水溶液に5分間浸
漬し、金属パラジウムと一緒に銅張リエポキシ樹脂積層
板の貫通孔壁に吸着した塩化第−錫等の錫化合物を除去
し、貫通孔壁土の金属パラジウムを活性化する1次いで
水洗機液温25℃、pH=13の無電解銅めっき液に約
20分間浸漬し、貫通孔壁上に無電解銅めっき膜を析出
させた。貫通孔壁は無電解鋼めっき膜で完全に被覆され
ていた。−方比較例としてα、α′−ジピリジルを添加
しない触媒液を使用し、上記と同様な操作で銅張りエポ
キシ樹脂積層板を処理し、無電解鋼めっきを行ったが貫
通孔壁の無電解銅めっき膜には多数のピンホールが観察
された。
(実施例2) 実施例1において調製したα、α′−ジピリジルを含有
する触媒液を純水で4倍に希釈した触媒液を使用し、実
施例1と同様な操作によって銅張りエポキシ樹脂積層板
を無電解銅めっきしたところ、貫通孔壁面は無電解銅め
っき膜で完全に被覆されていた。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の触媒液で処理することによ
り、印刷配線板の貫通孔壁は無電解めっき膜で完全に被
覆でき、貫通孔の電気的接続信頼性を向上することがで
きる効果を有するものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)水溶液1l当り、塩化パラジウム(PdCl_2
    )0.1〜1g、塩酸(37%溶液)20〜150ml
    、塩酸第一錫(SnCl_2・2H_2O)5〜30g
    およびα,α′−ジピリジル1〜100mgを含むこと
    を特徴とする無電解めっき用触媒液。
  2. (2)塩酸を含む水溶液に塩化パラジウム、塩化第一錫
    およびα,α′−ジピリジルを溶解させた後、該水溶液
    を80℃以上の液温で熟成することを特徴とする無電解
    めっき用触媒液の製造方法。
JP14761986A 1986-06-24 1986-06-24 無電解めつき用触媒液及びその製造方法 Pending JPS634073A (ja)

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JP (1) JPS634073A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03155925A (ja) * 1989-11-15 1991-07-03 Aikou:Kk 樹脂成形品の製造方法およびそれに使用する成形用型
JPH03236489A (ja) * 1989-12-22 1991-10-22 Nippon Mining Co Ltd ルテニウムめっき液

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03155925A (ja) * 1989-11-15 1991-07-03 Aikou:Kk 樹脂成形品の製造方法およびそれに使用する成形用型
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