JPS63313322A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS63313322A JPS63313322A JP14905287A JP14905287A JPS63313322A JP S63313322 A JPS63313322 A JP S63313322A JP 14905287 A JP14905287 A JP 14905287A JP 14905287 A JP14905287 A JP 14905287A JP S63313322 A JPS63313322 A JP S63313322A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は金属薄膜からなる記録磁性層を有する磁気記録
媒体の製造方法に関する。
媒体の製造方法に関する。
(従来O技術)
垂直龜気記録方式は高密度記録技術として多くの優れた
特徴金持ち、その実用化に向けて各所で精力的に研究が
なされている。1直磁気記録に用いる配線S体(以下、
真直@気記録媒体という)としてはBa−フェライトの
ようなマグネトプラムバイト型結晶構造を有する酸化物
i’1lliEを2蹟磁性層とするもDと、Co−C′
r、 Co −V、 Co−Cr −Rh等Oe属薄膜
を記録磁性層とするものが最近では主に研究されてiる
。特に、フロッピーディ゛スク等で1!!弔さ作る可撓
注喬脂フィルム基体を使える@度下での一債が可能とい
う点から、Ba−77工ライトwI嘆にくらべ低温での
成膜か可能な浸者の金褐簿Il!型媒体が出直@気記録
媒体として有望視されて^る。
特徴金持ち、その実用化に向けて各所で精力的に研究が
なされている。1直磁気記録に用いる配線S体(以下、
真直@気記録媒体という)としてはBa−フェライトの
ようなマグネトプラムバイト型結晶構造を有する酸化物
i’1lliEを2蹟磁性層とするもDと、Co−C′
r、 Co −V、 Co−Cr −Rh等Oe属薄膜
を記録磁性層とするものが最近では主に研究されてiる
。特に、フロッピーディ゛スク等で1!!弔さ作る可撓
注喬脂フィルム基体を使える@度下での一債が可能とい
う点から、Ba−77工ライトwI嘆にくらべ低温での
成膜か可能な浸者の金褐簿Il!型媒体が出直@気記録
媒体として有望視されて^る。
金属薄膜塁垂直磁気記鎌楳本は、従来から用iられてい
る塗布型媒体、すなわちγ−F e * OsやCo−
γ−Fe、o、等の憔磁柱体粒子金バインダ中に外敵し
て基体上に塗布したffl気記録媒体とは全く異質の構
成のため、L相比に当っては塗布製媒体で問題とならな
かった新たな課題が生じる。その代表的なものが、媒体
が高温高湿度等の環境に耐える性質、すなわち耐食性の
維持と、I気ヘッドC)接触走行に耐え得る性質、すな
わち耐久性の確保でおる。
る塗布型媒体、すなわちγ−F e * OsやCo−
γ−Fe、o、等の憔磁柱体粒子金バインダ中に外敵し
て基体上に塗布したffl気記録媒体とは全く異質の構
成のため、L相比に当っては塗布製媒体で問題とならな
かった新たな課題が生じる。その代表的なものが、媒体
が高温高湿度等の環境に耐える性質、すなわち耐食性の
維持と、I気ヘッドC)接触走行に耐え得る性質、すな
わち耐久性の確保でおる。
金14性薄膜聾媒体の耐久性を向上させるために。
記録磁性1−の上に非磁性保護層を形成したり、さらに
液体または固体潤滑剤による潤滑7d kその上に設け
る等の方法が従来考えられてるが、これらの方法による
耐久性の向上は、実用的見地からは未だ不十分であると
言える。それは耐久性評唾の結果にばらつきがみられる
という形であられれる。つまシ耐久性の高い媒体もあろ
が耐久性の低い媒体も存在する結果となった。この問題
解決のための作動な施策として、耐久性を損わせる一つ
の原因となる金属薄膜媒体の表面に存在する突起?除去
する方法があり、具体的には全4A博膜媒体の表面と研
磨テープ等によシ@磨することによ)制久性のばらつき
倉なくシ、全体の耐久性のレベルの向上が可能となった
。しかし5Fr磨により突起部分を除去する際に母性層
が剥離し又はfiJFMされ。
液体または固体潤滑剤による潤滑7d kその上に設け
る等の方法が従来考えられてるが、これらの方法による
耐久性の向上は、実用的見地からは未だ不十分であると
言える。それは耐久性評唾の結果にばらつきがみられる
という形であられれる。つまシ耐久性の高い媒体もあろ
が耐久性の低い媒体も存在する結果となった。この問題
解決のための作動な施策として、耐久性を損わせる一つ
の原因となる金属薄膜媒体の表面に存在する突起?除去
する方法があり、具体的には全4A博膜媒体の表面と研
磨テープ等によシ@磨することによ)制久性のばらつき
倉なくシ、全体の耐久性のレベルの向上が可能となった
。しかし5Fr磨により突起部分を除去する際に母性層
が剥離し又はfiJFMされ。
非磁性基板が娼出し、再生時にミッシングパルスr発生
する間鴎が生じた。この問題を解決する手段として基板
ケ研磨したのち、その上に記録磁性111 k形成する
方法r実施した。しかしこの方法では、記・録磁性層を
連続的に形成する際、金鴎ロールとO接触等により発生
する突起には対処できないため、信頼性r向上させる効
果が不十分であった。従って媒体の信頼性を向上させる
ために、耐久性r向上させ、なおかつミッシングパルス
の発生を伴なわない施′Mを講じることが必要である。
する間鴎が生じた。この問題を解決する手段として基板
ケ研磨したのち、その上に記録磁性111 k形成する
方法r実施した。しかしこの方法では、記・録磁性層を
連続的に形成する際、金鴎ロールとO接触等により発生
する突起には対処できないため、信頼性r向上させる効
果が不十分であった。従って媒体の信頼性を向上させる
ために、耐久性r向上させ、なおかつミッシングパルス
の発生を伴なわない施′Mを講じることが必要である。
(発明が解決しようとする問題点)
こQように従来の金属薄膜型磁気記録媒体の製造技術で
ある保掻層■形式や潤滑層を設ける等の手ff1k用い
ても媒体の示す耐久性のばらつきが大きい友めに、実用
に供し得る1a気記録媒体を得ることは困難であった。
ある保掻層■形式や潤滑層を設ける等の手ff1k用い
ても媒体の示す耐久性のばらつきが大きい友めに、実用
に供し得る1a気記録媒体を得ることは困難であった。
i九耐久性のばらつきt抑える九めに有効である媒体の
表面t−研磨する手法O導入は研磨に伴ないミッシング
パルスを発生させるため信頼性向上という面では未だ不
十分でちり之。従うて本発明はミッシングパルスの発生
r抑えかつ耐久性が高く耐久性のばらつきが小さい、金
属薄膜からなる記録磁性#を有する磁気記録媒体の製造
方法r提供することを目的とする。
表面t−研磨する手法O導入は研磨に伴ないミッシング
パルスを発生させるため信頼性向上という面では未だ不
十分でちり之。従うて本発明はミッシングパルスの発生
r抑えかつ耐久性が高く耐久性のばらつきが小さい、金
属薄膜からなる記録磁性#を有する磁気記録媒体の製造
方法r提供することを目的とする。
[発明0構成]
(問題点を解決するための手段)
本発明は非磁性基板上に下地1−倉形成し、該下地を一
〇衣面を表面上の突起を除去すべく研磨したのち、金属
1Vil!2からなる記録磁性層を形成するものである
。
〇衣面を表面上の突起を除去すべく研磨したのち、金属
1Vil!2からなる記録磁性層を形成するものである
。
(作用)
配分磁性1−の表面ま九は非磁性保護層の表面上に突起
があると、ffi気ヘッドが媒体に接触して走行する際
に突起部分O記録磁性1−や非磁性保護層が削れること
によってダストが発生する。このダストが媒体ヘッド間
に巻込まれると、それがtIi本の叡w1社もたらし、
耐久性を損なう要因となる。
があると、ffi気ヘッドが媒体に接触して走行する際
に突起部分O記録磁性1−や非磁性保護層が削れること
によってダストが発生する。このダストが媒体ヘッド間
に巻込まれると、それがtIi本の叡w1社もたらし、
耐久性を損なう要因となる。
本発明に基づいて下地層の表面上の突起を前もってgf
磨によシ除去し、しかる麦に記録磁性層を形成すると、
媒体自身からのダスト供給がなくなるため、媒体ヘッド
間へのダスト0巻き込みに起因する媒体の損傷が抑制さ
れ、耐久性の向上が図られる。−また、記録磁性層が剥
離しないため、、研磨に伴なうミッシングパルスの活生
は起こらない。
磨によシ除去し、しかる麦に記録磁性層を形成すると、
媒体自身からのダスト供給がなくなるため、媒体ヘッド
間へのダスト0巻き込みに起因する媒体の損傷が抑制さ
れ、耐久性の向上が図られる。−また、記録磁性層が剥
離しないため、、研磨に伴なうミッシングパルスの活生
は起こらない。
(実施例)
・君1図は本発明?フロッピーディスク上側として説明
した図である。まず、基板10の上に下池411’i形
成し、表面に存在する突起21i研磨によって除去する
。しかるのち金fid膜からなる記@磁性I@ 12
i形成する。これによりヘッドにス よる突起の汲謙が防止され、ダクトの発生がなくなり、
媒体・ヘッド間へのダストの巻き込みに起因する媒体の
損傷が抑制で1、耐久性が向上する。
した図である。まず、基板10の上に下池411’i形
成し、表面に存在する突起21i研磨によって除去する
。しかるのち金fid膜からなる記@磁性I@ 12
i形成する。これによりヘッドにス よる突起の汲謙が防止され、ダクトの発生がなくなり、
媒体・ヘッド間へのダストの巻き込みに起因する媒体の
損傷が抑制で1、耐久性が向上する。
第2図に本光明■一実施例における研磨工程r説明する
ための図である。下地+fit形成し、フロノヒーティ
スクの形感tし九基板1の中央部にセンターハゲ2が取
f寸けられ、このセンターハフ゛2がモータ3に連結さ
れている。七−夕3により前記蟇仮1が口伝走行させら
れるとき、研磨テープ4の表面に基板lがfなる力で押
付けられる。また該研磨テープ4は矢印5で示すように
定速で送られる。これにより基板10表面が研磨される
。
ための図である。下地+fit形成し、フロノヒーティ
スクの形感tし九基板1の中央部にセンターハゲ2が取
f寸けられ、このセンターハフ゛2がモータ3に連結さ
れている。七−夕3により前記蟇仮1が口伝走行させら
れるとき、研磨テープ4の表面に基板lがfなる力で押
付けられる。また該研磨テープ4は矢印5で示すように
定速で送られる。これにより基板10表面が研磨される
。
また光面上の突起が除去される。研磨テープ4としては
例えばテープ状店体の上に、研磨材としてAhO8:l
l:10000粒子r塗布したものが使用される。
例えばテープ状店体の上に、研磨材としてAhO8:l
l:10000粒子r塗布したものが使用される。
一方、この研磨により除去された破片倉取去るべく、ク
リーニングテープ6が研磨テープ4と同様に基板lの表
面に接触しつつ、矢印7で示すよりに送られる。なお、
これら6J+磨テープ4およびクリーニングテープ6は
、磁気記録媒体1の少なくとも妃碌が行なわれる煩戚全
戚金研磨およびクリー二/グできるように、矢印8.9
で示すように基板lの生伍方向にも移動可能となってい
る。
リーニングテープ6が研磨テープ4と同様に基板lの表
面に接触しつつ、矢印7で示すよりに送られる。なお、
これら6J+磨テープ4およびクリーニングテープ6は
、磁気記録媒体1の少なくとも妃碌が行なわれる煩戚全
戚金研磨およびクリー二/グできるように、矢印8.9
で示すように基板lの生伍方向にも移動可能となってい
る。
、A3図は@若テープ4により基板IGD表面倉研舊す
る様子r拡大しC示したものでhv、基本上0上に下池
1.1i11が形成されている媒体の表面【研磨する場
曾である。
る様子r拡大しC示したものでhv、基本上0上に下池
1.1i11が形成されている媒体の表面【研磨する場
曾である。
下地j婦11は9例えば第4図に示すような連続薄膜形
成装置によって形成することが可能である。
成装置によって形成することが可能である。
真q3(34oの内部に可撓性w脂フィルム基体42七
供給する供給ロール41.加熱ローラ43a。
供給する供給ロール41.加熱ローラ43a。
43b、および等本42t−巷取る巻取りロール44が
設けられている。なお、ガイドローラ等は図では省略し
ている。tた、加熱ローラ43a、43b■周囲に対向
して1例えばS10.ターゲット45a945bが設け
られており、これらのターゲット45a、45bは外部
の電源46m、46bから電力が供給される。
設けられている。なお、ガイドローラ等は図では省略し
ている。tた、加熱ローラ43a、43b■周囲に対向
して1例えばS10.ターゲット45a945bが設け
られており、これらのターゲット45a、45bは外部
の電源46m、46bから電力が供給される。
上記のような装置【用い、供給ロール41から送シ出さ
れた可撓性樹脂フィルム基体42が第1の加熱ローラ4
31Lv)周囲を通過する際に、まず基体42の一方の
面上に810.薄膜からなる下地層をスパッタ・リング
により形成し1次いで基本42が第2の加熱ローラ43
bの局面ta遇する際に。
れた可撓性樹脂フィルム基体42が第1の加熱ローラ4
31Lv)周囲を通過する際に、まず基体42の一方の
面上に810.薄膜からなる下地層をスパッタ・リング
により形成し1次いで基本42が第2の加熱ローラ43
bの局面ta遇する際に。
基本42の他方の面上に同様にしてsio、4gからな
る下地711形成し友。こりして両面に下地層が形成さ
れた侵、基本42は巻取シロール44に巻取られる。
る下地711形成し友。こりして両面に下地層が形成さ
れた侵、基本42は巻取シロール44に巻取られる。
こうして下地層が形成され九基本を3.5インチ棧Qデ
ィスク形状に打抜いたもの?60枚用意しその9530
枚については、第2図に示した装置によシ媒体の衣」と
研磨し突起を除去する処理を行なった。残り30枚はそ
のままとした。これら60枚θディスクについて、第5
図に示した装置r用いて表面に記録出性層を形成した。
ィスク形状に打抜いたもの?60枚用意しその9530
枚については、第2図に示した装置によシ媒体の衣」と
研磨し突起を除去する処理を行なった。残り30枚はそ
のままとした。これら60枚θディスクについて、第5
図に示した装置r用いて表面に記録出性層を形成した。
第5図に示す4膜形成長置は真空槽51の内部に基板ホ
ルダ52およびそれに対向するターゲット(例えばCo
(:’r)53が設けられ、を源54よシ供給されるR
F出力に;り基板ホルダー52に保持された下地ノーの
形成されたディスク!!i阪55にスパッタリングを行
なうものである。しかる麦、8g5図に示した畏は■タ
ーゲラ) 53 i’ 5iftにかえ、媒体′0表面
に非磁性保護層10.02μm形成した。
ルダ52およびそれに対向するターゲット(例えばCo
(:’r)53が設けられ、を源54よシ供給されるR
F出力に;り基板ホルダー52に保持された下地ノーの
形成されたディスク!!i阪55にスパッタリングを行
なうものである。しかる麦、8g5図に示した畏は■タ
ーゲラ) 53 i’ 5iftにかえ、媒体′0表面
に非磁性保護層10.02μm形成した。
こうして作製した3、5インチのフロッピーディスクQ
主髪諸元テ41表に示す。
主髪諸元テ41表に示す。
第 1 表
こうして異なった2つのグループ各30枚Oフロッピー
ディスクのうち各20枚について同一条件で洗浄処理お
よび潤滑処理を行なり九。
ディスクのうち各20枚について同一条件で洗浄処理お
よび潤滑処理を行なり九。
これら講なつた2つのグルー1620枚のフロンビーデ
ィスクについて同じ磁気ヘッド(M n −Zn:j、
イライトヘッド、曲率半径50R)k用い、同一条件の
もとて耐入試>Jlk k行った。再生出力が初期出力
の70%’tで低下した時点をもつでディスク寿命とし
、その状態に至るまでのディスク■走行回数(パス)を
耐久性とし友。その耐久試験の結果を第6図に示す。第
6図の横軸は耐久性。
ィスクについて同じ磁気ヘッド(M n −Zn:j、
イライトヘッド、曲率半径50R)k用い、同一条件の
もとて耐入試>Jlk k行った。再生出力が初期出力
の70%’tで低下した時点をもつでディスク寿命とし
、その状態に至るまでのディスク■走行回数(パス)を
耐久性とし友。その耐久試験の結果を第6図に示す。第
6図の横軸は耐久性。
縦軸はそれぞれの耐久性を示す媒体の割合であり。
(a)は@磨処理を施していないディスク、(b)は下
地14形成侵研磨処理tt1fAt、たディスクについ
ての結果である。
地14形成侵研磨処理tt1fAt、たディスクについ
ての結果である。
第6図から明らかなように1a)C)研磨処理を施して
いないディスクは、耐久性のばらつきが大きく、耐久性
の低いものが多くみられる。これに対してtb)の研W
I?を施し九ディスクは、耐久性のばらつきは小さくな
っている。すなわち、いずれも400万パス以下0耐久
性のものは全くなく、1000万パス以上の高い耐久性
r示すものoiau曾が高い。
いないディスクは、耐久性のばらつきが大きく、耐久性
の低いものが多くみられる。これに対してtb)の研W
I?を施し九ディスクは、耐久性のばらつきは小さくな
っている。すなわち、いずれも400万パス以下0耐久
性のものは全くなく、1000万パス以上の高い耐久性
r示すものoiau曾が高い。
前記の異なった2つのグループ各10枚のフロッピーデ
ィスクを用意し、そのうち下地層を形成浸研磨処理を行
なり九フロッピーディスクについてはそのまま、研磨処
理を行なわなかつ九媒体について鉱、第2図に示した装
置により媒体の表面【研磨し突起r除去する処理を行な
う次段、同−粂件で洗浄処理および潤滑処理を行なった
。これら異なった2つのグループ各10枚ずつ計20枚
のフロッピーディスクについて、ミッシングパルスk
6111 ’fした。トラック幅は120μmでちる。
ィスクを用意し、そのうち下地層を形成浸研磨処理を行
なり九フロッピーディスクについてはそのまま、研磨処
理を行なわなかつ九媒体について鉱、第2図に示した装
置により媒体の表面【研磨し突起r除去する処理を行な
う次段、同−粂件で洗浄処理および潤滑処理を行なった
。これら異なった2つのグループ各10枚ずつ計20枚
のフロッピーディスクについて、ミッシングパルスk
6111 ’fした。トラック幅は120μmでちる。
結果′fr:第7図に示す。(a)は研磨処理全行なっ
た浸、記@ミ住層および保獲l−金形成し九ディスク、
tb)は記号磁性層および保dlj2形成し九よ、研磨
処理上行なったディスクである。
た浸、記@ミ住層および保獲l−金形成し九ディスク、
tb)は記号磁性層および保dlj2形成し九よ、研磨
処理上行なったディスクである。
@7図から明らかなように本発明に基づき、研磨処理を
行なったt!に、記録磁性層および保護層を形成したデ
ィスクは、ミッシングパルスはほとんどみられない。こ
れに対し、記録磁性1−および保護4 k形戎麦研磨し
たディスクは、研磨時の磁性l―の剥離に伴なうミッシ
ングパルスの発生がみられる。
行なったt!に、記録磁性層および保護層を形成したデ
ィスクは、ミッシングパルスはほとんどみられない。こ
れに対し、記録磁性1−および保護4 k形戎麦研磨し
たディスクは、研磨時の磁性l―の剥離に伴なうミッシ
ングパルスの発生がみられる。
このように本発明に基づき下地1−を形成し之麦研磨処
理し、記録磁性1−および保dank杉成することvc
↓9ミッシングパルスkA生することなく耐久性が向上
する理由は、研4によってディスク表面上の突起が除去
されるとともに、そのうち記録磁性j―および保d1−
金形成することにぶり、研磨による磁性層の剥離が起こ
らないなめである。
理し、記録磁性1−および保dank杉成することvc
↓9ミッシングパルスkA生することなく耐久性が向上
する理由は、研4によってディスク表面上の突起が除去
されるとともに、そのうち記録磁性j―および保d1−
金形成することにぶり、研磨による磁性層の剥離が起こ
らないなめである。
第811a)に示すようにディスク表面上に突起21が
あると、同図(b)に示すように磁気へラド23が換触
して走行する間に突起21が壊れ、ダスト22となる。
あると、同図(b)に示すように磁気へラド23が換触
して走行する間に突起21が壊れ、ダスト22となる。
このようにして生じたダストは、ヘッドが安定に走行し
ている状態においてはディスク・ヘッド間に巻込まれる
ことはないが、ヘッドとディスク半陽方向に#動させる
ときや、ディスクの熱膨張、装置の撮動といり九非平衡
の状態においてディスク・へtド間に巻込まれ易い、デ
ィスクヘッド間に巻込まれたダストは、無視できない確
率でディスクの破壊【もたらす。
ている状態においてはディスク・ヘッド間に巻込まれる
ことはないが、ヘッドとディスク半陽方向に#動させる
ときや、ディスクの熱膨張、装置の撮動といり九非平衡
の状態においてディスク・へtド間に巻込まれ易い、デ
ィスクヘッド間に巻込まれたダストは、無視できない確
率でディスクの破壊【もたらす。
これに対し本発明のように基板の下地層t−影形成、し
かる決に研磨上行なうことによシ第9図に示すようにデ
ィスク費面の突起が除去され、ダストの発生がなくなる
。さらにその上に記録磁性層【形成することで、突起O
除去に伴なう磁性層の剥4r!起こらないため、研磨に
伴なうミッシングパルスの発生がない。
かる決に研磨上行なうことによシ第9図に示すようにデ
ィスク費面の突起が除去され、ダストの発生がなくなる
。さらにその上に記録磁性層【形成することで、突起O
除去に伴なう磁性層の剥4r!起こらないため、研磨に
伴なうミッシングパルスの発生がない。
本発明は上記した実施例に限定されるものでは。
なく、要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施が可能
である0例えば実施例では打ち抜いた後に@磨および記
録磁性層、非磁性保護層の形成テ行なり九が、研磨およ
び記録磁性層、非伍性保鏝層の形成をそれぞれ連続的に
行なうことができる。
である0例えば実施例では打ち抜いた後に@磨および記
録磁性層、非磁性保護層の形成テ行なり九が、研磨およ
び記録磁性層、非伍性保鏝層の形成をそれぞれ連続的に
行なうことができる。
媒体t−4続的に研磨する装置としては、第10図に示
すように巻き取りロール111.送シ出しロール112
お↓び研磨テープ113、クリーニングテープ114v
f−設けたもの金用いればよい、また研磨鎌の記録磁性
層、非磁性保護IfJ形成は第4図に示す装置を用いれ
ばよい。
すように巻き取りロール111.送シ出しロール112
お↓び研磨テープ113、クリーニングテープ114v
f−設けたもの金用いればよい、また研磨鎌の記録磁性
層、非磁性保護IfJ形成は第4図に示す装置を用いれ
ばよい。
さらrC1前述した耐久試1険は下地層がSin、。
記録磁性層がco−(:r合金薄膜で、記録磁性層の上
に非磁性保護層が形成されている媒体の場会θ例である
が、本発明に基づく真面突起除去のため0研磨処理は、
下地層がS i O,以外の酸化物?!膜や窒化物薄膜
、炭化物薄膜、炭素膜や、5itGe等Q#−導体#膜
でおっても良い。
に非磁性保護層が形成されている媒体の場会θ例である
が、本発明に基づく真面突起除去のため0研磨処理は、
下地層がS i O,以外の酸化物?!膜や窒化物薄膜
、炭化物薄膜、炭素膜や、5itGe等Q#−導体#膜
でおっても良い。
父、下地層が磁気記録層の一部tfiねる場合、tlj
えば2層媒体におけるF e −N i膜、F e−8
1膜、 Co −N b系非晶質膜、でもよい。又Co
−Cri 2又は多)−形成とし最初形成する1が下地
層O役JF!l kは九してもよい。
えば2層媒体におけるF e −N i膜、F e−8
1膜、 Co −N b系非晶質膜、でもよい。又Co
−Cri 2又は多)−形成とし最初形成する1が下地
層O役JF!l kは九してもよい。
[発明の効果]
本発明によれば、非磁性基板上に形成された下11t!
!1−の表面の突起?研磨によシ除去し、そののら記録
磁性;−および非磁性保護#茫形成することにより、ミ
ッシングパルスの発生を防ぎながら媒体自身からのダス
ト供給rなくシ、媒体・ヘッド間のダストの巻込みに起
因する媒体の損傷を防止し。
!1−の表面の突起?研磨によシ除去し、そののら記録
磁性;−および非磁性保護#茫形成することにより、ミ
ッシングパルスの発生を防ぎながら媒体自身からのダス
ト供給rなくシ、媒体・ヘッド間のダストの巻込みに起
因する媒体の損傷を防止し。
耐久性の向上を図ることができる。
第1図rr、*発明における研磨処理および記録磁性噛
杉成r説明する為の図、化2図は本発明O−実施@vC
訃ける研磨工程ケ説明するため■研磨湊喧■W成r示す
正面図および側面図、礪3図は研磨の様子忙示す拡大図
、第4図に下地噛、記録磁性;脅および非磁性保護層の
成膜に使用する連続薄8a形成vc置の例を示す図、第
5図にフロッピーディスク状に打抜いた媒体の記@凪性
層および非磁性保護層O成膜に使用する薄膜形成装置の
例を示す図、第6図は本発明に基づく研磨済媒体0耐久
試験、結果の一例を示す図、箒7図は研磨済媒体のミッ
シングパルス醐定り結果の一例七示す図、第8図は金桟
Af?Aからなる記録磁性層を有する磁気記録媒体の表
面突起に起因する耐久性劣化のメカニズムr説明するた
めθ図、第9図は本発明における研磨処理お;び記録磁
性F#形成を説明するための図、第10図は$発明にお
ける@層処理茫連続的に行なう研磨装置の構成の一例を
示すため0図である。 1・・・磁気記録媒体、4・・・@磨テープ、5・・・
クリーニングテープ、lO・・・可撓性ilt脂フィル
ム基本。 11・・・下地11.12・・・記録磁性+d、13・
・・非磁性保護IJi、21・・・突起%22・・・ダ
スト、23・・・磁気ヘラ ド。 代理人 弁理士 則 近 Wl 右同
松 山 光 2篤1図 エータ−第 2 図 第3図 第5@ 第 4 図 パX <xtQ″ン 7、”1(
XIO”)(α)(b) 第 6 図 ミッシ〉7+パルλ C”/s;aeン
ミッシガパルス(4M!/s;k)(cL)
tb)纂
7 図 αυ (b)第
8 図 系 9 図
杉成r説明する為の図、化2図は本発明O−実施@vC
訃ける研磨工程ケ説明するため■研磨湊喧■W成r示す
正面図および側面図、礪3図は研磨の様子忙示す拡大図
、第4図に下地噛、記録磁性;脅および非磁性保護層の
成膜に使用する連続薄8a形成vc置の例を示す図、第
5図にフロッピーディスク状に打抜いた媒体の記@凪性
層および非磁性保護層O成膜に使用する薄膜形成装置の
例を示す図、第6図は本発明に基づく研磨済媒体0耐久
試験、結果の一例を示す図、箒7図は研磨済媒体のミッ
シングパルス醐定り結果の一例七示す図、第8図は金桟
Af?Aからなる記録磁性層を有する磁気記録媒体の表
面突起に起因する耐久性劣化のメカニズムr説明するた
めθ図、第9図は本発明における研磨処理お;び記録磁
性F#形成を説明するための図、第10図は$発明にお
ける@層処理茫連続的に行なう研磨装置の構成の一例を
示すため0図である。 1・・・磁気記録媒体、4・・・@磨テープ、5・・・
クリーニングテープ、lO・・・可撓性ilt脂フィル
ム基本。 11・・・下地11.12・・・記録磁性+d、13・
・・非磁性保護IJi、21・・・突起%22・・・ダ
スト、23・・・磁気ヘラ ド。 代理人 弁理士 則 近 Wl 右同
松 山 光 2篤1図 エータ−第 2 図 第3図 第5@ 第 4 図 パX <xtQ″ン 7、”1(
XIO”)(α)(b) 第 6 図 ミッシ〉7+パルλ C”/s;aeン
ミッシガパルス(4M!/s;k)(cL)
tb)纂
7 図 αυ (b)第
8 図 系 9 図
Claims (4)
- (1)非磁性基体上に下地層を形成し、しかる後金属薄
膜から成る記録磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方
法において、前記非磁性基体上に形成した下地層の表面
を研磨する工程を具備することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - (2)前記記録磁性層上に非磁性保護層を形成する工程
を具備することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (3)最上層上に固体又は液体潤滑剤層を形成する工程
を具備することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (4)前記記録磁性層が、CoとCrの少くとも一つを
主成分とする合金から成ることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14905287A JPS63313322A (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14905287A JPS63313322A (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63313322A true JPS63313322A (ja) | 1988-12-21 |
Family
ID=15466605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14905287A Pending JPS63313322A (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63313322A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0414619A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54141109A (en) * | 1978-04-25 | 1979-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin metal film type magnetic recording medium |
JPS5634141A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-06 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57208630A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Hitachi Ltd | Vertical magnetic recording medium |
JPS5898832A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-11 | Olympus Optical Co Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
JPS5963027A (ja) * | 1982-10-04 | 1984-04-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造法 |
JPS59162621A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-13 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | プラスチツク基板を有する磁気記録媒体 |
JPS6124011A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
JPS61267931A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-27 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気デイスク基板の表面処理方法 |
JPS6225187A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Fujimi Kenmazai Kogyo Kk | メモリ−ハ−ドデイスクの研磨用組成物 |
-
1987
- 1987-06-17 JP JP14905287A patent/JPS63313322A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS54141109A (en) * | 1978-04-25 | 1979-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin metal film type magnetic recording medium |
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JPS6225187A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Fujimi Kenmazai Kogyo Kk | メモリ−ハ−ドデイスクの研磨用組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0414619A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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