JPS58215744A - 光熱磁気記録媒体 - Google Patents
光熱磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS58215744A JPS58215744A JP9690282A JP9690282A JPS58215744A JP S58215744 A JPS58215744 A JP S58215744A JP 9690282 A JP9690282 A JP 9690282A JP 9690282 A JP9690282 A JP 9690282A JP S58215744 A JPS58215744 A JP S58215744A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording medium
- substrate
- magnetic
- thin film
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/16—Layers for recording by changing the magnetic properties, e.g. for Curie-point-writing
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高品位党ものを製造し易く、かつ両面から書込
み読み出しが可能な光熱磁気記録媒体に関する。
み読み出しが可能な光熱磁気記録媒体に関する。
〜 ガラスまたは硬質プラスチックのような基板の上に
垂直磁気異方性を有する例えばＧｄ−ｃｏ付金のような
希土類−遷移金属系の非晶質８金の磁性薄膜を積層し、
この上に更に５ｉ０２ のような透明保護膜を積層し
た光熱磁気記録媒体が既に提案され、多くの研究報告が
ある。この記録媒体は、前記磁性薄膜に一旦磁場をかけ
て磁性方向を膜面に垂直な一方向に揃えて磁化した上で
レーザー光をスボツの磁場をかける）その微小部分の磁
性方向を反転させることにより、情報を０．１のデジタ
ル信号として書き込むものであり、そして書き込まれた
磁性薄膜は偏光を照射した場合その反射光及び透過光の
偏光面を回転させる効果（カー効果、ファラデー効果）
を有し、この偏光面の回転角が磁化方向によって異なる
ことを利用して記録された情報を読み出すものである。
垂直磁気異方性を有する例えばＧｄ−ｃｏ付金のような
希土類−遷移金属系の非晶質８金の磁性薄膜を積層し、
この上に更に５ｉ０２ のような透明保護膜を積層し
た光熱磁気記録媒体が既に提案され、多くの研究報告が
ある。この記録媒体は、前記磁性薄膜に一旦磁場をかけ
て磁性方向を膜面に垂直な一方向に揃えて磁化した上で
レーザー光をスボツの磁場をかける）その微小部分の磁
性方向を反転させることにより、情報を０．１のデジタ
ル信号として書き込むものであり、そして書き込まれた
磁性薄膜は偏光を照射した場合その反射光及び透過光の
偏光面を回転させる効果（カー効果、ファラデー効果）
を有し、この偏光面の回転角が磁化方向によって異なる
ことを利用して記録された情報を読み出すものである。
従来、この一種の磁性薄膜は、スパッタリング、イオン
ブレーティング、イオンビーム蒸着などのイオン化薄膜
形成技術によって基板の上に形成しており、この場合、
膜質の向上を目的として金属製基板ホルダーに直流バイ
アス電圧を印加することが知られている。
ブレーティング、イオンビーム蒸着などのイオン化薄膜
形成技術によって基板の上に形成しており、この場合、
膜質の向上を目的として金属製基板ホルダーに直流バイ
アス電圧を印加することが知られている。
しかしながら、この場合基板としてガラス、プラスチッ
クなどの電気絶縁体が使用されるため、基板に直接バイ
アス電圧が印加されず、膜質の向上・は望めない。そこ
で、これまでに積層し、これと基板ホルダーとを接触さ
せて磁性薄膜を積層したもの、■基板外周に沿って帯状
に導電性塗料を塗布し、形成された導電性塗膜と基板ホ
ルダーとを接触させながら磁性薄膜を積層したものが提
案された。
クなどの電気絶縁体が使用されるため、基板に直接バイ
アス電圧が印加されず、膜質の向上・は望めない。そこ
で、これまでに積層し、これと基板ホルダーとを接触さ
せて磁性薄膜を積層したもの、■基板外周に沿って帯状
に導電性塗料を塗布し、形成された導電性塗膜と基板ホ
ルダーとを接触させながら磁性薄膜を積層したものが提
案された。
しかしながら、■のものでは、金属膜が不速明なたｄ）
に基板の裏面から磁性薄膜形成状態の観察（光学的膜厚
モニタリング）及びそれに基づく膜厚のコントロール（
所定膜厚になったとき薄膜形成を止めろタイミングのこ
と）が不可能になり、そのため薄膜形成装置の設計上制
約を受けるという欠点があり、また裏面からのレーザー
光による書込み読み出しが不可能でそのため保護を兼ね
て基板どうしを外側にして２枚張り合わせることができ
ず、更に磁性薄膜が薄くてレーザー光が透過し得るとし
ても金属膜によって反射されるので読み出しにファラデ
ー効果を利用することができないという欠点があった。
に基板の裏面から磁性薄膜形成状態の観察（光学的膜厚
モニタリング）及びそれに基づく膜厚のコントロール（
所定膜厚になったとき薄膜形成を止めろタイミングのこ
と）が不可能になり、そのため薄膜形成装置の設計上制
約を受けるという欠点があり、また裏面からのレーザー
光による書込み読み出しが不可能でそのため保護を兼ね
て基板どうしを外側にして２枚張り合わせることができ
ず、更に磁性薄膜が薄くてレーザー光が透過し得るとし
ても金属膜によって反射されるので読み出しにファラデ
ー効果を利用することができないという欠点があった。
そのほか” ％ Ａｇ ＊ Ａｕ、ＣｔＬ等の金属薄膜
は、基板への付）磁性が劣るという欠点もあった。
は、基板への付）磁性が劣るという欠点もあった。
他方、■のものでは、塗膜から不純ガスが出易く、その
ため必要な真空匠を得るのに時間がかかつて作業性がよ
くないこと、塗膜が基板全体に形成されていないことか
ら基板全体に連続した磁性薄膜が形成された後でないと
全体にバイアス電圧が作用することがないので、薄い場
合に磁性性能が劣る、再現性が悪いなどの欠点があった
。
ため必要な真空匠を得るのに時間がかかつて作業性がよ
くないこと、塗膜が基板全体に形成されていないことか
ら基板全体に連続した磁性薄膜が形成された後でないと
全体にバイアス電圧が作用することがないので、薄い場
合に磁性性能が劣る、再現性が悪いなどの欠点があった
。
本発明者らは鋭意研究の結果、上記の如き欠点の解決さ
れた記録媒体を見い出し、本発明を成すに至った。即ち
、本発明は透明基板の上に順に透明導電膜、磁性薄膜及
び必要に応じて保護膜を積層してなる光熱磁気記録媒体
を提供する。
れた記録媒体を見い出し、本発明を成すに至った。即ち
、本発明は透明基板の上に順に透明導電膜、磁性薄膜及
び必要に応じて保護膜を積層してなる光熱磁気記録媒体
を提供する。
以下、図面を引用して本発明の詳細な説明する。第１図
は本発明の記録媒体の一例を示す断面図であり、１は透
明基板で、これにはガラスまたはプラスチック例えばポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエス
テルで作られた円盤ｃガイド溝を有していてもよい）の
ような板状物またはロールに巻かれ得るフィルム状物が
使用される。
は本発明の記録媒体の一例を示す断面図であり、１は透
明基板で、これにはガラスまたはプラスチック例えばポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエス
テルで作られた円盤ｃガイド溝を有していてもよい）の
ような板状物またはロールに巻かれ得るフィルム状物が
使用される。
２は透明導電膜で、これには５ｎ０２ ％ Ｉｎ２Ｏ３
、Ｉ Ｔｏ （Ｉｎ２０３に５係程度の５ｎ０２を混入
したもの）、ＴｉＯなとの金属酸化物が使用される。こ
のような透明導電膜２は、真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング、ＣＶＤ、ＰＶＤなとの薄膜形成
技術により例えば１５〜２００ｎｍの膜厚に形成される
。透明導電膜２は一層の。
、Ｉ Ｔｏ （Ｉｎ２０３に５係程度の５ｎ０２を混入
したもの）、ＴｉＯなとの金属酸化物が使用される。こ
のような透明導電膜２は、真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング、ＣＶＤ、ＰＶＤなとの薄膜形成
技術により例えば１５〜２００ｎｍの膜厚に形成される
。透明導電膜２は一層の。
みからなる心安はなく、複層で構成されていてもよい。
また透明導電膜は、他の多層膜例えば多層反射防止膜や
誘電体多層高反射ミラー例えばレーザーミラー中に使用
される薄膜と兼用させてもよい。この兼用によりカー回
。
誘電体多層高反射ミラー例えばレーザーミラー中に使用
される薄膜と兼用させてもよい。この兼用によりカー回
。
転角を更に増大させる可能性がある。
３は垂直磁化膜で、これは既に知られているように膜面
に対して垂直磁化が可能な材料例えばＧｄ−Ｃｏ台金、
Ｇｄ−Ｃｏ−Ｂ１台金、 Ｇｄ−Ｃｏ−８ｉ台金、Ｇｄ
−Ｃｏ−Ｍｏ＠金、Ｇｄ Ｃｏ−Ａｕ ＠金など、。
に対して垂直磁化が可能な材料例えばＧｄ−Ｃｏ台金、
Ｇｄ−Ｃｏ−Ｂ１台金、 Ｇｄ−Ｃｏ−８ｉ台金、Ｇｄ
−Ｃｏ−Ｍｏ＠金、Ｇｄ Ｃｏ−Ａｕ ＠金など、。
が使用される。これらの磁性材料は、スパッタリング、
イオンブレーティング、イオンビーム蒸着、クラスタイ
オンビーム蒸着などのイオン化薄膜形成技術によって基
板ホルダーに直流バイアス電圧を印加しながら、透明導
電膜の上に例えば０．０１μｍ〜数μｍ の膜厚に形成
させる。これにより垂直磁化膜が生成する。
イオンブレーティング、イオンビーム蒸着、クラスタイ
オンビーム蒸着などのイオン化薄膜形成技術によって基
板ホルダーに直流バイアス電圧を印加しながら、透明導
電膜の上に例えば０．０１μｍ〜数μｍ の膜厚に形成
させる。これにより垂直磁化膜が生成する。
４は必要に応じてイＩＲ性材料の保護のために積層され
た透明保護膜で、これは例えば５ｉｎ２、ＳｉＯ、ＡＡ
２０３ 、ＺｒＯ２、Ｔｉ０２％ ＭｇＦ２ などが
使用される。磁性薄膜は例えば酸化され易い、傷がつく
といった欠点を有し、保護膜が必要なことが多い。この
ような透明保護膜４は、真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティングなどにより例えば数十〜数百ｎｍ
の膜厚に形成させる。
た透明保護膜で、これは例えば５ｉｎ２、ＳｉＯ、ＡＡ
２０３ 、ＺｒＯ２、Ｔｉ０２％ ＭｇＦ２ などが
使用される。磁性薄膜は例えば酸化され易い、傷がつく
といった欠点を有し、保護膜が必要なことが多い。この
ような透明保護膜４は、真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティングなどにより例えば数十〜数百ｎｍ
の膜厚に形成させる。
史に保護膜４の代りに反射防止膜（磁性膜側から書き込
み読み出しする場合）または反射膜（基板側から書き込
み読み出しする場合）を設けてもよい。
み読み出しする場合）または反射膜（基板側から書き込
み読み出しする場合）を設けてもよい。
こうして製造をれる本発明の光熱磁気記録媒体は、レー
ザー光の部分照射によって微小部分の磁性方向の反転を
図ることにより、０゜１信号の情報を記録させる（書き
込み）ことができ、また記録した０、１信号は偏光入射
光の反射光又は透過光の偏光面の回転角を調べることに
より検知（読み出し）される。
ザー光の部分照射によって微小部分の磁性方向の反転を
図ることにより、０゜１信号の情報を記録させる（書き
込み）ことができ、また記録した０、１信号は偏光入射
光の反射光又は透過光の偏光面の回転角を調べることに
より検知（読み出し）される。
従って、本発明の記録媒体はビデオディスク、オーディ
オディスク、ビデオテープ、オーディオテープ、フロッ
ピーディスク、ホログラフィ−メモリー媒体などに応用
可能である。
オディスク、ビデオテープ、オーディオテープ、フロッ
ピーディスク、ホログラフィ−メモリー媒体などに応用
可能である。
次いで実施例により本発明を具体的に説明する。第２図
は本実施例に用いた高周波スパッタリング装置の断面を
示す概念図であり、各記号（ａ）〜（ｊ）は次のものを
示ｆ。
は本実施例に用いた高周波スパッタリング装置の断面を
示す概念図であり、各記号（ａ）〜（ｊ）は次のものを
示ｆ。
ａ：Ｄｃバイアス電源、 ｂ＝基板ホルダー（：基板、
ｄ：シャッター板ｅ：Ｇｄターゲット、
ｆ：ｃｏターゲットｇ：ターゲット電極、 ｈ
：シールド板、１：高周波電源、 Ｊ：真空槽 まず、厚さ１喘長さ７６喘巾２６咽のカラス板を用意し
、この上に常法により透明導電膜として厚さｌ ００
ｎｍ シート抵抗値１００〜５００ΩのＩｎ２Ｏ３膜を
形成させる。得られた基板を第２−に示す装置のステン
レススチール製基板ホルダーｂに装着し、ホルダーｂと
透明導電膜とを接触状態にする。
ｄ：シャッター板ｅ：Ｇｄターゲット、
ｆ：ｃｏターゲットｇ：ターゲット電極、 ｈ
：シールド板、１：高周波電源、 Ｊ：真空槽 まず、厚さ１喘長さ７６喘巾２６咽のカラス板を用意し
、この上に常法により透明導電膜として厚さｌ ００
ｎｍ シート抵抗値１００〜５００ΩのＩｎ２Ｏ３膜を
形成させる。得られた基板を第２−に示す装置のステン
レススチール製基板ホルダーｂに装着し、ホルダーｂと
透明導電膜とを接触状態にする。
真空槽Ｊ内を１０ Ｔｏｒｒ、以下に排気した後、純
Ａｒガスを導入し真空度を１０ 〜１０ Ｔｏｒｒに
保ちながら、ターゲットｅ、ｆの表面を清浄に′１−る
ためシせツタ−ｄを閉じたまま数分〜数十分程度のプレ
スパックリングラ行すう。
Ａｒガスを導入し真空度を１０ 〜１０ Ｔｏｒｒに
保ちながら、ターゲットｅ、ｆの表面を清浄に′１−る
ためシせツタ−ｄを閉じたまま数分〜数十分程度のプレ
スパックリングラ行すう。
次いでシャッターｄを開いて基板Ｃ上に非晶質Ｇｄ Ｃ
ｏ膜を形成させるが、このＧｄ Ｃｏ膜の形成時に、Ｄ
Ｃバイアス電電源圧よりホルダーｂを通じて基板Ｃにバ
イアス電圧を印加する。
ｏ膜を形成させるが、このＧｄ Ｃｏ膜の形成時に、Ｄ
Ｃバイアス電電源圧よりホルダーｂを通じて基板Ｃにバ
イアス電圧を印加する。
こうして得られた本発明の記録媒体の極力−効果の付性
グラフを第３図（イ）〜因に示す。
グラフを第３図（イ）〜因に示す。
縦方向は出プハ横方向は印加した磁界の太き な
おちさ、ボルト（Ｖ）数はバイアス電圧の大きさを表
１μｌＬり＾わす。第３図に於いて角形ヒステリシス
を示 しても、す図に）〜因の場合には垂直磁化膜が
生成して く技術＆；いることが判る１、
で有用１第４図は、−７０Ｖの
バイアス電圧を印加 められシしながら形成された先
の実施例（第３図（へ）参 ４・図面のか照）の記録媒
体に磁性薄膜側から偏光を照射 第１しした場合の
極力−効果特性グラフ〔第４図（イ）〕 示す断ｍと
基板側から偏光を照射した場合のそれ〔第 第２１
２４図（ロ）〕である。両図の比較によって、裏面
ル１７） Ｋ （Ｑ（基板側）から入射した方が極力−
効果が犬 ノＩＩＲ面ちきく現われ、従って導電膜が
透明であること ＠３１２の利点が理解されよう
。 極カーダ以上のとおり、本
発明によれば、磁性薄膜 第４１ンの積層時に基板
に有効に磁性薄膜を形成する る０ことができ、作業
性もよく、また記録媒体を 〔主要衿考えてみると裏
面からのレーザー光による書 １−°一基板にバ
イアス電圧を印加する他の −えばＴｉＮ薄膜や５ｉ０２薄膜の形成に際基板の上に
透明導電膜を形成してお り、バイアス電圧を有効に印加する上 ２あり、それにより薄膜の付着力が強 ）０ １単な説明 １は本発明にかかる記録媒体の一例を ｊ図である。
おちさ、ボルト（Ｖ）数はバイアス電圧の大きさを表
１μｌＬり＾わす。第３図に於いて角形ヒステリシス
を示 しても、す図に）〜因の場合には垂直磁化膜が
生成して く技術＆；いることが判る１、
で有用１第４図は、−７０Ｖの
バイアス電圧を印加 められシしながら形成された先
の実施例（第３図（へ）参 ４・図面のか照）の記録媒
体に磁性薄膜側から偏光を照射 第１しした場合の
極力−効果特性グラフ〔第４図（イ）〕 示す断ｍと
基板側から偏光を照射した場合のそれ〔第 第２１
２４図（ロ）〕である。両図の比較によって、裏面
ル１７） Ｋ （Ｑ（基板側）から入射した方が極力−
効果が犬 ノＩＩＲ面ちきく現われ、従って導電膜が
透明であること ＠３１２の利点が理解されよう
。 極カーダ以上のとおり、本
発明によれば、磁性薄膜 第４１ンの積層時に基板
に有効に磁性薄膜を形成する る０ことができ、作業
性もよく、また記録媒体を 〔主要衿考えてみると裏
面からのレーザー光による書 １−°一基板にバ
イアス電圧を印加する他の −えばＴｉＮ薄膜や５ｉ０２薄膜の形成に際基板の上に
透明導電膜を形成してお り、バイアス電圧を有効に印加する上 ２あり、それにより薄膜の付着力が強 ）０ １単な説明 １は本発明にかかる記録媒体の一例を ｊ図である。
１は本発明にかかる記録媒体を製造す
ワ用される高周波スパッタリング装置
ビ示す概念図である。
１は実１＋ｆｌｊ例で得られた各種記録媒体の１１果を
示す特性グラフである。
示す特性グラフである。
１も極力−効果を示す特性グラフであ
じ分の符号の説明〕
・透明基板
３・・・・・・磁性薄膜
４・・・・・・透明保護膜
出願人：桜 井 良 文
日本光学工業株式会社
オ １図
′：：Ａ−２因
第３図
Claims (1)
- 透明基板の上に順に透明導電膜、垂直磁化膜及び必要に
応じて保護膜を積層したことを５特徴とする光熱磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9690282A JPS58215744A (ja) | 1982-06-08 | 1982-06-08 | 光熱磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9690282A JPS58215744A (ja) | 1982-06-08 | 1982-06-08 | 光熱磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58215744A true JPS58215744A (ja) | 1983-12-15 |
Family
ID=14177297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9690282A Pending JPS58215744A (ja) | 1982-06-08 | 1982-06-08 | 光熱磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58215744A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60229257A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-11-14 | シ−・アイ・アイ・ハネウエル・ブル | 多層磁気記録媒体 |
| JPS6331049A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体の製造方法 |
| JPS63149847A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光磁気記録媒体 |
| JPS63266651A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-11-02 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5098761A (en) * | 1989-01-09 | 1992-03-24 | Toray Industries, Inc. | Optical recording medium |
| US5512364A (en) * | 1986-05-14 | 1996-04-30 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
| US5695866A (en) * | 1991-11-07 | 1997-12-09 | Toray Industries Inc. | Optical recording medium |
-
1982
- 1982-06-08 JP JP9690282A patent/JPS58215744A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60229257A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-11-14 | シ−・アイ・アイ・ハネウエル・ブル | 多層磁気記録媒体 |
| US5512364A (en) * | 1986-05-14 | 1996-04-30 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
| JPS6331049A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体の製造方法 |
| JPS63149847A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光磁気記録媒体 |
| JPS63266651A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-11-02 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5098761A (en) * | 1989-01-09 | 1992-03-24 | Toray Industries, Inc. | Optical recording medium |
| US5695866A (en) * | 1991-11-07 | 1997-12-09 | Toray Industries Inc. | Optical recording medium |
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