JPH02259512A - 一体型干渉測定装置 - Google Patents

一体型干渉測定装置

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JPH02259512A
JPH02259512A JP1082348A JP8234889A JPH02259512A JP H02259512 A JPH02259512 A JP H02259512A JP 1082348 A JP1082348 A JP 1082348A JP 8234889 A JP8234889 A JP 8234889A JP H02259512 A JPH02259512 A JP H02259512A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
measured
wavefront
interference
Prior art date
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Pending
Application number
JP1082348A
Other languages
English (en)
Inventor
Minokichi Ban
箕吉 伴
Yoshibumi Nishimoto
義文 西本
Masaru Otsuka
勝 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、平面、球面等の面を持つ被測定物の面精度等
を測定する干渉測定装置であって、熱源である光源等を
分離しシアリング干渉光学系等の主要部分を一体化した
干渉測定装置に関する。
[従来の技術] 従来、例えばシアリング干渉計では、光源からの光束で
被測定物を照射し、被測定物からの被検波面を平行平面
板などで分割し干渉させている。従って、平行平面板等
の被検波面を分割、干渉させる光学系が安定であれば干
渉縞も安定的に精度が良くなり、通常良く使われる参照
面からの参照光と被測定物からの光との干渉作用で測定
を行なうトワイマン−グリーン干渉計やフィゾー干渉計
等に比べて精度が安定的と言いつる。
[発明が解決しようとする課題] しかし乍ら、上記従来例では、光源が熱源として平行平
面板等を性能的に不安定にすると共に、振動や熱変形に
起因して光源と被測定物とその間の光学系との相対的な
位置変化が起こりそれにより被検波面が変化し不安定と
なる欠点がある。
こうしたことは、光源と主要な光学エレメントを分離し
て配設していないトワイマン−グリーン干渉計などでも
多少の差はあれ問題となる。
従って、本発明の目的は、上記問題点に鑑み、熱源であ
る光源を切り離し、光源からの光を測定波面として導く
光学手段などから分離して配置したシアリング干渉計な
どの干渉測定装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成する本発明においては、レーザなどの光
源からの光束を測定波面として平面、球面、非球面等の
形状を有する被測定物に照射する光学手段を、光源から
分離して、配設している。
光源からの光から2次点光源を作る為の集光レンズやピ
ンホール板などの手段とこの手段からの光を平行光束と
するコリメータレンズなども一体化して、光源から分離
されて、配設されても良い。
熱源となる干渉縞検出用光検出器も、光源と共に、分離
して配置されてもよい。
また、被測定物からの被検波面を分割して重ね合わせる
シアリング干渉計の場合、被検波面をシアリングする光
学系も一体化して配置されてもよ(、この場合、上記光
学手段は被測定物にほぼ垂直に入射する測定波面を形成
する集光レンズや、光源と集光レンズの間の光路中に置
かれた偏光ビームスプリッタ−などの光束分割手段など
である。
[作用] 本発明の構成においては、熱源となる光源などが、測定
波面を形成する為の集光レンズや光束分割手段などの光
学手段等から分離され、また干渉光学系内に安定な2次
点光源を作る手段を設けることもできるので、振動、熱
変形等による精度の不安定さが除去されている。
[実施例1 第1図は本発明の第1実施例を示し、この例は本発明を
シアリング干渉計に適用したものである。
同図において、1は光源であるレーザ、2は集光レンズ
、3はピンホール板、4はコリメータレンズ、5は偏光
ビームスプリッタ−16は図波長板、7は被測定物8の
被検面にほぼ垂直に測定波面を入射させる為の集光レン
ズ、9は被測定物8からの被検波面を横方向にシアリン
グする平行な透明平板、10は干渉縞を読み取る為の光
検出器である搬像素子、11は他の光学エレメント5.
6.7.9と共に被測定物8の被検面を層像素子IO上
に結像させる為の結像レンズである。
以上の構成において、レーザ1から出る平行光束は集光
レンズ2により略スポットとされ、このスポットの近辺
に設けられたピンホール板3により光束の状態が整えら
れて2次点光源を作る。このピンホール板3の位置を焦
点位置とするコリメータレンズ4は平行光束を作り、こ
の平行光束を偏光ビームスプリッタ−5に入射させる。
ここにおいて、レーザ1からの光の偏光方向は第1図の
紙面に平行となるように予め設定されているので、コリ
メータレンズ4からの平行光束は偏光ビームスプリッタ
−5を透過し、図波長板6に入射する。そして位相の進
み軸又は遅れ軸をレーザ光の偏光方向に対して45度に
設けた残液長板6を透過することで光束は円偏光となっ
て集光レンズ7に入射し、測定波面として被測定物8の
被検面に略垂直に入射させられる。集光レンズ7の焦点
位置と上記被検面の曲率中心は略一致させられているの
で、被検面からの反射光はそのまま逆行し、集光レンズ
7及び残液長板6に入る。そしてこの4波長板6を透過
することで被検波面の円偏光は、偏光方向が最初と比べ
て90度回転した第1図紙面に垂直となり、偏光ビーム
スプリッタ−5により下方に反射される。
この反射光は平行平面@9に入射させられ、この平板9
の表面での反射光Aと、表面を透過し裏面で反射され更
に表面を透過した反射光Bとに分けられ、これらの反射
光A、 Bが重なり合って干渉縞が形成される。反射光
A、Bが相対的に横ずれして重なり合うときの横ずれ凰
は平行平面板9の厚み、これへの入射角、これの屈折率
等で決まる(このことから第1実施例のタイプをラテラ
ルシアリング型と称する)。
この干渉光束は結像レンズ11を介して撮像素子10に
導かれ、撮像素子10により干渉縞がブラウン管等に表
示される。撮像素子10の出力をA/Dコンバータを介
してコンピュータに入力し、コンビエータにより干渉縞
を解析して被検面の面精度として出力させてもよい。
上記構成において、熱源となるレーザ1と撮像素子10
は物理的に切り離されて、集光レンズ2、ピンホール板
3、コリメータレンズ4、偏光ビームスプリッタ−5、
残液長板6、集光レンズ7、平行平面板9が互いに固定
ないし可動設置された1つの装置として一体化されて配
設されているので、レーザ1や撮像素子IOの振動や熱
が上記干渉光学系に伝わらない様になっている。これと
共に、体止された光学系を、熱膨張係数の少ないインバ
ー、石英ガラス等で固定させれば、外部の環境変化に対
しても安定な系となる。
また、レーザ1が振動によりその出射光束を傾けても、
ピンホール板3とコリメータレンズ4が一定であれば、
ピンホール板3で多少光束のケラレが生じてもコリメー
タレンズ4からの出射光は常に一定している。
第2図は第2実施例を示す、第2実施例はラジアルシア
リング型と呼ばれるシアリング干渉計であり、同図にお
いて、偏光ビームスプリッタ−5から出た光束はハーフ
ミラ−12により2つの光束に分割され、そのうち。
反射された第1の光束は第1のコーナーキ工−ブ13に
より再びハーフミラ−12に戻される。ハーフミラ−1
2を透過した第2の光束は凹レンズ14と凸レンズ15
より成るビームエキスパンダによりこの光束の一部が拡
大され、他は遮光板16で遮られる。
この拡大された光束は、第2のコーナーキエーブ17に
より再びハーフミラ−12に戻される。こうして、ハー
フミラ−12で、再び、第1及び第2の光束は重ね合わ
され、ここに干渉縞が形成される。
他の点は第1実施例と同様である。第2実施例において
、第1のコーナーキエー113を光軸方向にピエゾ素子
等で振動させれば、縞走査法により干渉縞が光電的に高
感度でlII++定される。
[発明の効果] 4゜ 以上説明した様に、本発明によれば、光源や撮像素子の
振動、熱変形等の影響を受けに(い安定した高精度のシ
アリング干渉計等の干渉測定装置が実現される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例の構成図、第2図は第2実
施例の一部の構成図である。 1・・・・・レーザ、2・・・・・集光レンズ、3・・
・・・ピンホール板、4・・・・・コリメータレンズ、
7・・・・・集光レンズ、8・・・・・被測定物、9・
・・・・平行平面板、10・・・・・撮像素子、11・
・・・・結像レンズ、12・・・・・ハーフミラ−13
,17・・・・・コーナーキューブ、14・・・・・凹
レンズ、15・・・・・凸レンズ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、平面、球面、非球面等の形状を有する被測定物の面
    精度等を、被測定物からの光を用いた干渉作用を利用し
    て測定する干渉測定装置において、 光源からの光束を測定波面として被測定物 に照射する光学手段を、前記光源から分離して、配設し
    ていることを特徴とする一体型干渉測定装置。 2、前記一体型干渉測定装置が被測定物からの被検波面
    を分割して重ね合わせるシアリング干渉計であり、前記
    光学手段が、前記光源からの光束から2次点光源を作る
    手段と該2次点光源を平行光束にするコリメータレンズ
    と被検波面をシアリングする光学系と一体化して配設さ
    れている請求項1記載の干渉測定装置。 3、前記光学手段が被測定物にほぼ垂直に入射する測定
    波面を形成する集光レンズ及び、前記光源と該集光レン
    ズの間の光路中に挿入された光束分割手段を有し、前記
    シアリング光学系への被検波面は該光束分割手段から取
    り出される請求項2記載の干渉測定装置。 4、前記シアリング光学系はほぼ平行な透明板を有し、
    該平行透明板からの干渉する2光波が結像レンズを介し
    て光検出器に導かれる請求項2記載の干渉測定装置。 5、前記シアリング光学系は、被検波面が入射するハー
    フミラーと、該ハーフミラーで分割された第1の光束を
    再びハーフミラーに戻す第1のコーナーキューブと、該
    ハーフミラーで分割された第2の光束を拡大する光学系
    と、この第2の光束を再びハーフミラーに戻す第2のコ
    ーナーキューブとを有し、該ハーフミラーからの干渉す
    る第1及び第2の光束が結像レンズを介して光検出器に
    導かれる請求項2記載の干渉測定装置。
JP1082348A 1989-03-31 1989-03-31 一体型干渉測定装置 Pending JPH02259512A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003028608A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Advantest Corp 干渉計
JP2008096277A (ja) * 2006-10-12 2008-04-24 Ono Sokki Co Ltd レーザ測定装置
JP2008177561A (ja) * 2003-10-09 2008-07-31 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003028608A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Advantest Corp 干渉計
JP2008177561A (ja) * 2003-10-09 2008-07-31 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
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