JPS634071A - 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法 - Google Patents

無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

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JPS634071A
JPS634071A JP14761486A JP14761486A JPS634071A JP S634071 A JPS634071 A JP S634071A JP 14761486 A JP14761486 A JP 14761486A JP 14761486 A JP14761486 A JP 14761486A JP S634071 A JPS634071 A JP S634071A
Authority
JP
Japan
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copper
electroless plating
soln
polyethylene glycol
pyridine
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Pending
Application number
JP14761486A
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English (en)
Inventor
Shinichi Mitsui
三井 真一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating
    • C23C18/30Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は無電解め、つき用銅コロイド触媒液およびその
製造方法に係わり、詳しくは電気絶縁物質、特にプラス
チックを活性化して無電解めっきによる金属被覆工程の
準備を行うための銅コロイド触媒液及びその製造方法に
関するものである。
[従来の技術] 一般に電子工業においてはプラスチックを無゛電解めっ
きにより金属被覆し導電化することが広く行われている
。例えば印刷配線板の製造においては、銅張りエポキシ
樹脂積層板の表面の所望の位置に貫通孔を形成した1多
、貫通孔壁面に無電解めっき用触媒を吸着させ、次いで
無電解銅めっき等の無電解めっきにより貫通孔壁面の金
属被覆を施し、貫通孔壁面を導電化することが行われて
いる。
無電解めっき用触媒としては、−般にパラジウム金属が
使用されており、パラジウム金属の貫通孔壁面への形成
は貫通孔壁面を塩化第一錫と塩化パラジウムの混合コロ
イド水溶液に接触させた後、水洗する。この貫通孔壁面
へはパラジウム金属と錫化合物が同時に吸着する。無電
解めっきの触媒となるためには、パラジウム金属と同時
に吸着した錫化合物を塩酸溶液あるいはホウフッ化水素
酸溶液に浸漬して除去し、パラジウム金属が露出するよ
うにしなければならない。
[発明が解決しようとする問題点] しかし、上記酸性水溶液に浸漬する際、錫化合物の除去
と同時にパラジウム金属も除去される場合がある。特に
銅張りエポキシ樹脂積層板の貫通孔壁のガラス表面から
はパラジウム金属が除去されやすく、しばしば貫通孔壁
面への無電解銅めっき析出不良の原因となっていた。
[発明の従来技術に対する相違点] 本発明の目的はかかる従来技術の欠点を除去した無電解
めっき用銅コロイド触媒液およびその製造方法を提供す
ることにあり、特に該触媒液が銅コロイドと銅コロイド
の吸着促進効果を有するピリジンを含む点に独01的内
容を有する。
[問題点を解決するための手段] 本発明は銅金属粒子を0.3g/1以上と銅金属粒子1
g当り0.8C7以上のゼラチンと0.8CJ以上の平
均分子量1000〜20000のポリエチレングリコー
ルとピリジンを含むI)82〜9の銅コロイド水溶液か
らなる無電解めっき用銅コロイド触媒液及び、2価の銅
イオンと2価の銅イオン1g当り0.89以上のゼラチ
ンと0.8g以上の平均分子量1000〜20000の
ポリエチレングリコールとを含む液温40℃以上の水溶
液にごリジンと2価の銅イオン1g当り1.2g以上の
ジメチルアミンボランを添加し1.2価の銅イオンを金
属銅に還元した後、該水溶液のpHを2〜9に調整する
無電解めっき用銅コロイド触媒液の製造方法である。
[原理・作用] 本発明の銅コロイド触媒液の製造において、2価の銅イ
オン源としては硫酸銅あるいは゛、水酸化第2銅が使用
できる。DH調整には、硫酸および水酸化ナトリウムあ
るいは水酸化カリウムが使用できる。
本発明に用いる平均分子量1ooo〜20000のポリ
エチレングリコールは2価の銅イオンのジメチルアミン
ボランによる還元反応に寄与し、微小銅金属粒子を生成
させ、その添加量は2価の銅イオン1g当りo、ag以
上が適当である。ピリジンは2価の銅イオンのジメチル
アミンボランによる還元を促進させ、2価の銅イオンを
完全に銅金属に還元させ、銅コロイド触媒液の安定性に
寄与すると共に、プラスチック等への銅コロイドの吸着
を促進する効果がある。銅コロイド水溶液中のピリジン
の濃度は1〜100 m(J/Rが適当であり、その濃
度が1 m(J/lよりも低い場合は銅コロイドの吸着
促進効果が著しく減少する。また、100mg#をこえ
ると、銅張りエポキシ樹脂積層板の銅箔表面が変色しや
すくなる。
本発明の銅コロイド水溶液中のゼラチンの量は銅金属粒
子1g当り0.8Cl以上が必要であり、その量が0.
8gより少ない場合は、銅コロイドが不安定となり、凝
集沈澱してしまう。
[実施例] 以下本発明の実施例について詳細に説明する。
(実施例1) ゼラチン30CJを約700dの純水に添加し、液温的
60℃で完全に溶解させた。次いで硫酸銅を50CI、
平均分子量20000のポリエチレングリコールを10
g添加し、完全に溶解させた。次にピリジンを20mg
添加し、溶解させた後、濃度100 (]#のジメチル
アミンポラン水溶液を120m添加し、液温60℃で銅
イオンを完全に金属銅に還元した。ざらに液温75℃で
約1時間熟成した復、液温を空温まで冷却し、水溶液の
容量を純水を加えて11とした。この液を1ooy採取
し、純水を約Boo(d加えて希釈し、水酸化ナトリウ
ム水溶液で希釈液のpHを6に調整した。次いで純水を
加えて、該希釈液の全量を11とし、無電解めっき用銅
コロイド触媒液を製造した。
(実施例2) 実施例1における平均分子量20000のポリエチレン
グリコールの代りに平均分子11000のポリエチレン
グリコールを使用し、実施例1と同様な操作により、無
電解めっき用銅コロイド触媒液を製造した。
実施例1および実施例2で製造した液温25℃の無電解
めっき用銅コロイド触媒液に、貫通孔の形成された銅張
りエポキシ樹脂積層板を5分間浸漬した後、2分間水洗
し、次いで液温25°C,pH=13の無電解銅めっき
液に約10分間浸漬し、貫通孔壁面への無電解銅めっき
の析出性を調べた結果、実施例1および実施例2で製造
された無電解めっき用銅コロイド触媒液で処理された銅
張りエポキシ樹脂積層板の貫通孔壁面への無電解銅めっ
きの被覆は完全であった。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明により製造された無電解め
っき用銅コロイド触媒液で処理することにより、電気絶
縁樹脂の表面は無電解めっきで完全に被覆でき、印刷配
線板に応用した場合は、貫通孔の電気的接続信頼性を向
上することができる効果を有するものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)銅金属粒子を0.3g/l以上と銅金属粒子1g
    当り0.8g以上のゼラチンと0.8g以上の平均分子
    量1000〜20000のポリエチレングリコールとピ
    リジンとを含むpH2〜9の水溶液からなる無電解めつ
    き用銅コロイド触媒液。
  2. (2)2価の銅イオンと2価の銅イオン1g当り0.8
    g以上のゼラチンと0.8g以上の平均分子量1000
    〜20000のポリエチレングリコールとを含む液温4
    0℃以上の水溶液にピリジンと2価の銅イオン1g当り
    1.2g以上のジメチルアミンボランを添加し、2価の
    銅イオンを金属銅に還元した後、該水溶液のpHを2〜
    9に調整する無電解めつき用銅コロイド触媒液の製造方
    法。
JP14761486A 1986-06-24 1986-06-24 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法 Pending JPS634071A (ja)

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JPS634071A true JPS634071A (ja) 1988-01-09

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