JPS633893B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS633893B2 JPS633893B2 JP5423080A JP5423080A JPS633893B2 JP S633893 B2 JPS633893 B2 JP S633893B2 JP 5423080 A JP5423080 A JP 5423080A JP 5423080 A JP5423080 A JP 5423080A JP S633893 B2 JPS633893 B2 JP S633893B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- polymer
- solution
- tetrahydrofuran
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 description 18
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- CBQKGISIWKPJMB-UHFFFAOYSA-N naphthalene;oxolane;sodium Chemical compound [Na].C1CCOC1.C1=CC=CC2=CC=CC=C21 CBQKGISIWKPJMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)C#N COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUGNJOCQALIQFG-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C=C)=CC=C21 XUGNJOCQALIQFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(=O)C(C)C RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100219382 Caenorhabditis elegans cah-2 gene Proteins 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010084 LiAlH4 Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000002479 acid--base titration Methods 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXOCZLWARDHWFQ-UHFFFAOYSA-N dioxathiirane 3,3-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OO1 SXOCZLWARDHWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- DJFBJKSMACBYBD-UHFFFAOYSA-N phosphane;hydrate Chemical class O.P DJFBJKSMACBYBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- KOPQZJAYZFAPBC-UHFFFAOYSA-N propanoyl propaneperoxoate Chemical compound CCC(=O)OOC(=O)CC KOPQZJAYZFAPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- KHJNXCATZZIGAX-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-ethyl-2-methylheptaneperoxoate Chemical compound CCCCCC(C)(CC)C(=O)OOC(C)(C)C KHJNXCATZZIGAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は側鎖に重合しうる有機基を有する有機
溶剤可溶性ポリシルセスキオキサンの製造法に関
するものである。本明細書で「シルセスキオキサ
ン」という語は、ケイ素原子数に対する酸素原子
数の比が1.5であるシロキサンを意味する。 従来、フエニル基、トリル基のようなアリール
基を有する有機溶剤可溶性ポリシルセスキオキサ
ン、あるいはメチル基、イソブチル基、イソアミ
ル基などのアルキル基を有するポリシルセスキオ
キサンは知られていた〔J.Amer.Chem.Soc.、82
巻6194頁(1960年);J.Polymer Sci.、C−1巻
83頁(1963年);Vysokomol、Soyed、A12巻663
頁(1970年);Ivz.Akad.Nauk SSSR.Ser.
Khim.、625頁(1969年);特開昭50−139900;特
開昭53−88099など〕。しかし、反応性に富んだ有
機基を有するポリシルセスキオキサンについて
は、殆んど知られていない。たとえば、G、H、
Wagnerらは、ビニルトリクロルシランをエーテ
ル中で加水分解して数平均分子量3800程度のビニ
ルポリシルセスキオキサンを合成している
〔Indust.Eng.Chem.、45巻、367頁(1953年)〕
が、有用性の期待できる分子量の高いポリマーを
得ようとすると一般にゲル化がおこり、これまで
ビニル基や(メタ)アクリルキシアルキル基のよ
うなラジカル重合あるいはアニオン重合し得る有
機基を有するラダー構造をもつた高分子量ポリシ
ルセスキオキサンの製造に成功した例はほとんど
無かつた。 本発明者らは、このような問題を解決する目的
で、鋭意研究を進めた結果、本発明に到達した。 即ち本発明はフエニルトリアルコキシシラン
C6H5Si(OR)3(ここでRはC1〜C4のアルキル基)
と重合しうる有機基R′を有するトリアルコキシ
シランR′Si(OR)3を共加水分解することによつて
得られたオリゴマーを、さらに塩基触媒を用いて
縮合させることを特徴とするシリコーン樹脂の製
造方法を提供する。 本発明の特に好ましい態様は、フエニルトリア
ルコキシシランと、R′としてビニル基または
(メタ)アクリロキシアルキル基(CH=
CR″
溶剤可溶性ポリシルセスキオキサンの製造法に関
するものである。本明細書で「シルセスキオキサ
ン」という語は、ケイ素原子数に対する酸素原子
数の比が1.5であるシロキサンを意味する。 従来、フエニル基、トリル基のようなアリール
基を有する有機溶剤可溶性ポリシルセスキオキサ
ン、あるいはメチル基、イソブチル基、イソアミ
ル基などのアルキル基を有するポリシルセスキオ
キサンは知られていた〔J.Amer.Chem.Soc.、82
巻6194頁(1960年);J.Polymer Sci.、C−1巻
83頁(1963年);Vysokomol、Soyed、A12巻663
頁(1970年);Ivz.Akad.Nauk SSSR.Ser.
Khim.、625頁(1969年);特開昭50−139900;特
開昭53−88099など〕。しかし、反応性に富んだ有
機基を有するポリシルセスキオキサンについて
は、殆んど知られていない。たとえば、G、H、
Wagnerらは、ビニルトリクロルシランをエーテ
ル中で加水分解して数平均分子量3800程度のビニ
ルポリシルセスキオキサンを合成している
〔Indust.Eng.Chem.、45巻、367頁(1953年)〕
が、有用性の期待できる分子量の高いポリマーを
得ようとすると一般にゲル化がおこり、これまで
ビニル基や(メタ)アクリルキシアルキル基のよ
うなラジカル重合あるいはアニオン重合し得る有
機基を有するラダー構造をもつた高分子量ポリシ
ルセスキオキサンの製造に成功した例はほとんど
無かつた。 本発明者らは、このような問題を解決する目的
で、鋭意研究を進めた結果、本発明に到達した。 即ち本発明はフエニルトリアルコキシシラン
C6H5Si(OR)3(ここでRはC1〜C4のアルキル基)
と重合しうる有機基R′を有するトリアルコキシ
シランR′Si(OR)3を共加水分解することによつて
得られたオリゴマーを、さらに塩基触媒を用いて
縮合させることを特徴とするシリコーン樹脂の製
造方法を提供する。 本発明の特に好ましい態様は、フエニルトリア
ルコキシシランと、R′としてビニル基または
(メタ)アクリロキシアルキル基(CH=
CR″
【式】ここでR″は水素原子あるいはメ
チル基、RはC1〜C5のアルキレン基である)
を有するトリアルコキシシランとを共加水分解
し、得られたオリゴマーを、さらに塩基触媒を用
いて縮合させるポリシルセスキオキサンの製造法
である。 以下、本発明の好ましい実施方法を説明する。 共加水分解の際に使用する溶媒としては、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
などのエーテル系;メチルエチルケトン、ジエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
系;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
系;メタノール、エタノールなどのアルコール系
などが適当である。 縮合反応にも、加水分解に用いられる上述の溶
媒で且沸点がほぼ70℃以上のものを用いるのが適
当である。 縮合反応に用いる塩基触媒としては、NaOH、
KOH、CsOHなどのアルカリ金属ヒドロキシド、
Me4NOH、(n−Bu)4POHなどのアンモニウム
もしくはホスホニウムヒドロキシドなどが適当で
ある。 共加水分解反応はフエニルトリアルコキシシラ
ンを有機溶媒と、少量の酸触媒、例えば塩酸、硫
酸、硝酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸または各種カルボン酸などを含む水との
混合系に加えることによつて行なうことができ
る。用いる有機溶媒の使用量は、フエニルトリア
ルコキシシラン1容量部に対して約0.5〜20容量
部と広い範囲から選ぶことができる。水の量は、
有機溶媒1容量部に対し0.5〜5容量部が適当で
ある。この水に対して加える酸触媒の量は1/100
〜1/5容量部の範囲のものが適当である。 反応温度は、室温から使用溶媒の還流温度まで
の範囲から選ぶことができる。反応時間は反応温
度が比較的高い場合には比較的短かくてもよい
が、比較的低い場合には比較的長時間を要し、た
とえば室温の反応では約24時間を必要とした。 反応終了後は、有機相を、例えば塩化ナトリウ
ムを加えた水で洗浄する。洗浄は洗浄後の水が中
性になるまで行なう。その後、有機相を分離し、
無水硫酸マグネシウムなどで乾燥したのち、溶媒
を減圧除去し、さらに20〜50℃程度で乾燥して加
水分解物(オリゴマー)を得る。乾燥温度が50℃
を越えるとオリゴマーはさらに脱水縮合して有機
溶媒に不溶性になりやすく、また20℃未満では乾
燥に長時間を要し実用的でない。 こうして得られたオリゴマーの数平均分子量は
約1000〜2000程度である。 次に縮合反応は、上述の加水分解反応で得られ
たオリゴマーを、有機溶媒に溶解し、これに塩基
触媒を加えて加熱することにより行なうことがで
きる。 有機溶媒の量は、オリゴマー1重量部に対し約
0.5〜10重量部が適当である。 塩基触媒の量は、オリゴマー1重量部に対し
10-2〜10-5重量部が適当である。 触媒はオリゴマーを含む溶液に可溶であれば直
接加えても、予め触媒を溶かす溶媒に溶解したも
のを加えてもよい。触媒がオリゴマーに不溶の場
合には予じめ、触媒を溶かす溶媒に溶解し、それ
を反応溶液に加える。 反応温度は70〜130℃付近で行なうことが望ま
しく、反応時間は3〜12時間程度である。 反応終了後は、公知の方法によりポリマーを回
収する。例えば、生成物がメタノールなどに可溶
な時は、反応溶液を水で洗浄し、塩基触媒を除い
てから、有機相を無水硫酸ソーダなどで乾燥後、
溶媒を減圧で除去してポリマーを得る。生成物が
メタノールなどに不溶であれば乾燥後、乾燥剤を
除いたポリマー溶液をメタノールなどに加えて沈
殿物を得、これを真空乾燥などで乾燥してポリマ
ーを得る。 こうして得られたポリマーの分子量は5000〜
50000程度で、長時間(例えば2〜3ケ月間)保
存しておいても、不溶化すること無く、保存安定
性の良いものである。 本発明で得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トルには1040cm-1と1135cm-1に、Si−O−Si結合
に基づく強い吸収が2本観測されることから、ポ
リマーの構造は、下式に示すようなラダー構造を
していることが推定できる。 (ここでRおよびR′が同一の場合はRおよび
R′がフエニル基、ビニル基または(メタ)アク
リロキシアルキル基であり、RおよびR′が異な
る場合はRがフエニル基でありR′がビニル基ま
たは(メタ)アクリロキシアルキル基である。) 本発明で得られたポリマーは、さらにスチレ
ン、α−メチルスチレン、2−ビニルピリジン、
2−ビニルキノリン、ブタジエン、イソプレンな
どとアニオン重合開始剤とから得られるリビング
ポリマーなどを用いることによつて有機ポリマー
をグラフトすることが可能である。このグラフト
ポリマーは例えば次のような方法を用いることに
より合成することができる。すなわち、例えば
「高分子合成の実験法」化学同人発行、1972年、
213〜234頁に記載されている方法などにより得ら
れるリビングポリマーおよび本発明により得られ
たポリシルセスキオキサンを、リビングポリマー
の活性点を消失させないために酸素及び水などを
除去した反応器内で反応させることによりグラフ
トポリマーを得ることができる。 リビングポリマーおよびポリシルセスキオキサ
ンは例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、
1・2−ジメトキシエタン、2−メチルテトラヒ
ドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルなどの溶液として用い
ることが好ましい。リビングポリマー溶液の濃度
は1〜30重量%が好適でありポリシルセスキオキ
サン溶液の濃度は5〜30重量%が好適である。反
応は通常、10-3mmHg以下の真空下で行ない、反
応温度は−30〜80゜が適当であり、この温度で反
応させることにより30分〜2時間で反応が終了す
る。反応終了後はポリマー溶液からポリマーを回
収する公知の方法を用いることによつてグラフト
ポリマーを得ることができる。 また、本発明で得られたポリマーはラジカル重
合可能なモノマーとのラジカル共重合も可能であ
る。例えば、本発明により得られたポリシルセス
キオキサン、ラジカル重合可能なモノマー、およ
びラジカル重合開始剤を反応させることによりポ
リシルセスキオキサンおよびラジカル重合可能な
モノマーを共重合させることができる。 ラジカル重合可能なモノマーとしては例えばス
チレン、(メタ)アクリル酸エステル、アクリロ
ニトリル、ブタジエン、イソプレンなどを挙げる
ことができ、通常ポリシルセスキオキサン1重量
部に対し0.5〜10重量部の範囲で用いる。 また、共重合反応は溶液状態で行なうことが好
ましく、溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシ
レン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセト
ン、1・2−ジメトキシエタンなどのポリシルセ
スキオキサンおよびラジカル重合可能なモノマー
を溶解しうる溶剤を用い、通常ポリシルセスキオ
キサン1重量部に対して5〜60重量部の範囲で使
用する。 ラジカル重合開始剤としては2・2′−アゾビス
−(2・4−ジメチルバレロニトリル)、2・2′−
アゾビス−(4−メトキシ−2・4−ジメチルバ
レロニトリル)、1・1′−アゾビス−(シクロヘキ
サン−1−カルボニトリル)などのアゾ系開始
剤;過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸
化プロピオニル、過酸化イソブチリル、過ビバリ
ン酸t−ブチル、スルフオニルペルオキシド、過
ネオデカン酸t−ブチルなどの過酸化物系開始剤
などを用いることができ、使用量は反応条件など
によつて適宜決めることができる。 共重合反応はラジカルが消失しないような条
件、例えば酸素を除去した条件で行ない、通常、
反応温度は10〜70℃であり、反応時間は10〜50時
間である。反応終了後はポリマー溶液からポリマ
ーを回収する公知の方法を用いることによつて共
重合ポリマーを得ることができる。 以上に述べたように本発明で得られたポリシル
セスキオキサンは無機的な骨格に有機ポリマーを
直接化学結合させることが可能であるため、非常
に広範な用途に利用できる。その用途例をあげれ
ば、有機ポリマー表面の改質剤、架橋剤、耐熱性
塗料、充填剤などである。 例 1 17.8gのフエニルトリメトキシシランと2.5g
のγ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシ
ランを30mlのテトラヒドロフラン、19mlの水、1
mlの塩酸の混合物中に加え室温で24時間かくはん
する。 反応終了後、反応混合物を、塩化ナトリウムを
加えた水で、洗浄後の水が中性になるまで、洗浄
する。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥剤を別後、テトラヒドロフ
ランを除去し、残留物を40℃で真空乾燥して13.0
gの加水分解物(オリゴマー)を得る。その分子
量は1000であつた。 例 2 17.8gのフエニルトリメトキシシランと1.9g
のビニルトリエトキシシランを30mlのテトラヒド
ロフラン、19mlの水、1mlの塩酸の混合物中に加
え、室温で24時間かくはんする。 反応終了後、反応混合物を、塩化ナトリウムを
加えた水で、洗浄後の水が中性になるまで、洗浄
する。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥剤を別後テトラヒドロフラ
ンを除き、残留物を40℃で真空乾燥し、12.1gの
加水分解物(オリゴマー)を得る。その分子量は
1200であつた。 例 3 例1で得た加水分解物2gを、メチルイソブチ
ルケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの
10%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度
(100〜110℃)で6時間反応させる。 反応終了後、反応混合物をメタノールに注ぎ、
ポリマーを沈殿させる。得られた沈殿は、メタノ
ールでよく洗浄し、真空乾燥する。ポリマーの収
量は1.7gで、分子量は8700であつた。 例 4 例2で得た加水分解物2gを、メチルイソブチ
ルケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの
10%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度
(100〜110℃)で6時間反応させる。 反応終了後、反応混合物をメタノールに注ぎ、
ポリマーを沈殿させる。得られた沈殿はメタノー
ルでよく洗い、真空乾燥する。ポリマーの収量は
1.4gで、分子量は8500であつた。 例 5 図1の合成容器を用いてリビングポリスチレン
を合成した。 スチレンモノマーはCaH2で脱水蒸留したもの
を使用し、さらにLiAlH4を加えて真空蒸留し、
それとテトラヒドロフランとの混合溶液を図1の
ブレーカブルシール付アンプルCに封入する(ス
チレン:10g、テトラヒドロフラン:50ml)。n
−BuLiはn−BuBrと金属Liからベンゼン中で合
成し、酸−塩基滴定により濃度を決定した
(0.82M)。図1の装置を真空ラインGに取り付
け、24時間脱気した後、前記n−BuLiのベンゼ
ン溶液1.2mlを窒素下でAの反応部に入れる。そ
の後、脱気して封管部Bを封じる。Aを−78℃に
冷却して、Cからスチレンとテトラヒドロフラン
との混合溶液を加える。その後、室温にもどして
からかくはんし、反応を完結させる。 反応物(リビングポリスチレン)を複数個の反
応物受器Dに小分けして封管し、−30℃で保存す
る。 図1中のその他の記号の説明は、後記の「図面
の簡単な説明」の欄の説明を参照されたい。 次に例3で得たポリシルセスキオキサン2gを
凍結乾燥し、ブレーカブルシール付アンプル内で
さらに減圧乾燥する。さらにテトラヒドロフラン
にLiAlH4を加えて乾燥し、真空蒸留でブレーカ
ブルシール付アンプル内にうつし(10ml)、シル
セスキオキサンのテトラヒドロフラン溶液とす
る。そのアンプルを封じ、図2の装置に取り付け
てFとする。Eは−30℃で保存しておいたリビン
グポリスチレン溶液を封入したブレーカブルシー
ル付アンプルである。 図2の装置を真空ラインIに接続し、脱気後、
封管部Aで封管する。ブレーカブルシール付アン
プルB内のナトリウム−ナフタレンのテトラヒド
ロフラン溶液(0.1モル/)2〜3mlを系内に
流し込み洗浄する。洗浄後のナトリウム−ナフタ
レンのテトラヒドロフラン溶液は受器Cに流し込
み封管部Dで封管する。ブレーカブルシール付ア
ンプルEのリビングポリスチレン溶液を反応部G
に入れる。Gを−78℃に冷却し、ブレーカブルシ
ール付アンプルFのシルセスキオキサンのテトラ
フラン溶液を加える。リビングポリスチレンの赤
色はシルセスキオキサンを加えると消失する。そ
の後、室温で1時間かくはんした後、開管し、メ
タノールに注ぎポリマーを沈殿させ、別後さら
にシクロヘキサン抽出でスチレンホモポリマーを
除いた。その後、減圧乾燥して5gのグラフトポ
リマーを得る。 図2中のその他の記号の説明は、後述の「図面
の簡単な説明」の欄の説明を参照されたい。 原料ポリマーとともにグラフトポリマーの
GPCチヤートを図3に示す。 例 6 ポリシルセスキオキサンとして例4で得たもの
を用いて例5と同様の操作を行ない、5gのグラ
フトポリマーを得た。そのGPCチヤートを図4
に示す。 例 7 例4で得たポリシルセスキオキサン0.1gとス
チレン0.5mlとを封管できるガラス容器に加えこ
れにベンゼン5mlおよび2・2′−アゾビス−
(2・4−ジメチルバレロニトリル)1.0gを加え
て脱気後封管する。次に反応管を30℃に保つて1
日放置する。その後、反応物をメタノールに注ぎ
ポリマーを沈殿させた。これを別後シクロヘキ
サンで抽出してスチレンホモポリマーを除いた後
減圧乾燥して0.26gのスチレン共重合ポリマーを
得た。 例 8 17.8gのフエニルトリエトキシシランと2.3g
のアクリロキシプロピルトリメトキシシランを30
mlのテトラヒドロフラン、19mlの水、1mlの塩酸
の混合物中に加え、室温で24時間撹拌した。 反応終了後、反応混合物を塩化ナトリウムを加
えた水で洗浄後の水が中性になるまで洗浄した。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥剤をろ別したのち、テトラヒ
ドロフランを除き、残留物を40℃で真空乾燥し、
12.6gの加水分解物(オリゴマー)を得た。 その分子量は、1100であつた。 例 9 例8で得た加水分解物2gをメチルイソブチル
ケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの10
%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度(100
〜110℃)で6時間反応させた。 得られた沈殿は、メタノールでよく洗浄し、真
空乾燥した。ポリマーの収量は1.7gで、分子量
は9200であつた。
を有するトリアルコキシシランとを共加水分解
し、得られたオリゴマーを、さらに塩基触媒を用
いて縮合させるポリシルセスキオキサンの製造法
である。 以下、本発明の好ましい実施方法を説明する。 共加水分解の際に使用する溶媒としては、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
などのエーテル系;メチルエチルケトン、ジエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
系;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
系;メタノール、エタノールなどのアルコール系
などが適当である。 縮合反応にも、加水分解に用いられる上述の溶
媒で且沸点がほぼ70℃以上のものを用いるのが適
当である。 縮合反応に用いる塩基触媒としては、NaOH、
KOH、CsOHなどのアルカリ金属ヒドロキシド、
Me4NOH、(n−Bu)4POHなどのアンモニウム
もしくはホスホニウムヒドロキシドなどが適当で
ある。 共加水分解反応はフエニルトリアルコキシシラ
ンを有機溶媒と、少量の酸触媒、例えば塩酸、硫
酸、硝酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸または各種カルボン酸などを含む水との
混合系に加えることによつて行なうことができ
る。用いる有機溶媒の使用量は、フエニルトリア
ルコキシシラン1容量部に対して約0.5〜20容量
部と広い範囲から選ぶことができる。水の量は、
有機溶媒1容量部に対し0.5〜5容量部が適当で
ある。この水に対して加える酸触媒の量は1/100
〜1/5容量部の範囲のものが適当である。 反応温度は、室温から使用溶媒の還流温度まで
の範囲から選ぶことができる。反応時間は反応温
度が比較的高い場合には比較的短かくてもよい
が、比較的低い場合には比較的長時間を要し、た
とえば室温の反応では約24時間を必要とした。 反応終了後は、有機相を、例えば塩化ナトリウ
ムを加えた水で洗浄する。洗浄は洗浄後の水が中
性になるまで行なう。その後、有機相を分離し、
無水硫酸マグネシウムなどで乾燥したのち、溶媒
を減圧除去し、さらに20〜50℃程度で乾燥して加
水分解物(オリゴマー)を得る。乾燥温度が50℃
を越えるとオリゴマーはさらに脱水縮合して有機
溶媒に不溶性になりやすく、また20℃未満では乾
燥に長時間を要し実用的でない。 こうして得られたオリゴマーの数平均分子量は
約1000〜2000程度である。 次に縮合反応は、上述の加水分解反応で得られ
たオリゴマーを、有機溶媒に溶解し、これに塩基
触媒を加えて加熱することにより行なうことがで
きる。 有機溶媒の量は、オリゴマー1重量部に対し約
0.5〜10重量部が適当である。 塩基触媒の量は、オリゴマー1重量部に対し
10-2〜10-5重量部が適当である。 触媒はオリゴマーを含む溶液に可溶であれば直
接加えても、予め触媒を溶かす溶媒に溶解したも
のを加えてもよい。触媒がオリゴマーに不溶の場
合には予じめ、触媒を溶かす溶媒に溶解し、それ
を反応溶液に加える。 反応温度は70〜130℃付近で行なうことが望ま
しく、反応時間は3〜12時間程度である。 反応終了後は、公知の方法によりポリマーを回
収する。例えば、生成物がメタノールなどに可溶
な時は、反応溶液を水で洗浄し、塩基触媒を除い
てから、有機相を無水硫酸ソーダなどで乾燥後、
溶媒を減圧で除去してポリマーを得る。生成物が
メタノールなどに不溶であれば乾燥後、乾燥剤を
除いたポリマー溶液をメタノールなどに加えて沈
殿物を得、これを真空乾燥などで乾燥してポリマ
ーを得る。 こうして得られたポリマーの分子量は5000〜
50000程度で、長時間(例えば2〜3ケ月間)保
存しておいても、不溶化すること無く、保存安定
性の良いものである。 本発明で得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トルには1040cm-1と1135cm-1に、Si−O−Si結合
に基づく強い吸収が2本観測されることから、ポ
リマーの構造は、下式に示すようなラダー構造を
していることが推定できる。 (ここでRおよびR′が同一の場合はRおよび
R′がフエニル基、ビニル基または(メタ)アク
リロキシアルキル基であり、RおよびR′が異な
る場合はRがフエニル基でありR′がビニル基ま
たは(メタ)アクリロキシアルキル基である。) 本発明で得られたポリマーは、さらにスチレ
ン、α−メチルスチレン、2−ビニルピリジン、
2−ビニルキノリン、ブタジエン、イソプレンな
どとアニオン重合開始剤とから得られるリビング
ポリマーなどを用いることによつて有機ポリマー
をグラフトすることが可能である。このグラフト
ポリマーは例えば次のような方法を用いることに
より合成することができる。すなわち、例えば
「高分子合成の実験法」化学同人発行、1972年、
213〜234頁に記載されている方法などにより得ら
れるリビングポリマーおよび本発明により得られ
たポリシルセスキオキサンを、リビングポリマー
の活性点を消失させないために酸素及び水などを
除去した反応器内で反応させることによりグラフ
トポリマーを得ることができる。 リビングポリマーおよびポリシルセスキオキサ
ンは例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、
1・2−ジメトキシエタン、2−メチルテトラヒ
ドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルなどの溶液として用い
ることが好ましい。リビングポリマー溶液の濃度
は1〜30重量%が好適でありポリシルセスキオキ
サン溶液の濃度は5〜30重量%が好適である。反
応は通常、10-3mmHg以下の真空下で行ない、反
応温度は−30〜80゜が適当であり、この温度で反
応させることにより30分〜2時間で反応が終了す
る。反応終了後はポリマー溶液からポリマーを回
収する公知の方法を用いることによつてグラフト
ポリマーを得ることができる。 また、本発明で得られたポリマーはラジカル重
合可能なモノマーとのラジカル共重合も可能であ
る。例えば、本発明により得られたポリシルセス
キオキサン、ラジカル重合可能なモノマー、およ
びラジカル重合開始剤を反応させることによりポ
リシルセスキオキサンおよびラジカル重合可能な
モノマーを共重合させることができる。 ラジカル重合可能なモノマーとしては例えばス
チレン、(メタ)アクリル酸エステル、アクリロ
ニトリル、ブタジエン、イソプレンなどを挙げる
ことができ、通常ポリシルセスキオキサン1重量
部に対し0.5〜10重量部の範囲で用いる。 また、共重合反応は溶液状態で行なうことが好
ましく、溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシ
レン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセト
ン、1・2−ジメトキシエタンなどのポリシルセ
スキオキサンおよびラジカル重合可能なモノマー
を溶解しうる溶剤を用い、通常ポリシルセスキオ
キサン1重量部に対して5〜60重量部の範囲で使
用する。 ラジカル重合開始剤としては2・2′−アゾビス
−(2・4−ジメチルバレロニトリル)、2・2′−
アゾビス−(4−メトキシ−2・4−ジメチルバ
レロニトリル)、1・1′−アゾビス−(シクロヘキ
サン−1−カルボニトリル)などのアゾ系開始
剤;過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸
化プロピオニル、過酸化イソブチリル、過ビバリ
ン酸t−ブチル、スルフオニルペルオキシド、過
ネオデカン酸t−ブチルなどの過酸化物系開始剤
などを用いることができ、使用量は反応条件など
によつて適宜決めることができる。 共重合反応はラジカルが消失しないような条
件、例えば酸素を除去した条件で行ない、通常、
反応温度は10〜70℃であり、反応時間は10〜50時
間である。反応終了後はポリマー溶液からポリマ
ーを回収する公知の方法を用いることによつて共
重合ポリマーを得ることができる。 以上に述べたように本発明で得られたポリシル
セスキオキサンは無機的な骨格に有機ポリマーを
直接化学結合させることが可能であるため、非常
に広範な用途に利用できる。その用途例をあげれ
ば、有機ポリマー表面の改質剤、架橋剤、耐熱性
塗料、充填剤などである。 例 1 17.8gのフエニルトリメトキシシランと2.5g
のγ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシ
ランを30mlのテトラヒドロフラン、19mlの水、1
mlの塩酸の混合物中に加え室温で24時間かくはん
する。 反応終了後、反応混合物を、塩化ナトリウムを
加えた水で、洗浄後の水が中性になるまで、洗浄
する。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥剤を別後、テトラヒドロフ
ランを除去し、残留物を40℃で真空乾燥して13.0
gの加水分解物(オリゴマー)を得る。その分子
量は1000であつた。 例 2 17.8gのフエニルトリメトキシシランと1.9g
のビニルトリエトキシシランを30mlのテトラヒド
ロフラン、19mlの水、1mlの塩酸の混合物中に加
え、室温で24時間かくはんする。 反応終了後、反応混合物を、塩化ナトリウムを
加えた水で、洗浄後の水が中性になるまで、洗浄
する。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥剤を別後テトラヒドロフラ
ンを除き、残留物を40℃で真空乾燥し、12.1gの
加水分解物(オリゴマー)を得る。その分子量は
1200であつた。 例 3 例1で得た加水分解物2gを、メチルイソブチ
ルケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの
10%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度
(100〜110℃)で6時間反応させる。 反応終了後、反応混合物をメタノールに注ぎ、
ポリマーを沈殿させる。得られた沈殿は、メタノ
ールでよく洗浄し、真空乾燥する。ポリマーの収
量は1.7gで、分子量は8700であつた。 例 4 例2で得た加水分解物2gを、メチルイソブチ
ルケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの
10%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度
(100〜110℃)で6時間反応させる。 反応終了後、反応混合物をメタノールに注ぎ、
ポリマーを沈殿させる。得られた沈殿はメタノー
ルでよく洗い、真空乾燥する。ポリマーの収量は
1.4gで、分子量は8500であつた。 例 5 図1の合成容器を用いてリビングポリスチレン
を合成した。 スチレンモノマーはCaH2で脱水蒸留したもの
を使用し、さらにLiAlH4を加えて真空蒸留し、
それとテトラヒドロフランとの混合溶液を図1の
ブレーカブルシール付アンプルCに封入する(ス
チレン:10g、テトラヒドロフラン:50ml)。n
−BuLiはn−BuBrと金属Liからベンゼン中で合
成し、酸−塩基滴定により濃度を決定した
(0.82M)。図1の装置を真空ラインGに取り付
け、24時間脱気した後、前記n−BuLiのベンゼ
ン溶液1.2mlを窒素下でAの反応部に入れる。そ
の後、脱気して封管部Bを封じる。Aを−78℃に
冷却して、Cからスチレンとテトラヒドロフラン
との混合溶液を加える。その後、室温にもどして
からかくはんし、反応を完結させる。 反応物(リビングポリスチレン)を複数個の反
応物受器Dに小分けして封管し、−30℃で保存す
る。 図1中のその他の記号の説明は、後記の「図面
の簡単な説明」の欄の説明を参照されたい。 次に例3で得たポリシルセスキオキサン2gを
凍結乾燥し、ブレーカブルシール付アンプル内で
さらに減圧乾燥する。さらにテトラヒドロフラン
にLiAlH4を加えて乾燥し、真空蒸留でブレーカ
ブルシール付アンプル内にうつし(10ml)、シル
セスキオキサンのテトラヒドロフラン溶液とす
る。そのアンプルを封じ、図2の装置に取り付け
てFとする。Eは−30℃で保存しておいたリビン
グポリスチレン溶液を封入したブレーカブルシー
ル付アンプルである。 図2の装置を真空ラインIに接続し、脱気後、
封管部Aで封管する。ブレーカブルシール付アン
プルB内のナトリウム−ナフタレンのテトラヒド
ロフラン溶液(0.1モル/)2〜3mlを系内に
流し込み洗浄する。洗浄後のナトリウム−ナフタ
レンのテトラヒドロフラン溶液は受器Cに流し込
み封管部Dで封管する。ブレーカブルシール付ア
ンプルEのリビングポリスチレン溶液を反応部G
に入れる。Gを−78℃に冷却し、ブレーカブルシ
ール付アンプルFのシルセスキオキサンのテトラ
フラン溶液を加える。リビングポリスチレンの赤
色はシルセスキオキサンを加えると消失する。そ
の後、室温で1時間かくはんした後、開管し、メ
タノールに注ぎポリマーを沈殿させ、別後さら
にシクロヘキサン抽出でスチレンホモポリマーを
除いた。その後、減圧乾燥して5gのグラフトポ
リマーを得る。 図2中のその他の記号の説明は、後述の「図面
の簡単な説明」の欄の説明を参照されたい。 原料ポリマーとともにグラフトポリマーの
GPCチヤートを図3に示す。 例 6 ポリシルセスキオキサンとして例4で得たもの
を用いて例5と同様の操作を行ない、5gのグラ
フトポリマーを得た。そのGPCチヤートを図4
に示す。 例 7 例4で得たポリシルセスキオキサン0.1gとス
チレン0.5mlとを封管できるガラス容器に加えこ
れにベンゼン5mlおよび2・2′−アゾビス−
(2・4−ジメチルバレロニトリル)1.0gを加え
て脱気後封管する。次に反応管を30℃に保つて1
日放置する。その後、反応物をメタノールに注ぎ
ポリマーを沈殿させた。これを別後シクロヘキ
サンで抽出してスチレンホモポリマーを除いた後
減圧乾燥して0.26gのスチレン共重合ポリマーを
得た。 例 8 17.8gのフエニルトリエトキシシランと2.3g
のアクリロキシプロピルトリメトキシシランを30
mlのテトラヒドロフラン、19mlの水、1mlの塩酸
の混合物中に加え、室温で24時間撹拌した。 反応終了後、反応混合物を塩化ナトリウムを加
えた水で洗浄後の水が中性になるまで洗浄した。 その後、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥剤をろ別したのち、テトラヒ
ドロフランを除き、残留物を40℃で真空乾燥し、
12.6gの加水分解物(オリゴマー)を得た。 その分子量は、1100であつた。 例 9 例8で得た加水分解物2gをメチルイソブチル
ケトン3mlに溶解し、これに水酸化カリウムの10
%メタノール溶液0.05mlを加え、還流温度(100
〜110℃)で6時間反応させた。 得られた沈殿は、メタノールでよく洗浄し、真
空乾燥した。ポリマーの収量は1.7gで、分子量
は9200であつた。
図1は本発明により得られるシリコーン樹脂と
反応させるリビングポリスチレン合成容器の一例
を示す概略図である。 A……反応部、B……封管部、C……スチレン
とテトラヒドロフランとの混合溶液を封入したブ
レーカブルシール付アンプル、D……反応物受
器、E……合成容器本体、F……回転子、G……
真空ライン、 図2は本発明により得られるシリコーン樹脂を
使用するグラフトポリマー合成容器の一例を示す
概略図である。 A,D……封管部、B……ナトリウム−ナフタ
レンのテトラヒドロフラン溶液を封入したブレー
カブルシール付アンプル、C……ナトリウム−ナ
フタレンのテトラヒドロフラン溶液受器、E……
リビングポリスチレン溶液を封入したブレーカブ
ルシール付アンプル、F……シルセスキオキサン
のテトラヒドロフラン溶液を封入したブレーカブ
ルシール付アンプル、G……反応部、H……回転
子、I……真空ライン、 図3及び図4は原料ポリマー及びグラフトポリ
マーのGPCチヤートであり、実線はポリスチレ
ングラフトシルセスキオキサン、破線はポリスチ
レン、一点鎖線はシルセスキオキサンを示す。
反応させるリビングポリスチレン合成容器の一例
を示す概略図である。 A……反応部、B……封管部、C……スチレン
とテトラヒドロフランとの混合溶液を封入したブ
レーカブルシール付アンプル、D……反応物受
器、E……合成容器本体、F……回転子、G……
真空ライン、 図2は本発明により得られるシリコーン樹脂を
使用するグラフトポリマー合成容器の一例を示す
概略図である。 A,D……封管部、B……ナトリウム−ナフタ
レンのテトラヒドロフラン溶液を封入したブレー
カブルシール付アンプル、C……ナトリウム−ナ
フタレンのテトラヒドロフラン溶液受器、E……
リビングポリスチレン溶液を封入したブレーカブ
ルシール付アンプル、F……シルセスキオキサン
のテトラヒドロフラン溶液を封入したブレーカブ
ルシール付アンプル、G……反応部、H……回転
子、I……真空ライン、 図3及び図4は原料ポリマー及びグラフトポリ
マーのGPCチヤートであり、実線はポリスチレ
ングラフトシルセスキオキサン、破線はポリスチ
レン、一点鎖線はシルセスキオキサンを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 フエニルトリアルコキシシランC6H5Si
(OR)3(ここでRはC1〜C4のアルキル基)と重合
しうる有機基R′〔ここでR′はビニル基、または
(メタ)アクリロキシアルキル基である〕を有す
るトリアルコキシシランR′Si(OR)3を共加水分解
することによつて得られたオリゴマーを、さらに
塩基触媒を用いて縮合させることを特徴とするシ
リコーン樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5423080A JPS56151731A (en) | 1980-04-25 | 1980-04-25 | Preparation of silicone resin |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5423080A JPS56151731A (en) | 1980-04-25 | 1980-04-25 | Preparation of silicone resin |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56151731A JPS56151731A (en) | 1981-11-24 |
JPS633893B2 true JPS633893B2 (ja) | 1988-01-26 |
Family
ID=12964734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5423080A Granted JPS56151731A (en) | 1980-04-25 | 1980-04-25 | Preparation of silicone resin |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56151731A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0610263B2 (ja) * | 1986-02-25 | 1994-02-09 | 関西ペイント株式会社 | ポリシロキサン系マクロモノマ− |
EP1837902B1 (en) * | 2000-08-21 | 2017-05-24 | Dow Global Technologies LLC | Use of organosilicate resins as hardmasks for organic polymer dielectrics in fabrication of microelectronic devices |
JP2002088157A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | スチリル基を置換基として含むラダー型シルセスキオキサン化合物およびその製造方法 |
US8053159B2 (en) | 2003-11-18 | 2011-11-08 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
DE602005003475T2 (de) | 2004-07-16 | 2008-09-25 | Dow Corning Corp., Midland | Strahlungsempfindliche silikonharzzusammensetzung |
JP5453742B2 (ja) * | 2008-07-15 | 2014-03-26 | Jsr株式会社 | 積層フィルムおよびその用途 |
CN104892939B (zh) * | 2014-03-05 | 2017-11-28 | 马凤国 | 一种苯基硅树脂的制备方法 |
CN108003347A (zh) * | 2017-11-23 | 2018-05-08 | 烟台德邦先进硅材料有限公司 | 一种用于大功率封装用mdt硅树脂的制备方法 |
-
1980
- 1980-04-25 JP JP5423080A patent/JPS56151731A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56151731A (en) | 1981-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR940011165B1 (ko) | 실라놀 함량이 낮은 가용성 축합 하이드리도실리콘수지의 제조 방법 | |
EP0243006B1 (en) | Block-graft copolymers and process for producing the same | |
Gregonis et al. | Preparation and properties of stereoregular poly (hydroxyethyl methacrylate) polymers and hydrogels | |
JPH03200807A (ja) | 有機重合体、その製造方法及びそれを用いた硬化性組成物 | |
JPS633893B2 (ja) | ||
JPS62270611A (ja) | シリコ−ン−有機ブロツク重合体及びその製造方法 | |
JP3942201B2 (ja) | フェニルポリシルセスキオキサンの製造方法 | |
JP5503654B2 (ja) | 変性ポリシロキサン化合物の製造方法 | |
JP3141958B2 (ja) | 気体透過性重合体およびその製造方法 | |
JPS60123518A (ja) | シリコ−ン系グラフト共重合体の製造方法 | |
JP2001220445A (ja) | ポリシランの製造方法 | |
JPH058924B2 (ja) | ||
US6281318B1 (en) | Poly{1-(1-alkoxyalkoxy)-4-(1-methylethenyl)benzene} having narrow molecular weight distribution, its preparation process, and preparation process of poly{4-methylethenyl)phenol} having narrow molecular weight distribution | |
Pinazzi et al. | Radical initiated synthesis of hydroxyl terminated polymers using aqueous hydrogen peroxide as initiator | |
JP3729593B2 (ja) | 狭分散性のポリ(p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン)の製造方法 | |
JP3674205B2 (ja) | ポリシラン類の製造方法 | |
JPH07258310A (ja) | アクリレート類の重合を制御する方法及び触媒 | |
Bicu et al. | Allylic polymers from resin acids. Monomer synthesis at high temperature | |
JP3667074B2 (ja) | 狭分散性のポリ{1−(1−アルコキシエトキシ)−4−(1−メチルエテニル)ベンゼン}およびその製造方法 | |
Wesslén et al. | Anionic polymerization of vinyl chloride | |
JPS59202224A (ja) | ブロツク共重合体の製法 | |
US3755283A (en) | Novel polymers and method of preparing same | |
JP3290461B2 (ja) | ジフェニルアセチレン系ポリマー | |
JP2019065146A (ja) | 共重合体、組成物、共重合体の製造方法 | |
SU464601A1 (ru) | Способ получени органо(гидро) полисилоксанов |