JPS633428A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明はイオン注入装置のような半導体製造装置内で使
用されるウェハ搬送装置に関する。

（従来の技術） イオン注入装置には、周知のように、ウェハを大気中か
ら予備真空室を介して真空処理室に搬入し、イオン注入
後にウェハを再び予備真空室を介して大気中に搬出する
ウェハ搬送装置が設けられている。

この種のウェハｍ送装置としては、従来からウェハの自
重を利用する装置が知られている。このウェハ搬送装置
は、大気中から予備真空室を介して真空処理室に至るウ
ェハの傾斜案内機構と、この真空処理室から別の予備真
空室を介して大気中に至る別の傾斜案内機構とを有し、
ウェハの自重を利用してウェハを傾斜案内機構により順
次下方に移動させ、イオン注入処理を行うものである。

このウェハ搬送装置はウェハの自重を利用するので駆動
装置が不要であるという利点を有するが、その反面ホト
レジスト層を設けたウェハの場合には搬送途中でひっか
かりが生じて作業の中断が生じたり搬送の高速化が困難
であるという難点があった。

またストッパによりウェハを停止させる際に、ウェハ端
部に付着したレジスト層やウェハ端部が破壊してパーテ
ィクル（塵）を発生するという問題もあった。

さらに従来の装置ではウェハ・カセットから順にイオン
注入装置部に搬入されたウェハは、イオン注入後別のウ
ェハ・カセットに収納されるため、ウェハ管理工種々の
不都合が生じていた。

（発明が解決しようとする問題点） 上述したように、従来のウェハ搬送装置では、ウェハの
搬入・搬出の円滑性を欠き、かつ高速化が難しく、さら
にパーティクルが発生するという問題があった。

本発明はこのような従来の難点を解消すべくなされたも
ので、ウェハの搬入・搬出を円滑にかつ高速で行うこと
ができ、パーティクルの発生がなく、ざらにウェハを両
方向に搬送可能なウェハ搬送装置を提供することを目的
とする。

［発明の構成コ （問題点を解決するための手段） すなわち本発明のウェハ搬送装置は、半導体製造装置内
に配設されたセラミックスからなるガイドレールと、こ
のガイドレール上を走行するフッ素樹脂からなる車輪を
備えた案内車と、この案内車に装着されたウェハ保持装
置と、前記案内車を駆動する駆動装置とを有することを
特徴としている。なお上記のガイドレールおよび車輪は
、それぞれ互いに接触する面がセラミックスおよびフッ
素樹脂で形成されていればよく、したがって金属との複
合体も使用可能である。

（作用） 本発明のウェハ搬送装置は、ウェハ保持装置が案内車に
装着されてガイドレール上を走行するので円滑にかつ高
速で左右両方向にウェハの搬送を行うことができる。ま
た上記のガイドレールが耐摩耗性があり、高剛性のセラ
ミックスからなり、搬送車の車輪が潤滑性の高い弾性の
めるフッ素樹脂からなるので摩耗によるパーティクルの
発生は極めて少くなる。

（実施例） 以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。

第１図ないし第３図において、ウェハ搬送装置１は、上
下に平行配置された一対のセラミックス製ガイドレール
２．３と、これらのガイドレール２．３をテフロンのよ
うなフッ素樹脂製の車輪４ａ、４ｂ、４Ｃ１５ａ、５ｂ
、５Ｃで挟持するようにして装架された案内車６と、こ
の案内車６の上部に固定されたウェハ保持装置７．８と
から構成されている。なお上記のガイドレール２．３お
よび車輪３ａ、・・・、３ｂ、・・・は、それぞれ互い
に接触する面がセラミックスおよびフッ素樹脂で形成さ
れていればよい。したがってガイドレール２．３として
金属との接合体や金属上へセラミックスを溶射したもの
も使用可能である。また車輪３ａ、・・・、３ｂ、・・
・も、フッ素樹脂による成形品の他金属製の車輪の外周
へフッ素樹脂をコーティングしたものも使用可能である
。

案内車６は、それぞれガイドレール２．３に沿って張り
出した水平腕９ａ、１０ａの両端に上向きの垂直腕９ｂ
、９ｃ、１０ｂ、１０ｃと水平腕９ａ、１０ａの中央に
下向きの垂直腕９ｄ、１０ｄを有する独立した２組の支
持部材９．１０と、上記各垂直腕の先端に回転自在に軸
支された車輪４ａ、・・・、５ａ、・・・等から構成さ
れている。

そしてウェハ保持装置７は、−方の支持部材９の上向き
の垂直腕９ｂの先端に水平に固設された把持爪７ａと他
方の支持部材１０のこれと隣接する上向きの垂直腕１０
ｂの先端に固設された上向きの把持爪７ｂとから構成さ
れている。

またウェハ保持装置８は、−方の支持部材９の上向きの
垂直腕９Ｃの先端に水平に固設された把持爪８ａと他方
の支持部材１０のこれと隣接する上向きの垂直腕１０Ｇ
の先端に固設された上向きの把持爪８ｂとから構成され
ている。把持爪７ａ、７ｂおよび８ａ、８ｂは第４図に
示すようにそれぞれ断面り字状または逆し字状をなして
おり、し字状または逆り字状の水平部でウェハの自重を
支持し、かつ垂直部でウェハを把持するようになってい
る。Ｌ字の垂直部にはウェハを把持する際のガイドとし
て２０’〜７０”の面取を施している。

また、パーティクルの発生を抑えるため把持爪にフッ素
樹脂等のコーティングを行なうことも可能である。

そして上述した支持部材９．１０は、車輪４ａ、・・・
、５ａ、・・・等に案内されて、図示を省略した駆動装
置によりガイドレール２．３上を同期して往復動じ、ガ
イドレール２．３の両端近傍で俊から進行する支持部材
が前を進行する支持部材よりわずかに早く、例えば図示
を省略したストッパに阻止されて停止し把持爪間の間隔
をわずかに広げウェハの把持あるいは解除動作を行う。

第５図は、この実施例のウェハ搬送装置をイオン注入装
置１１のインブラントチャンバー１２内に配設した例を
示すものである。

同図において、ウェハ保持装置の支持部材９．１０は、
それぞれ同期して動作する駆動手段例えばステッピング
モータあるいはブラシレスＤＣモータ等によりベルト等
を介して図示を省略したガイドレール上を往復動される
。

この実施例において、例えば５図の右側の真空予備室か
ら導入されたウェハＷ１を中央のプラテン１３上に移送
するとともにプラテン１３上にあるウェハＷ２を左側に
移送する場合には、支持部材９．１０は、それぞれ左あ
るいは右方向に僅かだけ移動して把持爪８ａ、８ｂ、７
ａ、７ｂでウェハＷ１、Ｗ２を挟持する。次に支持部材
９．１０は、左方向に移動し、それぞれ右および左方向
に僅かだけ移動して把持爪８ａ、８ｂ、７ａ、７ｂで挟
持していたウェハＷ＋、Ｗ２を解放する。

このときのウェハＷ２の位置を破線で示す。逆の場合（
左および中央位置にあるウェハをそれぞれ中央および右
側位置に移す場合）には上記と逆の動作が行われて、左
および中央位置にあるウェハをそれぞれ中央および右側
位置に移される。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明のウェハ搬送装置は、ウェハ
保持装置が案内車に装着されてガイドレール上を走行す
るので円滑にかつ高速で左右両方向にウェハの搬送を行
うことができ、また上記のガイドレールと搬送車の車輪
がそれぞれ耐摩耗性のセラミックスと潤滑性の高いフッ
素樹脂からなるので摩耗によるパーティクルの発生は極
めて少くなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の正面図、第２図はその平面
図、第３図は第１図の■−■線に沿う側断面図、第４図
は第２図のＩＶ　−ＩＶ線に沿う把持爪の断面図、第６
図はこの実施例をイオン注入装置のインブラントチャン
バー内に配設した状態を概略的に示す平面図である。 １・・・・・・ウェハ搬送装置、２．３・・・・・・セ
ラミックス製ガイドレール、４ａ、４ｂ、４Ｃ１５ａ、
５ｂ、５Ｇ２．３・・・・・・フッ素樹脂製の車輪、６
・・・・・・案内車、７．８・・・・・・ウェハ保持装
置、９．１０・・・・・・支持部材、１１・・・・・・
イオン注入装置、１２・・・・・・インブラントチャン
バー、１３・・・・・・プラテン 出願人　　東京エレクトロン株式会社 代理人弁理士　　須　山　佐　− 第４図 第５図 手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示　特願昭６１−１４６６３２号２、発明
の名称 ウェハ搬送装置 ３、補正をする者 事件との関係・特許出願人 東京エレクトロン株式会社 チル・パリアン株式会社 ４、代理人　〒１０１ 東京都千代田区神田多町２丁目１番地 昭和６１年８月２６日（全送日） ６、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 ７、補正の内容 明細書筒９頁６行目「第６図」を［第５図）・−ト と訂正する。 以上

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）半導体製造装置内に配設されたセラミックスから
   なるガイドレールと、このガイドレール上を走行するセ
   ラミックス又は合成樹脂からなる車輪を備えた案内車と
   、この案内車に装着されたウェハ保持装置と、前記案内
   車を駆動する駆動装置とを有することを特徴とするウェ
   ハ搬送装置。
2. （２）半導体製造装置がイオン注入装置である特許請求
   の範囲第１項記載のウェハ搬送装置。