JPS59162621A - プラスチツク基板を有する磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） 本発明はポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポ
リカーボネート等のプラスチック基板を有する磁気記録
媒体に関する。

（発明の背景） 高度な記録密度が期待されることから、Ｇｄ−Ｃｏ、’
Ｔｂ−Ｆｅ等の垂直磁化膜を真空蒸着、スパッタリング
のような薄膜形成技術により基板上に積層させた磁気記
録媒体が盛んに研究されている。この記録媒体は例えば
予め垂直磁化膜を一方向に磁化させておき、記録したい
部分にレーザー光の微小スボソ・トを照射・し、それと
同時に逆向きの弱い外部磁場を印カロする。そうすると
照射部分は温度が上昇してキーリ一点又は補償温度を越
え、容易に逆向きの外部磁慢に従って磁化するので照射
を止めると、照射部分は他とは磁化の向き７５（異なる
ことから０．１のデジタル信号の１が記録される。一方
、記録された部分に偏光（レーザー光）を照射し、その
反射光又は透過光の偏光面を測定すると、偏光面は磁化
の向きによって異なる回転をする。

従って、偏光面の回転角を測定して行けば、ｂピ録のあ
る部分と、ない部分を区別すること力；でき。

結局再生（読み出し）を行なうことができる。

ところでこのような磁性薄膜自身は非常に薄くて済むこ
と、あるいは強度、コストなど金考えると、何らかの基
板例えばガラス、グラスチック、金属などの基板の上に
磁性薄膜全形成する乙と′７５；現芙的である。なかで
も、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート等のプラスチック基板は、安価で軽く、耐衝
撃性、強度等にも秀れていることから、ガラスや金属基
板に比べて最も実用的である。

しかしながら、本発明者ｅの研究によると、これらのプ
ラ）スチ・ソクク゛基板上・に゛ζ直接に磁性薄膜を、
蒸着又はスパッタリングすると、基板に対する付着力が
弱く、磁性薄膜が剥れ易いことが判った。

（発明の目的） 従って、本発明の目的は、プラスチック基板の持つ利点
を保持又は犬さく損なうことなく、薄膜形成技術による
磁性薄膜の基板に対する付着カフ５；向上した磁気記録
媒体を提供することにある。

（発明の概要） そこで本発明者ＩＨ１磁性薄膜のプラスチック基板に対
する付着力を向上させるためにアンタルコートについて
研元した。その結果、蒸着用ガラスが磁性薄膜のプラス
チック基板に対する付着力を著しく向上させることを見
い出し、本発明を成すに至った・ 従って、本発明はプラスチック基板の上に蒸着用ガラス
中間層を介して磁性薄膜を形成したことを特徴とする磁
気記録媒体を提供する。

本発明に於いて、プラスチック基板としては例えはポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネ−
ト等が使用される。基板の形状としては、ディスクまた
はテープが最も使用し易い。

この基板の一ヒに蒸着用ガラスの薄膜を形成する訳であ
るが蒸発源として使用する「蒸着用ガラス」それ自身は
、既に知られており、例えばＳｉ　０゜８０〜９０重量
係、Ｂ２０．５〜１５重量係、Ａ　１２Ｑ。

１〜１０重量係、Ｎａｔ　Ｏ１〜１０重量係からなる組
成を有するものである。このような組成の蒸着用ガラス
を通常の薄膜形成技術例えば真空蒸着、イオンブレーテ
ィング、スパッタリング等によりプラスチック基板の上
に例えば２００八〜２０μｍ好ましくは０．１〜１μｍ
の厚さに積層する。一般に、形成さねた薄膜と蒸発源と
の組成は互いに異なるが、本発明に於いてもこれ全否定
することはで＠ない。

なお、場合によっては、蒸着用ガラス層の上に磁性薄膜
を形成する前に目的に応じて（透明）熱拡散層、（透明
）導電層例えばＩｎｔＯｓ、ＳｎＯｔ、ＩＴＯ（ＳｎＯ
ｔとＩｎｔＯｓとの混合物）、Ｔｉ１ｔ　、Ｚｒ０ｔ、
ＡｌｅＯｓ等を同様に薄膜形成技術により積層してもよ
い。但し、これらの中間層は蒸着用ガラス層及び磁性薄
膜に対する付着力が良好なものでなければならない。

その後、引続いて磁性薄膜を形成する。磁性材料として
は、既に知られているように重希土類−遷移金属系のＴ
ｂ−Ｆｅ、　Ｇｄ−Ｆｅ、　Ｄｙ−Ｆｅ、　Ｇｄ−Ｃｏ
、Ｈｏ−Ｃｏ、ＧｄＴｂＦｅ、ＧｄＤｙＦｅ、ＴｂＤｙ
Ｆｅ、ＧｄＦｅＣｏ等のアモルファス、Ｍ　ｎＢ　ｉ、
　ＭｎＣｕＢ１、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＧｅ等の多結晶系
、Ｙｓ　Ｇａ＋、１　Ｆ　ｅｓ、ｏｏｎ、ＴｂＦｅＯｓ
、Ｇｄ１Ｇ等の単結晶系などが使用される。これらの磁
性薄膜は例えば２００久〜数μｍの膜厚に形成される。

磁性薄膜が空気中に露出していると、酸化作用を受けて
磁気特性が低下したり、傷を受けたりするので、その上
に保護層を設けることが好ましい。

保護層の材料としては例えばＳ　ｉ　Ｏ，Ｓ　ｉ　Ｏｔ
、Ｔｉ１ｔ、Ｚ　ｒ　Ｏ２、Ｔ　ａ　−Ｏｅ、Ａｌｔｏ
ｓ、Ｚ　ｎ　Ｓ、　Ｍｇ　Ｆｔ、ＩＴＯが挙げられる。

これらの材料は通常の薄膜形成技術例えば真空蒸着、イ
オンブレーティング、スパッタリング等により例えばＪ
ＯＯＯ人〜５ｏｏｏＡの厚さに形成される。

次に実施例により本発明をより具体的に説明する。

（実施例） 第１図は本例にかかる記録媒体の部分縦断面図であり、
引用数字（１）は直径１２　Ｃｍ厚さ０．１２（Ｊの透
明なポリメチルメタクリレート製基板である。

この基板（１）の上に真空蒸着装置を用い、基板温度：
室温、蒸着物質：（（Ｓｉｏ＋　８４重計係、Ｂ、０．
１０重量係、Ａ　ｌ　ｔＯａ　ａ　＆　ｔ　％、Ｎａｔ
０３重量係からなる蒸着用ガラス２２、真空度６〜ｌ０
Ｘ１０　’　Ｔｏｒｒ、の条件下で５分間蒸着を行ない
、厚さ１０００人のガラス層（２）を形成させた。

その後、２元蒸着法により基板温度：室温、真空度３Ｘ
１０　　’　Ｔｏｒｒ、の条件下で３分間蒸着を行ない
、ガラス層（２）の上に厚さ５０００大のＴｂ−Ｆｅ系
磁性薄膜（３）を形成させた。

実際には、この後保護のために厚：２ｏｏｏＸの５ｉｆ
ｔ薄膜を蒸着するが付着力の測定のために次の試験に供
した。

〔粘着テープ剥離試験〕

磁性薄膜（３）の上に住友スリーエム社のメンディング
テープＡ３１０を密着させ、テープの一端を手で持って
素速く剥したところ、テープ自体が磁性薄膜（３）から
剥れ、磁性薄膜（３）が下地から＠ｊれることばなかっ
た。

比較例として（イ）ガラス層（２）？！ｌ−設けなかっ
たもの及び（ロ）カラス層（２）に代えて同じ膜厚の５
ｉＯｔ層（２′）を設けたものを同様に作製したが、上
述の粘着テープφ１ｊ離試験に供すると、いずれも磁性
薄膜（３）が剥れてし１つだ。後者（ロ）の場合には、
Ｓｉｎ、層（２′）と基＆（１）との間で剥れていた。

（発明の効果） 以上の通り、本発明によｎば、蒸着用ガラス層を設ける
ことにより、磁性薄膜のプラスチック基板への付着力が
格段に向上するほか、ガラス層が透明であることから、
透明な基板を使用すれば、基板小１１からレーザー光に
よる記録及び再生が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す磁気記録媒体の部分縦
断面図である。 （主要部分の符号の説明） １・・・・・−・プラスチック基板 ２・・・・・・蒸着用ガラス１− ３・・・・・・磁性薄膜 出願人　日本光芋工業株式会社 代理人　　渡　　辺　　隆　　男 ニ二］・′　イ　Ｌ羽≧１ ７ ．３ ＼−２ ＝１

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. プラスチック基板の上に蒸着用ガラス層を介して磁性薄
   膜を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。