JPS60104206A - 光学測定装置 - Google Patents

光学測定装置

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JPS60104206A
JPS60104206A JP21275683A JP21275683A JPS60104206A JP S60104206 A JPS60104206 A JP S60104206A JP 21275683 A JP21275683 A JP 21275683A JP 21275683 A JP21275683 A JP 21275683A JP S60104206 A JPS60104206 A JP S60104206A
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JP
Japan
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light
measured
optical
objective lens
measurement
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JP21275683A
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JPH0211084B2 (ja
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Keiichi Yoshizumi
恵一 吉住
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/2416Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures of gears

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、はぼ回転対称な形状を持つ自由曲面、又は非
球面のレンズやミラーの表面形状を、高精度に、光学的
に非接触で測定する3次元測定器に関するもので、特に
レーザ光を対物レンズで、被測定物体面上に集光し、そ
の反射光の周波数の被測定物体面の移動によって生ずる
ドプラーシフトを検出して、面形状を測定する光学測定
装置に関するものである。
従来(+qの構成とその問題点 光ヘテロダイン法を利用したレーザ測長器としては、ヒ
ユーレットバラカード社の製品がある(例えば、HP5
526A)。これは、現在、簡便かつ、最も精度の高い
測長器として知られている。また、これを3次元移動台
に取付けて、3次元測定器や、精密旋盤として使用でき
ることが知られている。
ところで、従来装置では、移動台にコーナーキー−ブや
ミラーを取付け、移動台の動きのみをレーザ測長器で測
定したに溜まり、3次元測定器の場合は、何らかの測定
プローグによって被測定物の面形状に沿って、移動台を
移動させる。ところが、測定プローグは接触型と非接触
型があるが、いずれも測定精度が、レーザ測長器の精度
に比べ一桁程度落ちる。
〒方、上記の欠点を解消する為、被測定物体面の形状を
、レーザ測長法で直接測定することを可能とした装置と
して、特願昭57−189761号や、特願昭58−6
2444号に記載の装置がある。しかしこれらの装置で
は、最大、300程度の傾きを持つ面までしか測定でき
ない。
又、非球面レンズ面のような回転対称な面を、従来法に
よって、x−y−z座標を測定した場合、測定データを
円筒座標系に変換する必要がある。
発明の目的 本発明は、上記の従来法の欠点を解消するもので、被測
定物体面の形状を、レーザ測長法で直接測定することに
よって高精度測定を可能とすると共に、非球面レンズ面
等の、はぼ回転対称な被測定物を、傾いた軸を中心に回
転させることにより、従来法の2倍、即ち、最大±60
0の傾きを持つ面の測定まで可能とし、さらに、直接円
筒座標系による測定データを出すことができる光学測定
装置を得ることを目的とする。
発明の構成 上記目的を達する為、本発明の光学測定装置は、測定光
(周波数f1)と、参照光(周波数f2)の2つの周波
数が安定化された放射光を発生ずる放射光源と、この放
射光源からの放射光を一定のスポ、ソトサイズと広がり
角を持つ放射光に変換する光学系と、この放射光を測定
光f1と参照90゜に光路を分離する光分離手段と、測
定光を被測定物体面上に集光する対物レンズと、測定光
の光軸方向をZ軸方向とし、Z軸からの距離をRとした
円筒座標系R−θ−Zにおいて、被測定物をR方向(半
径方向)の移動と、θ方向(回転角)の回転を可能とし
た移動手段と、被測定物体面からの反射光の一部を受光
して、焦点が被測定物体面からずれた場合の焦点誤差信
号を検出する第二の光検出器群、及び、焦点誤差信号を
発生する」−うに、反射光の光路内に設置された光学系
と、この焦点誤差信号に応じて対物レンズと被測定物体
面との距離が一定となるよう対物レンズを移動さぜる移
動台を有し、被測定物体面から反射した測定光と、参照
光とを干渉させ、これらのビート周波数の変動から被測
定物体面の形状を高精度に測定できる構成としたもので
ある。
実施例の説明 以下、本発明の実施例について、図面に基づいて説明す
る。発振周波数f1.f2のゼーマンレーザ1から出た
光は、λ/4板2で、2つの偏光方向、つ寸り、電場が
紙面に垂直な方向に偏波したf2の光と、紙面に平行な
方向に偏波したflの光に分けられる。そして、ビーム
スプリッタ3で一部の光が分離され、ビート周波数(f
l−f2)が光検出器4により検出される。ビームスプ
リッタ3を通過した光のうちf2の光は偏光プリズム5
によって上方に反射し、固定ミラー7で反射して光検出
器8上に達する。一方、flの光は被測定物9の表面で
反射するが、被測定物9が移動すると、る。反射光は一
部が偏光プリズム10によって分けられ、位置サーボと
フォーカスサーボの誤差信号を発生させる為、光検出器
11.12に達する。
前記偏光プリズム10はP偏波が全透過し、S偏波が−
1部反射し、残シが透過する性質を持つ。偏光プリズム
10を透過した反射光は、偏光プリズム5で全反射し、
光検出器8上に達する。光検出器8上でF2とf1+Δ
fとのビート周波数f1−1−Δf−f2が得られ、光
検出器4上で得られたビート周波数f1−12との差か
らΔfが寸り、こノ1゜を積分して変位2がまる。こう
してめた2の測定精度は、0.1〜0.o1μm程度で
ある。位置サーボ及びフォーカスサーボについては、特
願昭57−189761号に記載されているが、阿掲す
ると以下のとおりとなる。位置サーボについては、第二
図において、被照射面9がσ傾くと、反射光は2σ傾き
、対物レンズ13透過後の反射光の中心位置はF25i
n 2aだけ変化する。なおF2は対物レンズ13の焦
点距離である。ところが、対物レンズ13か、あるいは
入射光の中心をF25inσだけ平行移動させれば、反
射光は入射光と同一の光路を戻る。すなわち第2図のよ
うに、反射光の位置ずれがあれば、例えば反射光の一部
を、二分割されている光検出器11で受け、位置ずれに
応じて発生する誤差信号によって、対物レンズ13を光
軸に対して垂直な方向に動かし、第3図のように、反射
光位置が一定になるようサーボをかける。
被照射面9が焦点位置からずれだ場合、反射光の光路は
一定でなくなるので良くない。そとで例えば、反射光を
レンズ16と円柱レンズ17とで絞り込み、生じた非点
収差から誤差信号を取り出し、対物レンズ13、或いは
、被測定物体を光軸方向に動かし、フォーカスサーボを
かける。
本発明における光学測定装置は、回転対称な、非球面レ
ンズ面の測定等に好適なもので、回転対称な被測定物9
は、回転方向(θ)とX方向(r)の二方向に動かされ
、Z方向の厚さ変化が、測定される。
前述のように、被測定面9の傾きに応じて、対物レンズ
13をX方向に移動させた時、集光点の位置は、対物レ
ンズの移動量(xl)だけ移動する。
これは、入射光が平行光であれば厳密に成り立つ。
従って、測定点の位置は、被測定物の移動量x1から、
対物レンズの移動量x2を引いた、xl−x2となる。
回転対称な被測定面9の中心をゼl′J占おくと、xl
−x2は、円筒座標系での半径rとなる1゜xl−x2
は、対物レンズ及び被測定物の取利は部に取り付けられ
たミラーを利用して、Z方向と同様、レーザ測長法で高
精度で測定できる。回転角度θについては、回転部23
に取り(=Jけられたロータリーエンコーダによって測
定できる。
&お、15uビームスプリツタ、14,18はλ/4板
、17は円柱レンズ、21は測定値表示部、20は被測
定物測定位置表示部、22 i+:J: ’;rJ物レ
ンズ駆動装置、19は被測定物駆動装置である。
対物レンズ13の開口角より、被測定面の傾き角σが大
きい場合は、原理的に測定できない。作動距離との関係
で、対物レンズのNA(開1」数)を0.6より大きく
するのはむずかしいので、Iji4 I−1角は、36
°より大きくとりにくい。(開口角は、5in−1NA
で表わされるが、N A = 0.6の時、360とな
る。)従って、上述の方法でも、被測定面の傾きが、3
0°より大の時、測定ができなくなる。
そこで、本発明の第二実施例においては、第4図のよう
に、被測定物の回転方向への駆動部の回転軸を、角度β
だけ傾ける。その後、X方向とθ方向に被測定物を移動
させ測定する。はぼ回転対称な面であれば、面の中心か
ら周辺までXを変化させ、θ方向に回転させれば、全面
の測定ができる。
面の傾きが最大σ1まで測定できるとし、回転軸をβ(
β≦01)傾けると、回転中心に対し、最大σ1+βの
傾きを持った被測定物まで測定可能で、最大では、σ1
−β=300.の時、6CPの傾きを持つ被測定物まで
測定可能となる。
発明の効果 非球面レンズの場合、大きな傾き面を持った形状が必要
な場合も多いが、本発明によればほとんどの非球面レン
ズの形状を、非接触で、きわめて高精度の測定が可能と
なる。又、上述のr、θ移動台は、このまま、超精密旋
盤や、研磨機に取りつけることができ、中心出し等の手
間を省くことができる等の点で、この工業的利用価値は
極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光学測定装置の第1実施例の構成図、
第2図及び第3図は本発明の実施例の原理説明図、第4
図は本発明の第2の実施例における部分的な構成図であ
る。 4.8,11.12・・・・・・光検出器、1・・・・
・・ゼーマンレーサ、14 、18・・・・λ/4M、
3.15・・・・・ビームスプリッタ、5.10・・・
・・・偏光プリズム、7・・・・・・ミラー、9・・・
・・・被測定物、13・・・対物レンズ、6.16・・
・・・・レンズ、17・・・・・・円柱レンズ、21・
・・・・測定値表示部、20・・・・被測定物位置表示
部、22・・・・・対物レンズ駆動装置、19・・・・
−・被測定物駆動装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)周波数f1の測定光と周波数f2の参照光を発生
    する光放射手段と、これらの光を別の光路に分離する第
    1の光分離手段と、前記測定光を被測定物体面上に集光
    させる為の対物レンズと、被測定物体面から反射して、
    再び前記対物レンズを通過した測定光と、前記参照光を
    第1の光検出器上で干渉させる光学系と、光検出器上で
    発生したビート周波数の変動を検出し、前記被測定物体
    面の変位を測定可能とする為の信号処理手段と、前記測
    定光の光軸方向をZ軸とし、Z 1lljからの距離を
    Rとした円筒座標系R−θ−Zにおいて、被測定物をR
    (半径)方向の移動と、θ(角度)方向への回転を可能
    とした移゛動手段と、前記被測定物体面から反射した測
    定光を一部第2の光分離手段によって分離した光、又は
    別の第2の光源からの光を前記対物レンズを通して前記
    被側定物体面」二に照射させ、反射した光を、測定光の
    反射光から分離する第3の光分離手段によって分離され
    た光を受光するフォーカス誤差信号検出用の第2の光検
    出器群と、前記第2、又は第3の光分離手段と前記第2
    の光検出器群の間に位置し、前記反射光の光路を、前記
    第2の光検出器群上で好適な焦点誤差信号を得ることが
    できる形に変換する為の光学手段を備え、前記光検出器
    群から得られた焦点誤差信号によって、前記対物レンズ
    と前記被測定物体面との距離を一定に保つよう、前記対
    物レンズ、又は、前記被測定物体をZ軸方向に移動させ
    る手段を備えた光学測定装置。
  2. (2)被測定物を、R及びθ方向に移動させる移動手段
    のθ方向の回転の中心軸を、測定光の光軸に対して傾斜
    させる手段を備えた特許請求の範囲第1項記載の光学測
    定装置。
JP21275683A 1983-11-11 1983-11-11 光学測定装置 Granted JPS60104206A (ja)

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JPS63252207A (ja) * 1987-04-08 1988-10-19 Olympus Optical Co Ltd ステ−ジ
JP2016080390A (ja) * 2014-10-10 2016-05-16 横河電機株式会社 共振周波数測定システム、共振周波数測定方法
JP2019155254A (ja) * 2018-03-12 2019-09-19 日本植生株式会社 ろ過方法及び該ろ過方法に用いるろ過布

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0669190U (ja) * 1993-03-08 1994-09-27 益弘 光山 展示具
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