JPS6334402B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6334402B2
JPS6334402B2 JP5158182A JP5158182A JPS6334402B2 JP S6334402 B2 JPS6334402 B2 JP S6334402B2 JP 5158182 A JP5158182 A JP 5158182A JP 5158182 A JP5158182 A JP 5158182A JP S6334402 B2 JPS6334402 B2 JP S6334402B2
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JP
Japan
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measured
prism
interference fringe
light
hologram
Prior art date
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Expired
Application number
JP5158182A
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English (en)
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JPS58167907A (ja
Inventor
Joji Matsuda
Tomoaki Nagasu
Suketsugu Enomoto
Yoshitaro Yoshida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP5158182A priority Critical patent/JPS58167907A/ja
Priority to US06/424,629 priority patent/US4529310A/en
Publication of JPS58167907A publication Critical patent/JPS58167907A/ja
Publication of JPS6334402B2 publication Critical patent/JPS6334402B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
    • G01B11/27Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
    • G01B11/272Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes using photoelectric detection means

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は回転物体の回転中心位置を検出する
ための方法に関するものである。工作機械におい
て、被加工物の平面状の加工面を超精密仕上げす
る場合には、通常その加工面を工作機械に取付け
て回転させ、刃物台に取りつけたダイヤモンドバ
イト等を加工面の外周部から回転中心部に向けて
進める。而してこのバイト等を加工面の回転中心
に向けて正確に進めるためには、加工面の回転中
心位置を検出して、それを刃物台の制御にフイー
ドバツクさせればよいわけであり、この発明の発
明者等は先にレーザードツプラ法を応用してこの
加工面の回転中心位置を検出するための方法を開
発した。この新たに開発された回転物体の回転中
心位置検出方法は回転面の回転中心を高精度にか
つ簡単に検出することが出来るのであるが、回転
面の中心部近傍のように回転速度の遅い部分にお
いてペデスタル成分と信号成分との分離がより簡
単に行えればいつそう望ましいと考えられる。
この発明は上記のごとき事情に鑑みてなされた
ものであつて、レーザドツプラ法を応用して高精
度にかつ簡単に回転面の回転中心を検出する事が
でき、かつ特に、回転速度の遅い部分の測定にお
いてペデスタル成分と信号成分との分離が容易な
回転中心位置検出方法を提供することを目的とす
るものである。
この目的に対応して、この発明の回転物体の回
転中心位置検出方法は、光電検出器と周波数解析
器を有する干渉縞測定装置と、二光束法レーザド
ツプラ用干渉縞発生装置と、及び顕微鏡、とを使
用し、前記レーザドツプラ用干渉縞発生装置によ
つて発生したレーザドツプラ用干渉縞を前記顕微
鏡によつて被測定物の表面で散乱させ、前記被測
定物の表面からの散乱光を前記干渉縞測定装置の
前記光電検出器によつて光電変換して前記周波数
解析器によつて前記被測定物の表面上の前記レー
ザドツプラ用干渉縞のドツプラ信号周波数を測定
し、そのような測定を前記被測定物の表面上の複
数箇所で行つて前記ドツプラ信号周波数が0にな
る前記表面上の位置を検出し、その位置をもつて
前記表面の回転中心とする回転物体の回転中心位
置検出方法であつて、二光束法における二光束の
うち一方の光束の光束路中に楔状のプリズムを前
記光束路における前記プリズムの厚さが変化する
方向に前記プリズムが移動し得るよう位置させ、
前記プリズムによつて前記一方の光束の周波数を
変調することを特徴としている。
以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面に
ついて説明する。
第1図において、1はこの発明の回転中心位置
検出方法において使用する回転中心位置検出装置
である。回転中心位置検出装置1は干渉縞発生装
置2、顕微鏡3、干渉縞測定装置4を備えてい
る。干渉縞発生装置2はレーザ発生装置5を備
え、かつレーザ発生装置5からのレーザの進行方
向に順次ミラー6、ビームスプリツタ7、2個の
ポラライザ8a,8b、他のポラライザ9、レン
ズ11を備えている。特に重要なこととして光束
F2にはビームスプリツタ7とポラライザ8bと
の間には楔状のプリズム10が挿入されている。
このプリズム10はその厚みが変化する方向に移
動し得るように構成されている。2個のポラライ
ザ8a,8bはビームスプリツタ7からの光束
F1,F2の光量を一致させるためのものであり、
他のポラライザ9はポラライザ8a,8bを使用
したためにF1,F2光束に生じた偏光状態の相違
を一致させるためのものである。顕微鏡3は対物
レンズを被測定面に対向させて配設される。被測
定面12は工作物の仕上げ面であつて、工作機械
のチヤツク等に挟みつけられて回転するものであ
り、これがこの発明の装置によつて回転中心位置
を検出しようとする対象物である。干渉縞測定装
置4は光電検出器13、周波数解析器14を備え
ている。
レーザ発生装置5から発光したレーザ光はミラ
ー6で光路変換したのちビームスプリツタ7へ入
射し、ここで2つの光束F1,F2に分割する。光
束F1はポラライザ8aで光量調整され、さらに
ポラライザ9で偏光調整されたのち、レンズ11
を通して焦点位置0に結像する。
一方光束F2はプリズム10で周波数変調され、
次いでポラライザ8bで光量調整され、さらにポ
ラライザ9で偏光調整されたのち、レンズ11を
通して焦点位置0に結像する。したがつて、この
2つの光束F1,F2が焦点位置0で互いに重なり
合い干渉縞が生じる。
この焦点位置0における干渉縞は顕微鏡3を通
して被測定面12上に投影されるが、この干渉縞
は回転移動する被測定面12上の微小な凹凸によ
つて散乱され、その光が光電検出器13で光電変
換され電気信号が周波数解析器14によつて解析
される。
第2図に示す如く、周波数f0の光が被測定面1
2上の被測定点に、その移動方向に各々(π/
2)−β、(π/2)+βの方向から入射し、その
散乱光をπ/2の方向から観測したときに、それ
ぞれの方向からの散乱光の周波数がf1、f2になる
ものとすれば、Vを被測定点の移動速度、λを波
長として、 f1=f0+(V sinβ/λ) f2=f0−(V sinβ/λ) 二光束差動型LDVのドツプラ信号周波数fは f=|f1−f2|=(2V sinβ)/λ であるから、このfを測定することによつて被測
定点の速度Vを検出することができ、さらにこの
速度V=0の点を求めれば、被測定面12の回転
中心位置を検出することができる。速度V=0の
点を検出するためには第3図に示すごとく干渉縞
の測定を、被測定面12上のX方向の複数の任意
点、及びY方向の複数の任意点において行う。こ
の場合、観測方向は被測定点の移動方向に垂直で
ある。この発明では、特定の場所のみにレーザ光
を照射しているので、例えば、+側にドツプラシ
フトが生じているときのみ信号が取り込まれるよ
うにしているので、得られる信号にはドツプラシ
フトが観測される。
なお、ドツプラビート周波数fについては次の
ようにも説明できる。
測定位置に生じている干渉縞の明暗の1周期の
間隔αは同一条件の場合 α=X/2sinβ となるので、ここを速度Vの被測定物体が通過す
ると、散乱光の強弱の周期fは f=V/α=2V sinβ/λ となり、これは先に計算されたfと一致する。
ところで、ここで注意すべきことは、プリズム
10の存在である。すなわち、プリズム10が存
在せず、かつ、被測定面12の回転速度が低い場
合には第4図aに示すように、被測定面12によ
る散乱光からの信号成分はペデスタル成分に埋も
れた状態となつて両者の弁別が困難である。そこ
でこの弁別を可能にするために本発明ではプリズ
ム10を設けたのであるが、プリズム10は第5
図に示すごとく、直行する2面S1,S2とプリズム
頂角Θの斜面S3とを持つ楔状で、その材質はたと
えばBK7で構成される。プリズム10は面S2
入射光束F2に直交するように配設され、かつ、
移動架台(図示せず)を使用して斜面S3に平行な
方向に移動できるように構成されている。光束
F2はプリズム10で光路長が変えられ、光束F1
F2の位相関係が変化し、かつ、プリズム10の
厚みを連続的に変えることによつて位相関係も連
続的に変化し、したがつて二光束F1,F2の周波
数に差が生じる。プリズム10の厚みを連続的に
変化させることは、プリズム10を斜面S3と平行
な方向に連続的に移動させることによつて行な
う。この場合の二光束F1,F2の周波数の差Δf0
は、nをプリズム10の屈折率、Vdをプリズム
10の厚さの増加速度、Vpをプリズム10の移
動速度とすると、 Δf0=(1−n)・Vd/λ Vd=Vp・sinθ したがつて、光束F1,F2とに周波数の差Δf0
生じる。このとき、二光束差動型L.D.V.のドツ
プラ信号周波数fと被測定面12の回転速度との
関係は f=2sinβ・f0・V/C−Δf0 ただし、Cは光速である。
このようにして、干渉縞からの信号をペデスタ
ル成分から分離することができる。
なお、この第3図に示す如き検出操作におい
て、被測定面12上のX、Y方向の複数点での干
渉縞の測定をより簡略化することが望まれる場合
には、干渉縞の測定を第6図に示す如く行つても
よい。すなわち、被測定面12上のXY座標軸上
に2個の干渉縞A,Bが生ずるように干渉縞発生
装置を構成する。この様に2個の干渉縞A,Bを
同時に被測定面12上に形成すれば、それらの測
定によりX軸上のB点の速度とY軸上のA点の速
度がプリズムによつてシフトされた周波数に対応
する速度に等しくなる点を捜して被測定面12の
回転中心位置として検出することが出来る。ま
た、プリズムによつてシフトされた周波数の位置
に対して得られたドツプラ信号の周波数が高い方
にずれたが、低い方にずれたかを調べることによ
り、速度方向の正負を判定することができる。そ
して検出位置と速度の大きさと方向から回転中心
位置を計算によつて求めることができる。すなわ
ち、速度v、回転面の角速度ωとすると、検出位
置から回転中心までの距離rは、r=v/ω、に
よつて与えられる。A点、B点の検出から、それ
ぞれy軸及びx軸方向の点A,Bからの距離の大
きさがrの式から求まり、方向は速度の正負から
求められる。この場合には、回転面の角速度ωを
回転中心から充分離れた位置で前もつて測定して
おく必要がある。(本発明のようにμオーダーの
中心位置検出を問題としている場合は、角速度ω
を測定する位置は回転中心から数センチメートル
離れていれば十分である。)この方法の利点は検
出器を移動しなくても良い点にある。
この様な干渉縞A,Bの形成のためには、レー
ザ光を分割して必要数の多光束を得る必要があ
り、そのためには、多光束ビームスプリツタを必
要とするが、この多光束ビームスプリツタを、多
重露光したホログラムによつて構成する事がで
き、これにともなつてレーザドツプラ用干渉縞発
生装置の構成を簡単にすることができる。すなわ
ち、第7図にはこの発明の他の実施例に係わる回
転中心位置検出装置1aが示されており、この回
転中心位置検出装置1aでは、干渉縞発生装置2
aがレーザ発生装置5と、レーザ発生装置5から
のレーザの進行方向に順次配置されたミラー6、
ミラー6a、レンズ15、レンズ16、ホログラ
ムH、及びレンズ17で構成されている。光束F
にはプリズム10が挿入されている。レンズ1
5,16はビームエキスパンダを構成し、レーザ
ビームは拡大して平行光束となつたのちホログラ
ムHを照明する。ホログラムHからは複数の物体
光が再生されて、レンズ17を通り、焦点位置
O′に集光して干渉縞を形成する。
多光束ビームスプリツタとして機能するホログ
ラムHを作製する方法は次の通りである。すなわ
ち、第8図及び第9図に示す如く、角度の異なる
3本の平行光束からなる物体光O2,O4を平行な
3本の参照ビームR1,R3,R4によつて、ホログ
ラムHに記録するが、その際ホログラムを小ブロ
ツクにわけ、各部分に各物体光を記録する。(全
面に一度に記録することも可能だが、コントラス
トや不必要な干渉がおこるのを防ぐためである。) (1) まず、物体光O2を参照ビームR3,R4によつ
てブロツクH3,H4に記録する。この場合参照
ビームR4の光路にはプリズム10を挿入して
おく。
(2) 次に、第9図に示す如く、物体光O2の中心
光線を含む面と垂直な面内に物体光O4の中心
光線をおく。
(3) 前と同様に、物体光O4を参照光R1,R4によ
つて、ブロツクH1,H4に記録する。
これらの操作によりブロツクH1に物体光O4
ブロツクH3に物体光O2、ブロツクH4に物体光
O2,O4が記録された。次に、これらを再生する
ときは第10,11図に示すように、このホログ
ラムHに参照ビームR1,R3,R4を包含するよう
な参照光Rをあてると、ホログラムHの作製され
ている部分から物体光O2,O4が再生される。こ
の場合参照ビームR4の光路のみにはプリズム1
0を挿入する。このときひとつの物体光は二つの
参照ビームによつてホログラムに記録されている
ので二つの平行に進むビームとして再生される。
従つて二つづつ平行な2組の平行に進むビームが
再生されることになる。
この後方にレンズ17をおくことにより、一組
の平行なビームは焦点上で1点に重なり干渉縞を
形成する。ビームは2組あるので2点に干渉縞が
形成される。
なおホログラムにレンズ17の作用を同時に記
録させて、レンズ17を省略することも可能であ
る。この場合のホログラムHの作製は、ホログラ
ムHの記録を第10図のレンズ17の後方で行
い、かつ、こうして作製したホログラムH′をホ
ログラムHに代替する。また、ホログラムHから
の再生光をレンズ17を通してホログラムH′に
他の参照光Rを用いて記録し、こうして作製され
たホログラムH′をホログラムHに代替して使用
する。
次ぎに、これらを再生するときは、第12図及
び第13図に示すように、ホログラムHに参照ビ
ームR1,R3,R4を包含するような参照光Rをあ
てると、ホログラムH′の作成されている部分か
ら物体光O2,O4が再生して使用される。
第14図及び第15図には、第3図に示す測定
操作によつてそれぞれ被測定面のY=0μm、Y
=300μmの位置をX方向にスキヤンして測定し
た結果のグラフであるが、それぞれX方向の距離
とドツプラ信号周波数fとが比例し、f=0とな
る点、すなわち回転中心位置が良好に検出される
ことを確認することが出来る。
以上の説明から明らかな通り、この発明によれ
ば高精度に、かつ簡単に回転面の回転中心を検出
することが出来、特に被測定面の回転速度が低い
場合にもペデスタル成分と信号成分との弁別が容
易に出来る回転中心位置検出方法を得ることが出
来る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に関わる回転中心
位置検出方法において使用する回転中心位置検出
装置を示す構成説明図、第2図は干渉縞形成部位
への光束の入射角を示す説明図、第3図は被測定
面上の測定部位を示す説明図、第4図は信号成分
とペデスタル成分を示すグフフ、第5図はプリズ
ムを示す説明図、第6図は干渉縞を示す説明図、
第7図はこの発明の他の実施例に係わる回転中心
位置検出装置を示す構成説明図、第8図は多重露
光ホログラムの作製過程を示す説明図、第9図は
多重露光ホログラムの他の作製過程を示す説明
図、第10図は多重露光ホログラムの再生操作を
示す斜視説明図、第11図は多重露光ホログラム
の再生操作を示す側面説明図、第12図はレンズ
効果を記録したホログラムの再生操作を示す斜視
説明図、第13図はレンズ効果を記録したホログ
ラムの再生操作を示す側面説明図、第14図は測
定結果を示すグラフ、及び第15図は測定結果を
示すグラフである。 1……回転中心位置検出装置、2……干渉縞発
生装置、3……顕微鏡、4……干渉縞測定装置、
5……レーザ発生装置、6……ミラー、7……ビ
ームスプリツタ、8a,8b……ポラライザー、
9……他のポラライザ、10……プリズム、11
……レンズ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 光電検出器と周波数解析器を有する干渉縞測
    定装置と、二光束法レーザドツプラ用干渉縞発生
    装置と、及び顕微鏡、とを使用し、前記レーザド
    ツプラ用干渉縞発生装置によつて発生したレーザ
    ドツプラ用干渉縞を前記顕微鏡によつて被測定物
    の表面で散乱させ、前記被測定物の表面からの散
    乱光を前記干渉縞測定装置の前記光電検出器によ
    つて光電変換して前記周波数解析器によつて前記
    被測定物の表面上の前記レーザドツプラ用干渉縞
    のドツプラ信号周波数を測定し、そのような測定
    を前記被測定物の表面上の複数箇所で行つて前記
    ドツプラ信号周波数が0になる前記表面上の位置
    を検出し、その位置をもつて前記表面の回転中心
    とする回転物体の回転中心位置検出方法であつ
    て、二光束法における二光束のうち一方の光束の
    光束路中に楔状のプリズムを前記光束路における
    前記プリズムの厚さが変化する方向に前記プリズ
    ムが移動し得るよう位置させ、前記プリズムによ
    つて前記一方の光束の周波数を変調することを特
    徴とする回転物体の回転中心位置検出方法。
JP5158182A 1981-12-17 1982-03-30 回転物体の回転中心位置検出方法 Granted JPS58167907A (ja)

Priority Applications (2)

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JP5158182A JPS58167907A (ja) 1982-03-30 1982-03-30 回転物体の回転中心位置検出方法
US06/424,629 US4529310A (en) 1981-12-17 1982-09-27 Device for detection of center of rotation of rotating object

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JP5158182A JPS58167907A (ja) 1982-03-30 1982-03-30 回転物体の回転中心位置検出方法

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JPS58167907A JPS58167907A (ja) 1983-10-04
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6449534A (en) * 1987-08-20 1989-02-27 Topcon Corp Air-flow blow device for non-contact type tonometer

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0616244B2 (ja) * 1984-04-13 1994-03-02 三菱電機株式会社 レ−ザビ−ムの位置決め装置
JPS61159104A (ja) * 1984-12-29 1986-07-18 Omron Tateisi Electronics Co 回転中心検出装置

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JPS58167907A (ja) 1983-10-04

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