JPS633893B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS633893B2
JPS633893B2 JP5423080A JP5423080A JPS633893B2 JP S633893 B2 JPS633893 B2 JP S633893B2 JP 5423080 A JP5423080 A JP 5423080A JP 5423080 A JP5423080 A JP 5423080A JP S633893 B2 JPS633893 B2 JP S633893B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
polymer
solution
tetrahydrofuran
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP5423080A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56151731A (en
Inventor
Sho Yamazaki
Seiichi Nakahama
Akira Hirao
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority to JP5423080A priority Critical patent/JPS56151731A/ja
Publication of JPS56151731A publication Critical patent/JPS56151731A/ja
Publication of JPS633893B2 publication Critical patent/JPS633893B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は側鎖に重合しうる有機基を有する有機
溶剤可溶性ポリシルセスキオキサンの製造法に関
するものである。本明細書で「シルセスキオキサ
ン」という語は、ケイ素原子数に対する酸素原子
数の比が1.5であるシロキサンを意味する。 従来、フエニル基、トリル基のようなアリール
基を有する有機溶剤可溶性ポリシルセスキオキサ
ン、あるいはメチル基、イソブチル基、イソアミ
ル基などのアルキル基を有するポリシルセスキオ
キサンは知られていた〔J.Amer.Chem.Soc.、82
巻6194頁(1960年);J.Polymer Sci.、C−1巻
83頁(1963年);Vysokomol、Soyed、A12巻663
頁(1970年);Ivz.Akad.Nauk SSSR.Ser.
Khim.、625頁(1969年);特開昭50−139900;特
開昭53−88099など〕。しかし、反応性に富んだ有
機基を有するポリシルセスキオキサンについて
は、殆んど知られていない。たとえば、G、H、
Wagnerらは、ビニルトリクロルシランをエーテ
ル中で加水分解して数平均分子量3800程度のビニ
ルポリシルセスキオキサンを合成している
〔Indust.Eng.Chem.、45巻、367頁(1953年)〕
が、有用性の期待できる分子量の高いポリマーを
得ようとすると一般にゲル化がおこり、これまで
ビニル基や(メタ)アクリルキシアルキル基のよ
うなラジカル重合あるいはアニオン重合し得る有
機基を有するラダー構造をもつた高分子量ポリシ
ルセスキオキサンの製造に成功した例はほとんど
無かつた。 本発明者らは、このような問題を解決する目的
で、鋭意研究を進めた結果、本発明に到達した。 即ち本発明はフエニルトリアルコキシシラン
C6H5Si(OR)3(ここでRはC1〜C4のアルキル基)
と重合しうる有機基R′を有するトリアルコキシ
シランR′Si(OR)3を共加水分解することによつて
得られたオリゴマーを、さらに塩基触媒を用いて
縮合させることを特徴とするシリコーン樹脂の製
造方法を提供する。 本発明の特に好ましい態様は、フエニルトリア
ルコキシシランと、R′としてビニル基または
(メタ)アクリロキシアルキル基(CH=
CR″
【式】ここでR″は水素原子あるいはメ チル基、RはC1〜C5のアルキレン基である)
を有するトリアルコキシシランとを共加水分解
し、得られたオリゴマーを、さらに塩基触媒を用
いて縮合させるポリシルセスキオキサンの製造法
である。 以下、本発明の好ましい実施方法を説明する。 共加水分解の際に使用する溶媒としては、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
などのエーテル系;メチルエチルケトン、ジエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
系;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
系;メタノール、エタノールなどのアルコール系
などが適当である。 縮合反応にも、加水分解に用いられる上述の溶
媒で且沸点がほぼ70℃以上のものを用いるのが適
当である。 縮合反応に用いる塩基触媒としては、NaOH、
KOH、CsOHなどのアルカリ金属ヒドロキシド、
Me4NOH、(n−Bu)4POHなどのアンモニウム
もしくはホスホニウムヒドロキシドなどが適当で
ある。 共加水分解反応はフエニルトリアルコキシシラ
ンを有機溶媒と、少量の酸触媒、例えば塩酸、硫
酸、硝酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸または各種カルボン酸などを含む水との
混合系に加えることによつて行なうことができ
る。用いる有機溶媒の使用量は、フエニルトリア
ルコキシシラン1容量部に対して約0.5〜20容量
部と広い範囲から選ぶことができる。水の量は、
有機溶媒1容量部に対し0.5〜5容量部が適当で
ある。この水に対して加える酸触媒の量は1/100
〜1/5容量部の範囲のものが適当である。 反応温度は、室温から使用溶媒の還流温度まで
の範囲から選ぶことができる。反応時間は反応温
度が比較的高い場合には比較的短かくてもよい
が、比較的低い場合には比較的長時間を要し、た
とえば室温の反応では約24時間を必要とした。 反応終了後は、有機相を、例えば塩化ナトリウ
ムを加えた水で洗浄する。洗浄は洗浄後の水が中
性になるまで行なう。その後、有機相を分離し、
無水硫酸マグネシウムなどで乾燥したのち、溶媒
を減圧除去し、さらに20〜50℃程度で乾燥して加
水分解物(オリゴマー)を得る。乾燥温度が50℃
を越えるとオリゴマーはさらに脱水縮合して有機
溶媒に不溶性になりやすく、また20℃未満では乾
燥に長時間を要し実用的でない。 こうして得られたオリゴマーの数平均分子量は
約1000〜2000程度である。 次に縮合反応は、上述の加水分解反応で得られ
たオリゴマーを、有機溶媒に溶解し、これに塩基
触媒を加えて加熱することにより行なうことがで
きる。 有機溶媒の量は、オリゴマー1重量部に対し約
0.5〜10重量部が適当である。 塩基触媒の量は、オリゴマー1重量部に対し
10-2〜10-5重量部が適当である。 触媒はオリゴマーを含む溶液に可溶であれば直
接加えても、予め触媒を溶かす溶媒に溶解したも
のを加えてもよい。触媒がオリゴマーに不溶の場
合には予じめ、触媒を溶かす溶媒に溶解し、それ
を反応溶液に加える。 反応温度は70〜130℃付近で行なうことが望ま
しく、反応時間は3〜12時間程度である。 反応終了後は、公知の方法によりポリマーを回
収する。例えば、生成物がメタノールなどに可溶
な時は、反応溶液を水で洗浄し、塩基触媒を除い
てから、有機相を無水硫酸ソーダなどで乾燥後、
溶媒を減圧で除去してポリマーを得る。生成物が
メタノールなどに不溶であれば乾燥後、乾燥剤を
除いたポリマー溶液をメタノールなどに加えて沈
殿物を得、これを真空乾燥などで乾燥してポリマ
ーを得る。 こうして得られたポリマーの分子量は5000〜
50000程度で、長時間(例えば2〜3ケ月間)保
存しておいても、不溶化すること無く、保存安定
性の良いものである。 本発明で得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トルには1040cm-1と1135cm-1に、Si−O−Si結合
に基づく強い吸収が2本観測されることから、ポ
リマーの構造は、下式に示すようなラダー構造を
していることが推定できる。 (ここでRおよびR′が同一の場合はRおよび
R′がフエニル基、ビニル基または(メタ)アク
リロキシアルキル基であり、RおよびR′が異な
る場合はRがフエニル基でありR′がビニル基ま
たは(メタ)アクリロキシアルキル基である。) 本発明で得られたポリマーは、さらにスチレ
ン、α−メチルスチレン、2−ビニルピリジン、
2−ビニルキノリン、ブタジエン、イソプレンな
どとアニオン重合開始剤とから得られるリビング
ポリマーなどを用いることによつて有機ポリマー
をグラフトすることが可能である。このグラフト
ポリマーは例えば次のような方法を用いることに
より合成することができる。すなわち、例えば
「高分子合成の実験法」化学同人発行、1972年、
213〜234頁に記載されている方法などにより得ら
れるリビングポリマーおよび本発明により得られ
たポリシルセスキオキサンを、リビングポリマー
の活性点を消失させないために酸素及び水などを
除去した反応器内で反応させることによりグラフ
トポリマーを得ることができる。 リビングポリマーおよびポリシルセスキオキサ
ンは例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、
1・2−ジメトキシエタン、2−メチルテトラヒ
ドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルなどの溶液として用い
ることが好ましい。リビングポリマー溶液の濃度
は1〜30重量%が好適でありポリシルセスキオキ
サン溶液の濃度は5〜30重量%が好適である。反
応は通常、10-3mmHg以下の真空下で行ない、反
応温度は−30〜80゜が適当であり、この温度で反
応させることにより30分〜2時間で反応が終了す
る。反応終了後はポリマー溶液からポリマーを回
収する公知の方法を用いることによつてグラフト
ポリマーを得ることができる。 また、本発明で得られたポリマーはラジカル重
合可能なモノマーとのラジカル共重合も可能であ
る。例えば、本発明により得られたポリシルセス
キオキサン、ラジカル重合可能なモノマー、およ
びラジカル重合開始剤を反応させることによりポ
リシルセスキオキサンおよびラジカル重合可能な
モノマーを共重合させることができる。 ラジカル重合可能なモノマーとしては例えばス
チレン、(メタ)アクリル酸エステル、アクリロ
ニトリル、ブタジエン、イソプレンなどを挙げる
ことができ、通常ポリシルセスキオキサン1重量
部に対し0.5〜10重量部の範囲で用いる。 また、共重合反応は溶液状態で行なうことが好
ましく、溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシ
レン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセト
ン、1・2−ジメトキシエタンなどのポリシルセ
スキオキサンおよびラジカル重合可能なモノマー
を溶解しうる溶剤を用い、通常ポリシルセスキオ
キサン1重量部に対して5〜60重量部の範囲で使
用する。 ラジカル重合開始剤としては2・2′−アゾビス
−(2・4−ジメチルバレロニトリル)、2・2′−
アゾビス−(4−メトキシ−2・4−ジメチルバ
レロニトリル)、1・1′−アゾビス−(シクロヘキ
サン−1−カルボニトリル)などのアゾ系開始
剤;過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸
化プロピオニル、過酸化イソブチリル、過ビバリ
ン酸t−ブチル、スルフオニルペルオキシド、過
ネオデカン酸t−ブチルなどの過酸化物系開始剤
などを用いることができ、使用量は反応条件など
によつて適宜決めることができる。 共重合反応はラジカルが消失しないような条
件、例えば酸素を除去した条件で行ない、通常、
反応温度は10〜70℃であり、反応時間は10〜50時
間である。反応終了後はポリマー溶液からポリマ
ーを回収する公知の方法を用いることによつて共
重合ポリマーを得ることができる。 以上に述べたように本発明で得られたポリシル
セスキオキサンは無機的な骨格に有機ポリマーを
直接化学結合させることが可能であるため、非常
に広範な用途に利用できる。その用途例をあげれ
ば、有機ポリマー表面の改質剤、架橋剤、耐熱性
塗料、充填剤などである。 例 1 17.8gのフエニルトリメトキシシランと2.5g
のγ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシ
ランを30mlのテトラヒドロフラン、19mlの水、1
mlの塩酸の混合物中に加え室温で24時間かくはん
する。 反応終了後、反応混合物を、塩化ナトリウムを
加えた水で、洗浄後の水が中性になるまで、洗浄
する。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥剤を別後、テトラヒドロフ
ランを除去し、残留物を40℃で真空乾燥して13.0
gの加水分解物(オリゴマー)を得る。その分子
量は1000であつた。 例 2 17.8gのフエニルトリメトキシシランと1.9g
のビニルトリエトキシシランを30mlのテトラヒド
ロフラン、19mlの水、1mlの塩酸の混合物中に加
え、室温で24時間かくはんする。 反応終了後、反応混合物を、塩化ナトリウムを
加えた水で、洗浄後の水が中性になるまで、洗浄
する。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥剤を別後テトラヒドロフラ
ンを除き、残留物を40℃で真空乾燥し、12.1gの
加水分解物(オリゴマー)を得る。その分子量は
1200であつた。 例 3 例1で得た加水分解物2gを、メチルイソブチ
ルケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの
10%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度
(100〜110℃)で6時間反応させる。 反応終了後、反応混合物をメタノールに注ぎ、
ポリマーを沈殿させる。得られた沈殿は、メタノ
ールでよく洗浄し、真空乾燥する。ポリマーの収
量は1.7gで、分子量は8700であつた。 例 4 例2で得た加水分解物2gを、メチルイソブチ
ルケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの
10%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度
(100〜110℃)で6時間反応させる。 反応終了後、反応混合物をメタノールに注ぎ、
ポリマーを沈殿させる。得られた沈殿はメタノー
ルでよく洗い、真空乾燥する。ポリマーの収量は
1.4gで、分子量は8500であつた。 例 5 図1の合成容器を用いてリビングポリスチレン
を合成した。 スチレンモノマーはCaH2で脱水蒸留したもの
を使用し、さらにLiAlH4を加えて真空蒸留し、
それとテトラヒドロフランとの混合溶液を図1の
ブレーカブルシール付アンプルCに封入する(ス
チレン:10g、テトラヒドロフラン:50ml)。n
−BuLiはn−BuBrと金属Liからベンゼン中で合
成し、酸−塩基滴定により濃度を決定した
(0.82M)。図1の装置を真空ラインGに取り付
け、24時間脱気した後、前記n−BuLiのベンゼ
ン溶液1.2mlを窒素下でAの反応部に入れる。そ
の後、脱気して封管部Bを封じる。Aを−78℃に
冷却して、Cからスチレンとテトラヒドロフラン
との混合溶液を加える。その後、室温にもどして
からかくはんし、反応を完結させる。 反応物(リビングポリスチレン)を複数個の反
応物受器Dに小分けして封管し、−30℃で保存す
る。 図1中のその他の記号の説明は、後記の「図面
の簡単な説明」の欄の説明を参照されたい。 次に例3で得たポリシルセスキオキサン2gを
凍結乾燥し、ブレーカブルシール付アンプル内で
さらに減圧乾燥する。さらにテトラヒドロフラン
にLiAlH4を加えて乾燥し、真空蒸留でブレーカ
ブルシール付アンプル内にうつし(10ml)、シル
セスキオキサンのテトラヒドロフラン溶液とす
る。そのアンプルを封じ、図2の装置に取り付け
てFとする。Eは−30℃で保存しておいたリビン
グポリスチレン溶液を封入したブレーカブルシー
ル付アンプルである。 図2の装置を真空ラインIに接続し、脱気後、
封管部Aで封管する。ブレーカブルシール付アン
プルB内のナトリウム−ナフタレンのテトラヒド
ロフラン溶液(0.1モル/)2〜3mlを系内に
流し込み洗浄する。洗浄後のナトリウム−ナフタ
レンのテトラヒドロフラン溶液は受器Cに流し込
み封管部Dで封管する。ブレーカブルシール付ア
ンプルEのリビングポリスチレン溶液を反応部G
に入れる。Gを−78℃に冷却し、ブレーカブルシ
ール付アンプルFのシルセスキオキサンのテトラ
フラン溶液を加える。リビングポリスチレンの赤
色はシルセスキオキサンを加えると消失する。そ
の後、室温で1時間かくはんした後、開管し、メ
タノールに注ぎポリマーを沈殿させ、別後さら
にシクロヘキサン抽出でスチレンホモポリマーを
除いた。その後、減圧乾燥して5gのグラフトポ
リマーを得る。 図2中のその他の記号の説明は、後述の「図面
の簡単な説明」の欄の説明を参照されたい。 原料ポリマーとともにグラフトポリマーの
GPCチヤートを図3に示す。 例 6 ポリシルセスキオキサンとして例4で得たもの
を用いて例5と同様の操作を行ない、5gのグラ
フトポリマーを得た。そのGPCチヤートを図4
に示す。 例 7 例4で得たポリシルセスキオキサン0.1gとス
チレン0.5mlとを封管できるガラス容器に加えこ
れにベンゼン5mlおよび2・2′−アゾビス−
(2・4−ジメチルバレロニトリル)1.0gを加え
て脱気後封管する。次に反応管を30℃に保つて1
日放置する。その後、反応物をメタノールに注ぎ
ポリマーを沈殿させた。これを別後シクロヘキ
サンで抽出してスチレンホモポリマーを除いた後
減圧乾燥して0.26gのスチレン共重合ポリマーを
得た。 例 8 17.8gのフエニルトリエトキシシランと2.3g
のアクリロキシプロピルトリメトキシシランを30
mlのテトラヒドロフラン、19mlの水、1mlの塩酸
の混合物中に加え、室温で24時間撹拌した。 反応終了後、反応混合物を塩化ナトリウムを加
えた水で洗浄後の水が中性になるまで洗浄した。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥剤をろ別したのち、テトラヒ
ドロフランを除き、残留物を40℃で真空乾燥し、
12.6gの加水分解物(オリゴマー)を得た。 その分子量は、1100であつた。 例 9 例8で得た加水分解物2gをメチルイソブチル
ケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの10
%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度(100
〜110℃)で6時間反応させた。 得られた沈殿は、メタノールでよく洗浄し、真
空乾燥した。ポリマーの収量は1.7gで、分子量
は9200であつた。
【図面の簡単な説明】
図1は本発明により得られるシリコーン樹脂と
反応させるリビングポリスチレン合成容器の一例
を示す概略図である。 A……反応部、B……封管部、C……スチレン
とテトラヒドロフランとの混合溶液を封入したブ
レーカブルシール付アンプル、D……反応物受
器、E……合成容器本体、F……回転子、G……
真空ライン、 図2は本発明により得られるシリコーン樹脂を
使用するグラフトポリマー合成容器の一例を示す
概略図である。 A,D……封管部、B……ナトリウム−ナフタ
レンのテトラヒドロフラン溶液を封入したブレー
カブルシール付アンプル、C……ナトリウム−ナ
フタレンのテトラヒドロフラン溶液受器、E……
リビングポリスチレン溶液を封入したブレーカブ
ルシール付アンプル、F……シルセスキオキサン
のテトラヒドロフラン溶液を封入したブレーカブ
ルシール付アンプル、G……反応部、H……回転
子、I……真空ライン、 図3及び図4は原料ポリマー及びグラフトポリ
マーのGPCチヤートであり、実線はポリスチレ
ングラフトシルセスキオキサン、破線はポリスチ
レン、一点鎖線はシルセスキオキサンを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 フエニルトリアルコキシシランC6H5Si
    (OR)3(ここでRはC1〜C4のアルキル基)と重合
    しうる有機基R′〔ここでR′はビニル基、または
    (メタ)アクリロキシアルキル基である〕を有す
    るトリアルコキシシランR′Si(OR)3を共加水分解
    することによつて得られたオリゴマーを、さらに
    塩基触媒を用いて縮合させることを特徴とするシ
    リコーン樹脂の製造方法。
JP5423080A 1980-04-25 1980-04-25 Preparation of silicone resin Granted JPS56151731A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5423080A JPS56151731A (en) 1980-04-25 1980-04-25 Preparation of silicone resin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5423080A JPS56151731A (en) 1980-04-25 1980-04-25 Preparation of silicone resin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS56151731A JPS56151731A (en) 1981-11-24
JPS633893B2 true JPS633893B2 (ja) 1988-01-26

Family

ID=12964734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5423080A Granted JPS56151731A (en) 1980-04-25 1980-04-25 Preparation of silicone resin

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS56151731A (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0610263B2 (ja) * 1986-02-25 1994-02-09 関西ペイント株式会社 ポリシロキサン系マクロモノマ−
EP1837902B1 (en) * 2000-08-21 2017-05-24 Dow Global Technologies LLC Use of organosilicate resins as hardmasks for organic polymer dielectrics in fabrication of microelectronic devices
JP2002088157A (ja) * 2000-09-12 2002-03-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd スチリル基を置換基として含むラダー型シルセスキオキサン化合物およびその製造方法
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
DE602005003475T2 (de) 2004-07-16 2008-09-25 Dow Corning Corp., Midland Strahlungsempfindliche silikonharzzusammensetzung
JP5453742B2 (ja) * 2008-07-15 2014-03-26 Jsr株式会社 積層フィルムおよびその用途
CN104892939B (zh) * 2014-03-05 2017-11-28 马凤国 一种苯基硅树脂的制备方法
CN108003347A (zh) * 2017-11-23 2018-05-08 烟台德邦先进硅材料有限公司 一种用于大功率封装用mdt硅树脂的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS56151731A (en) 1981-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940011165B1 (ko) 실라놀 함량이 낮은 가용성 축합 하이드리도실리콘수지의 제조 방법
EP0243006B1 (en) Block-graft copolymers and process for producing the same
Gregonis et al. Preparation and properties of stereoregular poly (hydroxyethyl methacrylate) polymers and hydrogels
JPH03200807A (ja) 有機重合体、その製造方法及びそれを用いた硬化性組成物
JPS633893B2 (ja)
JPS62270611A (ja) シリコ−ン−有機ブロツク重合体及びその製造方法
JP3942201B2 (ja) フェニルポリシルセスキオキサンの製造方法
JP5503654B2 (ja) 変性ポリシロキサン化合物の製造方法
JP3141958B2 (ja) 気体透過性重合体およびその製造方法
JPS60123518A (ja) シリコ−ン系グラフト共重合体の製造方法
JP2001220445A (ja) ポリシランの製造方法
JPH058924B2 (ja)
US6281318B1 (en) Poly{1-(1-alkoxyalkoxy)-4-(1-methylethenyl)benzene} having narrow molecular weight distribution, its preparation process, and preparation process of poly{4-methylethenyl)phenol} having narrow molecular weight distribution
Pinazzi et al. Radical initiated synthesis of hydroxyl terminated polymers using aqueous hydrogen peroxide as initiator
JP3729593B2 (ja) 狭分散性のポリ(p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン)の製造方法
JP3674205B2 (ja) ポリシラン類の製造方法
JPH07258310A (ja) アクリレート類の重合を制御する方法及び触媒
Bicu et al. Allylic polymers from resin acids. Monomer synthesis at high temperature
JP3667074B2 (ja) 狭分散性のポリ{1−(1−アルコキシエトキシ)−4−(1−メチルエテニル)ベンゼン}およびその製造方法
Wesslén et al. Anionic polymerization of vinyl chloride
JPS59202224A (ja) ブロツク共重合体の製法
US3755283A (en) Novel polymers and method of preparing same
JP3290461B2 (ja) ジフェニルアセチレン系ポリマー
JP2019065146A (ja) 共重合体、組成物、共重合体の製造方法
SU464601A1 (ru) Способ получени органо(гидро) полисилоксанов