JPS63252207A - ステ−ジ - Google Patents

ステ−ジ

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Publication number
JPS63252207A
JPS63252207A JP8660987A JP8660987A JPS63252207A JP S63252207 A JPS63252207 A JP S63252207A JP 8660987 A JP8660987 A JP 8660987A JP 8660987 A JP8660987 A JP 8660987A JP S63252207 A JPS63252207 A JP S63252207A
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JP
Japan
Prior art keywords
optical
optical axis
optical element
stage
optical system
Prior art date
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Pending
Application number
JP8660987A
Other languages
English (en)
Inventor
Keisuke Saito
圭介 斎藤
Kazuo Kawakami
川上 一雄
Takashi Kawashima
隆 川島
Masahiko Kato
正彦 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP8660987A priority Critical patent/JPS63252207A/ja
Publication of JPS63252207A publication Critical patent/JPS63252207A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】 本発明は、被検光学素子特に非球面光学素子の面形状を
測定する際に用いて便なるステージに関する。 [従来の技術] ト記この種のステージは、一般的に第6図にて示すごと
く構JJi’Sれており、かかるステージlは、第7図
にて示すごと〈]−渉先光学系の測定光学系2に用いら
れて被検光学素子3(第8図参照)の面形状を測定する
ものである。 ステージlは、被検光学素子3を保持するための3つ爪
チャック4を有するクランプ部5と。 3つ爪チャック4に保持された被検光字素7−3をX力
向(第6図において紙筒に垂直な方向)。 Y方向(第6図において−1:下刃向)に可動調節させ
るべくX方向、Y方向にそれぞれ移動自在に構成された
一軸スライダ6.7と、支持具8.支持ベース(台)9
とより構成されている。10で示すのは、−軸スライダ
6をX方向に移動調節するための調節ねじ、11で示す
のは、−輌スライダ7をY方向に移動調節するための調
節ねじである。 ステージlと協働して被検光学素子3の面形状を測定す
るための1;先光学系2は、第7図にて示すごと〈、対
物レンズ12を具備した干渉光学系本体13.定盤14
とより構成してあり、ステージlは、図示を省略してい
る粗微動駆動機構を介して光軸15方向に+4(動自在
の構成となっている。 10渉光学系2から放射された光束16は、第8図にて
示すごとく一度点Fに収束された後に発散し、被検光学
素子3を照射するように設定しである。又、被検光学素
子3にて反射された照明光束は、1ユ渉光学系2により
、例えばシアリング1′−渉が行なわれて撮a′素子1
71.に−「渉縞が形成されるように設定してあり、[
浮編解析装置18により被検光字素f3の面形状につい
ての情報が得られるようになっている。干渉光学系2の
光軸15とステージlに保持されている被検光学素子3
の光軸とは、!Lいに直交するX、Y方向に1■■動自
在の一軸スライダ6.7を介して光軸合せかIIr濠と
なっている・ [発明が解決しようとする問題点1 に記構成よりなるステージlによれば、干渉光学系2の
照明系に対する被検光学素子3の7ライメントを、−輌
スライダ6.7及び粗微動駆gja構を介して行なうこ
とができるものであるが、上記従来の技術においては次
のような問題点があった。 即ち、従来のステージlは、フィゾーあるいは、トワイ
マン−グリーン型のに渉計に適したものであり、被検光
学素子3として球面のものを対象としている0球面の被
検光字素J’−3の場合には、球の中心を光軸1−に合
せるようにx、Y方向にシフトさせれば、アライメント
はデフォーカスを除き完了する0次に、光軸方向にf行
移動させればデフォーカスを補正すことがで、これによ
りアライメントが完rする。従って、上記従来技術の構
成によれば、球面の被検光学友−f−3の面形状を11
′、確に測定することができるものである。 しかしながら、非球面の被検光字素r−の面形状を測定
する場合には、非球面が一般に頂点、対称軸を有するこ
とから、さらにティルト(#Iき)を補+lEする補正
機構が必要となる。即ち、第9図すはアライメントを行
なう前の状態を示すものであるが、非球面の場合には図
に示すように非球面対称軸19と1−先光学系2の光軸
15とが傾き角αの傾きを生じている。0で示すのは、
照明光束が形成する半径R(第9図す参照)の参照球面
20と光軸15との交点、O′で示すのは、非球面21
の頂点である。第9図すは7ライメントが完rした状態
を示すものであるが、第9図aの状態から第9図すの状
態にアライメントするには単なるモ行移動だけでは行な
えず、非球面対称軸19と光軸15とのなす角α、換言
するとティルトを補正しなければならない、このティル
トが残っていると、被検光字素f3にて反射された波面
は自由空間を伝播する場合と異なり、干渉光学系2を通
過する際に非対称な収差を受け、重なる座Py!変換で
は除土しえない測定誤差を発生する。 これは、光線が一■0先光学系2を通過する際、七′の
瞳への入射高に応じて3次あるいは5次の多項式で近似
される非線型の横収差を受けるためで。 従ってできるだけ光軸15に対称な形で被検面からの反
射波面が干渉光学素子2に入るように調節する必要があ
ることが理解できる。 1−記従来技術は、前記のごとくティルトの補+Fa構
を全く有していないので、非球面光学書f−の面形状を
高精度に測定できなかった。 又、被検光学素子3の而形状を高精度に測定する場合、
−1ユ渉光学系2.の収差が聞届となるが、この収差の
うち回転非対称な成分についての情報をうるためには、
被検光学素子3に光軸回りの回転をjpえる機構を具備
することが望ましい、特に、非球面光学素子を測定する
場合には、第1θ図にて示すごとく反射光束25は入射
光束26と異なる光路をとることから、球面測定の場合
に比して[先光学系2の収差は増大し、この影響を軽減
するためにも回転機構を具備することが望ましい。 又、シアリング1ゝ渉計の場合には、被検光字素f−3
の而形状の2次元的情報をうるためには、直交する2方
向のシアを行なうかあるいはシアを一方向とし、被検物
3を90’回転させる必要がある。この場合、90’回
転させる際には、ステージlに回転機構が必要となる。 従来技術は、かかる回転機構がないので、極めて不満足
な構成であった。 本発明は、1:記従来技術のIF、1題点に鑑みなされ
たものであって、非球面の光学素子を測定する場合にも
高精度に測定しうるようにしたステージを提供すること
をIi的とする。 [問題点を解決するための手段及び作用]本発明は、被
検光学素子を保持するためのクランプ部と、直交する2
方向のティルトを調整するための傾き角調整部と、直交
する2方向のシフトを調整するためのスライダ部と、被
検光学素子を光輌回りに回転するための回転部と、前記
各構成部を光軸方向に移動可11に保持するための支持
部とより構成し、シフト、デフォーカス及びティルトの
補正を可能にするとともに、非球面光学素子に対して測
定光学系である干渉光学系固有の収差の影響を軽減し、
より高精度の測定を可能にするものである。 [実施例1 以下、図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明
する。 (第1実施例) 第1図は、本発明に係るステージ30L75第1実施例
を装備した縦型の1渉光学系31の側面図を示すもので
ある。 [先光学系31は、゛「先光学系本体32と干渉光学系
本体32に装備された対物レンズ33等より構成しであ
る。 ステージ30は、被検光学素子−34を保持するための
クランプ部35、アライメント機構部36、及び回転部
37とより構成しである。ステージ30は、支持板38
にて支持されており、支持板38は、レール39に七ド
方向、即ち光軸40方向に摺動[1在に保持されている
。 対物レンズ33を装備したに先光学系本体32と、ステ
ージ30.支持板38を保持するレール39とは、それ
ぞれ別々に第41に取り付けられるようになっている。 42で示すのは台41の足である。 回転部37と支持板38の詳細構成を第2図に示す0回
転部37は、可動部と固定部とより構成してあり、回転
摺動部にはベアリング(図示省略)が配備しである。可
動部には、アライメントalJli部36が固定してあ
り、固定部はたがいに対向配置された調整具42.43
を介して支持板38に固定されている。この固定時には
1回転部37の下面と支持板38との間に隙間44が形
成されるように固定する。調整具42は、スリ割り45
を有する調整部材46と、調整部材46に水乎に貫通し
て螺着された調整ねじ47と、スリ割り45を利用して
調整部材46における回転部37取付而の傾きを調整す
るための押しねじ48等より構成しである。調整ねじ4
7は、対向配置された調整具43側の筒体49と対をな
しており、筒体49はその内部にばね(図示省略)を内
装して水平方向に可動自在に付勢されている。 即ち、調整ねじ47と筒体49との協働作用により、光
軸40と回転部37の回転軸との横ずれを補正しうるよ
うになっている。調整具43のその外の構成は調整具4
2と同様であるので、同一部材には同一符合を付してそ
の説明表省略する。 50で示すのは1回転部37を各調整部材46に固定す
るためのねじ、51で示すのは、各調整具42.43を
支持板38に固定するためのねじである。 !Eに対向
配置された調整具42.43と同様の調整具が紙面と直
交する方向にも配設してあり、従って、回転部37は合
計4個の調整具を介して支持板38に固定される構成と
なっている。 アライメント機構部36は、第3図にて示すごとく、直
交する2方向の傾き角を調整する傾き角調整部60と、
互に直交する2方向(X、Y方向)に摺動「1在に構成
された一軸スライダ61゜62とより構成しである。ア
ライメントa構部36の各構成部60,61.62は、
それぞれi+)動部と固定部から構成してあり、クラン
プ部35はす1き角調整?B60の+i(動部に固定し
である。又、傾き角調整部60の固定部は、−軸スライ
ダ61のnl動部に固定してあり、 −軸スライダ61
の固定部は一軸スライダ62の可+h部に固定しである
。又、−・軸スライダ62の固定部は、回転部37のI
I丁動部に固定しである。なお、Iiいに直交する2つ
の一軸スライダ61.62の代りに、2つの二軸のスラ
イダを適用しうるのは勿論であり、又、回転部37とし
てベアリングによる機構の代りにエアーベアリングを用
いてもよい。 又、調整具42.43を回転部37の外部に配設したが
、回転部37内に内蔵させる構成であってもよい。 次に、l−記構成に基づく作用について説明する。 f先光学系31とステージ30.支持板38を具備した
レール39とは、別々に台41に取付けられる。このた
め、光軸40とレール39の摺動方向1回転部37の回
転軸との間の整合が必要となる0通常は、レール39の
摺動方向に平行となるように光軸40を調整し、次に、
回転部37の回転軸を光軸40に合せる。このときには
調整具42.43にて調整する0以上にて測定系の輌合
せが完Yする。 測定時には、被検光学素子3をクランプ部35に取付け
、アライメント機構部36を介して光軸40に対するテ
ィルト、シフトの調整を行なう。又1回転部37により
光軸40回りの回転がII)能となっている。 特に、本実施例においては、傾き角の調整と横ずれの調
整とが独立しており、さらに、直交する2方向に分れて
調整しうるので、調整に安する時間の大幅な短縮が11
f能になるとともに、残存する光軸40と回転軸間のず
れ、光軸40と非球面の被検光学素子3の対称軸間のず
れを小さくし、測定に伴ういわゆる系統誤差を軽減し、
高精度の面形状の測定がu[flとなる。又、1′−先
光学系31にて発生する収差のうち、回転非対称な成分
についての情報が得易くなる利点がある。 (第2実施例) 第4図に、本発明に係るステージ30の第2実施例を示
す0図は、IR直型のステージ30を例示している。な
お、以−ドの説IJIにおいて、第1図〜第3図にて示
した構成部と同様の構J&部には同一符合を付して説明
する。 図に示すように、ステージ30は、3つ爪チャック70
を備えたクランプFiII35.傾き角調整部60,2
つの直交する一軸スライダ61゜62、回転部37.支
持板38.Z軸スライド71、レール72.スペーサ7
32台74から構成されており、クランプ部35から回
転部37に至る各部の中心部には孔75がそれぞれrr
通して設けられ、支持板38には鏡76を備えた支持枠
77、ポール78.調節ネジ79及び図示を省略いてい
るばね、調節ねじが具備されている。 傾き角調整部60.−軸スライダ61,62゜回転?B
37は、それぞれrr(動部と周定部に分れており、ク
ランプ部35は傾き角調整部60の可動部に固定されて
いる。又、傾き角調整部60の固定部は一輌スライダ6
1の■ff!h部に固定されており、−軸スライダ61
の固定部は一軸スライダ62の11丁動部に固定されて
いる。又、−輌スライダ62の固定部は回転部37の可
動部に固定されており、回転部37の固定部は、支持板
38に固定されている。支持板38は、Z軸スライド7
1に1.’il定され、Z軸スライド71はレール72
に1m 動or tF、に保持されている。2つのレー
ル72は、スペーサ73及び台74により間隔を保持さ
れて固定されている。各可動部の駆動装置及び機構は図
示を省略しであるが1例えば、パルスモータ、ポールネ
ジ、クロスローラネジベアリング等にて構成しである。 支持枠77の四部80に収納保持された鏡76は、ポー
ル78.調節ねじ79.及び図示を省略しているばね並
びに調節ねじにより直交する2方向の傾きの調整が11
f能なように設定しである。1Q76は1例えばアルミ
ニウム全反射鏡にて構成しである。又1図示を省略しで
あるが、クランプ部35に鏡76に向う光路を遮断、開
放するためのシャッターが設けである。鏡76は、被検
光字素r−81(第5図参照)の透過波面をA一定する
際に有効に機能するものである。即ち、第5図にて示す
ように、[先光学系82から発した光束83は被検光字
素T−81に入射した後、光軸40に11行な光束84
に変換され、鏡76で反射された後も同じ光路を逆行し
て丙び被検光字素f−81を通過し、その後「先光学系
82に向うようになっており、これは、光ディスクのピ
ックアップレンズ等の上行光束を一点に収束する非球面
光学素子の評価に有効である。 ステージ30を駆動制御する誤差信号は、次のようにし
て得られる。即ち、第8図において説IJ1したように
被検光学素子の光軸15からのシフトには、T−先光学
系中に設けられた図示されていない2次元の位置検知素
子(PSD)で知ることが。 でき、又、デフォーカス量は、フォトダイオードとピン
ホールの組合せで概略のイ1を知ることができる。さら
に、撮像素子17と干渉縞解析装置18により得られた
シアリング干渉縞の解析からさらに微細なシフト量、デ
フォーカスr+)を得ることができる。そして、シフト
賃、デフォーカス量をステージ30のアライメント機構
部で補正した後、もう−庶子渉縞の解析を行ない残った
波面の非対称性からティルトに関する情報をうることか
できるものである。 上記構成においても、第1実施例と同様に被検光字素Y
−81の光軸40からの横ずれ、即ちシフトの調整及び
デフォーカスの調整、並びにティルトの袖11:、が1
−1) f駈となり、非球而光学素r−に対して測定光
学系である10渉光学系固有の収差の影響を軽減し、よ
り高精度の測定がITf能となるものである。又、縦型
のステージ30であるために、液体面を用いた絶対を面
による「先光学系の較i1Eがi+(能となり、又、各
調整部がほぼ独σしているため、アライメント誤差の補
正が容易となる。又、Jll画面回転IIf能であるか
ら、L先光学系の有している回転非対称な1°渉光学系
固有の誤差についての情報かえられる。さらに、シアを
′j−える機構が1次元で済み、又、1つのステージ3
0で被検光学系の透過波面の測定が”f (kになり、
より適確な、;市価が1菫f能になる。 なお、■−記実施例では、シフトを補+lEする機構と
して2つの直交する−・輔スライダ61.62を積み重
ねた例を示したが、これに限定されるものではなく、こ
れを−+面I−で構成してもよい、この場合には1重j
ls: +体積ともに軽減の方向に向い、ステージ30
の駆動制御によい効果をり−える。又、被検光学素子8
1をクランプする機構として3つ爪チャック70を示し
たが、物によっては真空吸着などの手段も可能である。 又、回転部37はベアリングによるものが通常用いられ
るが、エアーベアリングを用いることができることはい
うまでもない、さらに、Z軸のスライドは、パルスモー
タとポールネジによる駆動とピエゾ素r−による微動と
を組合せて用い、移動i11を光スケール、レーザ測長
などの測長手段により制御することができるものである
。 なお、上記各実施例においては、縦型のステージを例示
したが、横型にしても同様の作用効果が得られるのは勿
論である。 [発明の効果] 以」二のように本発明によれば、シフト、ディフォーカ
ス及びティルトの補正が可能となり、非球面光学素子の
面形状の測定が可能となる。又。 非球面光学素子に対して測定光学系である干渉光学系固
有の収差の影響を軽減し、より高制度の測定が11f能
となるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明に係るステージの第1実施例を示す側
面図、 第2図、第3図は、第1図の要部の説明図、第4図は、
未発11に係るステージの第2実施例を示す正面図、 第5図は、第4図の要部の光路説明図。 第6図、第7図、第8図、第9図a、b、及び第10図
は、従来技術の説明図である。 30・・・ステージ 34・・・被検光学素子− 35・・・クランプ部 36・・・アライメント機構部 37・・・回転部 38・・・支持板 特許出願人  オリンパス光学丁!株式会社代理人 弁
理ト  仝   良       武   ゛第1図 30 ステージ 第4図 罰 第5図 I 第6図 第10図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被検光学素子を保持するためのクランプ部と、直
    交する2方向のティルトを調整するための傾き角調整部
    と、直交する2方向のシフトを調整するためのスライダ
    部と、被検光学素子を光軸回りに回転するための回転部
    と、前記各構成部を光軸方向に移動可能に保持するため
    の支持部とより構成したことを特徴とするステージ。
JP8660987A 1987-04-08 1987-04-08 ステ−ジ Pending JPS63252207A (ja)

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JP8660987A JPS63252207A (ja) 1987-04-08 1987-04-08 ステ−ジ

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5924819A (ja) * 1982-08-03 1984-02-08 Ricoh Co Ltd 干渉測定装置の光軸合せ機構
JPS60104206A (ja) * 1983-11-11 1985-06-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学測定装置
JPS61247904A (ja) * 1985-04-26 1986-11-05 Ricoh Co Ltd 干渉測定方式における測定対象物自動アライメント装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5924819A (ja) * 1982-08-03 1984-02-08 Ricoh Co Ltd 干渉測定装置の光軸合せ機構
JPS60104206A (ja) * 1983-11-11 1985-06-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学測定装置
JPS61247904A (ja) * 1985-04-26 1986-11-05 Ricoh Co Ltd 干渉測定方式における測定対象物自動アライメント装置

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