JPS63311343A - フオートレジスト及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、フォートレゾスト及びその製造法に関する。

従来の技術 常用のフォートレジスト、例えば米国特許第３６６６４
７３号明細書、第４１１５１２８号明細書及び第４１７
３４７０号明細書に記載のフォーｉ・レジストを製造す
ることは公知である。これらは、アルカリに可溶のフェ
ノール／ホルムアルデヒドノボラク樹脂を、感光性物質
、通常は置換されているナフトキノンジアジド化合物と
一緒に含有している。樹脂及びセンシタイず−は有機溶
剤又は溶剤混合物に溶解し、個々の所望の使用に適当な
基体に薄いフィルム又は塗膜として使用する。

このフォートレジストのノボラク樹脂成分はアルカリ性
水溶液に可溶であるが、ナフトキノンセンシタイザ−は
不溶である。しかしながら、塗布基体の選択帯域を化学
線放射に露光すると、センシタイブ−は化学変化をうけ
、塗膜の露光帯域は非露光帯域よりも溶解する。溶解度
のこの差異は、基体をアルカリ性現像液に浸漬すると、
フォートレジスト塗膜の露光帯域を溶解するが、非露光
帯域は全く影響を受けず、このようにして基体にいわゆ
るポジのレリーフが生じる。

多くの工業的使用、特に電子小部品の製造では、フォー
トレジストは極めて小さい線及び間隔の巾（１ミクロン
又はこれ以下の大きさ）の高度の解像度を得るために必
要である。

著しく小さい大きさを再現するレジストの能力は、シリ
コンチップス及び類似成分で大規模の集積回路の製造で
極めて重要である。かＳるチップスの回路の密度は、同
じフォート平版技術を使用すると、レジストの解像度の
能力を増大して大きくすることができるのに過ぎない。

現像のコントラストは、種々の露光量の後に存在するフ
ィルムの厚さ対露光量の対数の線状プロットの勾配に関
する。

レジストの解像度は、定型的には最も細かい同間隔の１
対の線及び露光の間に利用するマスクの介在間隔に関し
、露光及び現像したフォートレジストで高度の画像端の
鋭敏性で再生することができる。

ＶＬＳＩ基体で集積回路を得るためには、細かい幾何学
形及び改良された材料が必要である。

本発明の方法は、常用のフォートレジストの上部への特
別のコントラスト増強層の使用である。

レジストの露光に使用され、マスク及びレジストに通る
光の回折は、該レジストで得ることのできる解像度及び
コントラストが減少する場合に重要な役目をする。これ
は、印刷すべき回路成分の大きさが減少するのでますま
す重要になる。ヨーロッパ特許第０１１０１６５号明細
書には、コントラストはベーキングフシストの上部にコ
ントラスト増強液（ＣＥＬ　）の層を回転塗布して著し
く改良することができることが記載されている。ＣＥＬ
は光漂白染料を含有し、この染料は同じ波長又は下部に
存在するレジストを露光するのに使用した光の波長で光
を分解する。

実際上コントラスト増強層によって空中画像の解像度が
改良され、これによって下部レジストのコントラストが
改良される。それ故ＣＥＬは光漂白染料紮含有し、この
染料はレジストを露光するのに使用した光を吸収し、Ｃ
ＥＬの漂白後に、ＣＥＬの露光帯域はできるだけ透明で
なければならないので、光は実際に下に存在するフォー
トレジストのセンシタイず−を分解することができる。

ＣＥＬ中の染料の洋白割合は、フォートレジストのセン
シタイブ−の割合と同じであるか又はこれよりも遅くな
ければならない。つまり、フィルムの光学密度はできる
だけ大きくなけれはならない。

コントラスト増強層は、ＣＥＬを有しないで得られた同
じ画像と比較される得られた画像のコントラストを増強
するのが所望される。更に焦点の深さを維持するため円
は、できるだけ薄い層を使用するのが所望される。好ま
しくはＣＥＬ組成物は、十分に長い保存安定性並びにレ
ジスト上に回転塗布する場合に数時間の安定性を有する
。組成物の溶剤系及び層の除去溶剤は、環境上汚染され
てはならない。更に下部にあるフォートレジストの組成
と混合する中間層が存在してはならない。

ヨーロッパ特許第０１１０１６号明細書には、環境上汚
染する有機溶剤にだけ可溶のポリマー結合剤を有する光
漂白染料としてのアリールニトロンが記載されている。

その後環境上の問題に対する解決は、Ｌ、Ｆ、　Ｈａｌ
ｌｅ著、　Ａ　ＷａｔｅｒＳｏｌｕｂｌｅ　Ｃｏｎｔｒ
ａｓｔ　Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ　Ｌａｙｅｒ　。

Ｊｏｕｒｎａｌ　Ｏｆ　Ｖａｃｕｕｍ　５ｃｉｅｎｃｅ
　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第Ｂ３（１）巻、１月７２月
、１９８５年によって提案された。提案は億酸ジフェニ
ルアミンーｐ−ジアゾニウム、ポリビニルアルコール、
水及びマレイン酸のコントラスト増強層を使用すること
であった。同じようにして、ヨーロッパ特許第０１６１
６６０号明細書では、ジアゾニウム塩、結合樹脂、水及
びＣＥＬ中のジアゾニウム塩の溶解度を高め、フィルム
でジアゾニウム塩とフェノール成分とのカップリングを
妨げる酸成分が使用される。

水を基質とするＣＥＬは環境上認容され、レジストと混
合する中間層を避ける。

しかしながら、これらの水を基質とするジアゾニウム塩
系は、そのような状態ではない不十分な溶解性のジアゾ
ニウム塩の溶解度を高め、ジアゾニウム塩のカップリン
グを妨げるためには、酸性化合物の添加を必要とする。

ヨーロッパ特許第０１６１６６０号明細書のジアゾニウ
ム塩の溶解度を高めるためには、殆んど等モル量の、例
えばｐ−１ルエンスルホン酸が存在することが必要であ
る。

発明が解決しようとする課題 本発明によって、か＼る大量のかＳる酸性添加剤を使用
しないで高められた溶解度及びコントラストが得られる
。かぎる添加剤を有しないで、著しく薄いＣＥＬフィル
ムを使用して、同じ光学密度のフィルムを得ることがで
き、コントラストの改良を有する。薄いＣＥＬフィルム
が有利である。それというのも十分々解像度を得るため
に、大きい口径のレンズを光学露光装置に使用する場合
には、画像で複写に利用する焦点の深さはだんだん小さ
くなるからである。薄いＣＥＬフィルムによって、薄い
レジストフィルムを作ることができる。更に、酸性添加
剤を配合しないでジアゾニウム塩の長い保存性が有利で
ある。

課題を解決するための手段 本発明によって、基体、基体上に第１の感光＆（この第
１の感光層は感光性ｏ−キノンダアジドを、層を感光性
にし、画像に応じた層の露光及び現像で画像の差異をも
たらすのに十分な量で含有する）、ノボラク及びポリビ
ニルフェノールからなる群から選ばれ、前記層を結合し
て均一なフィルムにするのに十分な量の樹脂中くとも１
種、第１の感光層に第２の感光層（この第２の感光層は
光を漂白する水溶性ジアゾニウム塩を、化学線放射に露
光すると漂白された画像の差異をもたらすのに十分な量
で含有する）及び第２の感光層を結合して均一なフィル
ムに丁Ａのに十分な量の強酸性水溶性フィルム形成ポリ
マー樹脂を有するフォートレジストが得られる。

更に本発明によって、画像を有するフォートレジストの
製造法が得られ、この方法は、基体に第１の感光層（こ
の第１の感光層は、感光性ｏ−キノンダアジドを、層を
感光性、にし、画像に応じた層の露光及び現像で画像の
差異をもたらすのに十分な量で含有する）及びノボラク
及びポリビニルフェノールからなる群から選ばれ、前記
層を結合して均一なフィルムにするのに十分な量の樹脂
中くとも１種を塗布し、第１の感光層に第２の感光層（
この第２の感光層は光を漂白する水溶性シアｒニウム塩
を、化学線放射に露光すると漂白された画像の差異をも
たらすのに十分な量で含有する）及び第２の感光層を結
合して均一なフィルムにするのに十分な量の惜敗性水溶
性フィルム形成ポリマーを塗布し、フォートレジストを
十分な化学線放射に露光して第２の感光層を漂白し、か
＼る漂白部分を化学線放射に透過させ、その際非露光部
分は化学線放射に透過しないで残留し、漂白部分下に存
在する第１の感光層を化学線放射で露光し、次いで第２
の全感光層を除去し、第１の感光層を現像することを特
徴とする。

前述のように、フォートレジストは基体及びこの上に第
１及び第２の感光層を有する。基体は、第１及び第２の
感光層を有するのに適当な任意の面であってもよい。し
かしながら好ましい実施形式では基体は珪素、アルミニ
ウム、ポリマー樹脂、二酸化珪素、ドープ塗布二酸化珪
素、窒化珪素、タンタル、銅、ポリシリコン、セラミッ
クス及びアルミニウム／銅混合物、砒素ガリウム及び他
の璽／■族の化合物からなる群から選んだ成分１種又は
数徨からなる。

基体は適当な組成物、例えばヘキサーアルキルジシラデ
ンを含有する接着捉進層を有していてもよい。基体上に
は、第１の感光膚が存在し、これはフォートレジスト組
成物である。好ましい実施形式では、この組成物は、ノ
ボラク又はポリビニルフェノール樹脂、殊にクレゾール
−ホルムアルデヒド−ノボラク樹脂と混合した公知ｏ−
キノンダアジドセンシタイブ−からなる。

この組成物は適当な溶剤を配合し、基体に塗布し、べと
つかなくなるまで乾燥する。

感光組成物を製造するのに使用することのできるノボラ
ク樹脂の製造は公知である。その製造法は、Ｃｈｅｍｊ
ｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ａｐｐｌｉｃａｔｊｏｎ　ｏｆ　Ｐ
ｈｅ−ｎＯｌｉＣＲｅ５ｉｎｓ　、　Ｋｎｏｐ　Ａ、　
７）び５ｃｈｅ１ｂ　＊　Ｗ−；Ｓｐｒｉｎｇｅｒ版、
二ニー・ヨーク、（１９７９年）、第４章。同じように
して、ｏ−キノンダアジドの使用は公知であＦ）、Ｌｉ
ｇｋｈｔ　ＳｅｎｓｉｔｉｖｅＳｙＳｔ８ｍ１３＋　Ｋ
ｏｓａｒ、　Ｊ−Ｉ　ＪＯｈｎ　Ｖ９’ｌＮｅ”　ｋ　
５ｏｎｓ版。

二ニー・ヨーク、（１９６５年）第７．４章に記載され
ている。本発明の紫外線レジスト組成物の成分を含有す
るこのセンシタイブ−は、通常ポジのフォートレジスト
で使用される置換されているナフトキノンジアジド群か
ら選ばれる。

か５るセンシタイジング化合物は、例えば米国特許２７
９７２１３号、第３１０６４６５号、第６１４８９８３
号、第３１３００４７号、第３２０１３２９号、第３７
８５８２５号及び第３８０２８８５号明細書に記載され
ている。

有用なセンシタイブ−は、フェノール化合物、例えばヒ
ドロキシベンゾフェノン、殊にトリヒドロキシベンゾフ
ェノン又はヒドロキシアルキルフェノンと縮合したナフ
トキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホニルクロ
リド及びナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−ス
ルホニルクロリドである。特に好ましいのは、ナフトキ
ノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホニルクロリド
とトリヒドロキシベンゾフェノン、殊に２．３．４−ト
リヒドロキシ−ベンゾフェノンとの縮合物である。

好ましい実施形式では、フォートレジスト組成物の固体
部、即ちノボラク及びジアジドは好ましくはノポラク樹
脂約１５〜９９重嚢多及びキノンジアジド約１〜８５Ｘ
ｉ１％である。更に好ましいノボラク樹脂の範囲は、固
体レジスト部の約５０〜９０重嚢多、最も好ま１・くは
約６５〜９０重嚢多である。ジアジドの更に好ましい範
囲は、固体レジスト部の約１０〜５０重嚢多、最も好ま
しくは約１０〜３５重嚢多である。

溶剤の選択は塗布法、所望の塗膜の厚さ及び乾燥条件に
よる。本発明の組成物の適当な溶剤はエーテル（例えは
テトラヒドロフラン）アルコール（例、ｔｉ！’　ｎ　
−ｆロバノール）、アルコール−エーテル（例、ｔばエ
チレングリコールモノエチルエーテル）、エステル（例
えば酢酸ジチル）、芳香族又は脂肪族炭化水素であるか
又は溶剤混合物を使用してもよい。原則として、塗膜数
分と逆に反応しないすべての溶剤を使用することができ
る。グリコールの部分エーテル、殊ニエチレン又バクロ
ｔレンゲリコールモノエチルエーテル又はそのエステル
が特に好ましい。

好ましい溶剤組成物は、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートからなる。溶剤はキシレン、酢酸
ブチル及び酢酸セルロースを含有していてもよい。

添加剤、例えば層色剤、染料、抗しわ剤、可塑剤、接着
促進剤、速度増大剤、溶剤及び界面活性剤、例えば非イ
オン性界面活性剤を樹脂センシタイブ−溶液に添加して
もよく、溶液の前に酢酸塩を基体に塗布する。

本発明のフォートレジスト組成物と一緒に使用すること
のできる染料添加剤の例は、ノボラクとセンシタイず−
との合したｉｌｌに対して１〜１０Ｘｉ−係のメチルバ
イオレット２　Ｂ　（Ｃ’、工。

４２５３５）、クリスタルバイオレット（Ｃ，Ｉ。

４２５５５Ｌ　マラシトグリーン（ｃ、１．４２０００
）、ビクトリアブルーＢ（Ｃ，１，４４０４５）及びニ
ュートラルレッド（Ｃ，１，５００４０）である。染料
添加剤によって、基体の光の分散が抑制されて増大した
解像度が得られる。

抗しわ剤は、ノボラクとセンシタイブ−との合した重量
に対して５重量％まで使用してもよい。

可塑剤は、例えば燐酸トリー（β−クロルエチル）−エ
ステル、ステアリン酸、ジカムホル（ｄｊｃａｍｐｈｏ
ｒ　）　、ポリプロぎレン、アセタール樹脂、フェノキ
シ樹脂及びアルキル樹脂（ノボラクとセンシタイダーと
の合した重量に対して１〜１０重量％）である。可塑剤
によって材料の塗布性が改良され、基体に対してスムー
スで均一な厚さのフィルムの使用か可能になる。

接着促進剤は、例えばβ−（３，４−エポキシ−シクロ
ヘキシル）−二チルトリメトキシシラン、ｐ−メチルジ
シラン−メチルメタクリレート、ビニルトリクロルシラ
ン、及びγ−アミノープロピルトリエトキシシラン（ノ
ボラクとセンシタイブ−との合した重量に対して４重量
％まで）である。

速度増大剤は、例えばピクリン酸、ニコチン酸及びニト
ロけい皮酸（ノボラクとセンシタイブ−との合した重量
に対して２ＯＮ量％まで）である。この増大剤は、雨露
光及び非露光帯域のフォートレジスト塗膜の溶解度を高
める。このようにしてこの増大剤は、現像速度が圧倒す
る場合には成る程度のコントラストをぎせいにしてさえ
も使用される。即ちフォートレゾスト塗膜の露光帯域が
現像剤によって迅速に溶解すると共に、速度増大剤は非
露光帯域からフォートレジスト塗膜の大きいロスを生せ
しめる。

非イオン性界面活性剤は、例えばノニルフェノキシポリ
（エチレンオキシ）エタノール、オクチルフェノキシ（
エチレンオキシ）エタノール及びジノニルフェノキシポ
リ（エチレンオキシ）エタノール（ノボラクとセンシタ
イヂーとの合したＮ量に対して１０１量係まで）である
。

製造したレジスト溶液は、基体に浸漬、スプル−及び回
転塗布を含む常用の方法で使用することができる。回転
塗布の場合には、例えばレジスト溶液を固体含量の係に
関して調整して、回転塗布法に使用した回転塗布装置の
型及び時間によって所望の厚さの塗膜を得ることができ
る。

レジスト組成物の溶液を基体に塗布した後に、基体は、
約８０〜１０５℃で溶剤全部が蒸発し、フォートレジス
トのミクロンの淳さの薄い塗膜が参体上に残留するのに
過ぎないまでベーキングする。

次いでこのフォートレジスト層に、水溶性光漂白ジアゾ
ニウム塩及び強酸性ポリマー結合剤を含有するコントラ
スト増強剤の第２の感光層全使用し、これによって溶液
中及びフィルムとしてのジアゾニウム塩の増大した溶解
性及び安定性が得られる。系は水中で一緒にブレンドす
る。

適当な水溶性ジアゾニウム塩は公知である。

か＼るジアゾニウム塩の例は、Ｊ、　Ｋｏｓａｒ　：”
　Ｌｉｇｈｔ　５ｅｎｓｊ、ｔｊｖｅ　Ｓｙｓｔｅｍｓ
”（１９６５年）、Ｊｏｗｉｌｅｙ　５ｏｎｓ社版、二
ニー・ヨーク）、第１９４員、及びＭ、Ｓ、　Ｄｉｎａ
ｂｕｒｇ　：’　Ｐｈ０ｔｏｓｅｎ−８ｊ　ｔｊｖｅ　
Ｄｉａｚｏ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　ａｎｄ　Ｔｈｅｊｒ
　Ｕｓｅｓ”（１９６４年、　Ｔｈｅ　Ｆｏｃａｌ　Ｐ
ｒｅｓｓ社版）に記載されている。通常ジアゾニウム塩
の量は、層の固体成分の重量に対して約５０〜９０！量
係、好ましくは約５０〜９０！量係である。層中の強酸
のポリマーの量は、通常層の固体成分の重量に対して約
５０〜９０！量係、好ましくは約６０〜５ｏｘｉ係であ
る。

多くの系では、ジアゾニウム塩と中性−のポリマー結合
剤との水溶液は、極めて不安定である。中性−の多くの
ポリマーに対しては、ジアゾニウム塩の溶解性及び安定
性は極めて不十分である。更に、通常塩基性媒体はジア
ゾニウム塩を不安定にする。それ故、塩基性ポリマーは
有用ではない。付加的に、弱酸性ポリマーでさえも本発
明に対しては有用ではないが、強酸性ポリマーは有用で
あることが判明した。一般にかぎるポリマーは、水中で
一約１又はこれ以下を有するポリマーである。

強酸性ポリマーの官能基の例は、−８ｏ３Ｈ及び−０３
Ｏ３Ｈである。ポリマーはポリスチレンスルホン酸、ポ
リエチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸及ヒポリ
ビニルフェニルスルホン酸である。ポリスチレンスルホ
ン酸が好ましいポ。

リマーである。ビニルスルホン酸又はスチレンスルホン
酸のコーポリマーを製造し、使用することもできる。

界面活性剤、脱泡剤及び他の物質のような添加剤を添加
して、ＣＥＬフィルムの塗膜特性を改良してもよい。

ポリマースルホン酸が、薄フィルムを形成する結合剤と
して及びジアゾニウム塩の安定剤として役立つことは、
等モルのモノマーアリールスルホン酸に対する使用よシ
も有利である。それというのも第１に該ポリマースルホ
ン酸はＣＥＬフィルムの厚さの吸収を弱め、第２に一定
のジアゾニウム塩の塩析が阻止されるからである。

約０．５μｍの薄フィルムはフォートレジストの上部に
回転被覆して、増強コントラストが得られ、常用のＣＥ
Ｌとして有効に作用することができる。ジアゾニウム塩
の濃度が大きいと、それだけＣＥＬ層は薄く使用するこ
とができる。組成物（水にとかした２種の官能成分に過
ぎない）の簡易性によって、製造及び品質を調整するの
が容易になり、ＣＥＬの利点が得られる。このＣＥＬ鳥
は空気乾燥するか又は高温度でベーキングして、ＣＥＬ
の固体成分を減成しないで水を除去する。次いでこの２
レベル系を、画像に応じてＣＲＴ、を通してフォートレ
ジストに露光する。更にＣＥＬ層は、水洗するか又は続
く現隊工程で除去する。下部のフォートレジストは適当
な塊像剤、例えば公知アルカリ性現像液で机像する。

２Ｍ桶な１つの現捷剤ｉ、ＡＺ　Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ（
Ｈｏｅｃｈｓｔ　Ｃｅ１ａｎｅｓｅ　Ｃｏｒｐｏｒａｔ
ｉｏｎ社製、二ニー・ジャージ在〕である。

フォートレジストは常用の化学線放射、殊に紫外線帯域
の放射に露光する。１つの波長だけの放射で露光するこ
とも可能である。

実際にＣＥＬは露光工程で漂白し、露光部分で透明にな
る。化学線放射はこの透明部分を通気下のフォートレジ
ストを露光する。非露光部分は光の放射の透過をしゃ断
し、このように画像に応じた差異が得られる。好ましく
はＣＥＬは、露光に使用した光の波長の非露光帯域で１
０％以下の透過率を有する。一般に、ｏ−キノンダアジ
ドフォートセンシタイブ−の使用によってポジの作用系
が得ら扛るが、本発明はこのように限定する意図はない
。更に本発明はいわゆる画像の反転法を包含し、フォー
トレジスト組成物への適当な添加及び／又は付加的処理
法によって、ｏ−キノンダアジド層によってネガの画像
を得ることもできる。か＼る方法は、架橋化合物、例え
ばジメチロールパラクレゾールをフォートレジスト層に
添加して得られる。

実施例 例　　１ 次のポジのフォートレジストを製造する：融点１０５〜
１２０°Ｃを有す　　２４．４Ｗ肩るクレゾールノボラ
ク樹脂 ２．３．４−１　リヒドローキシ７，５Ｗ／Ｗ％−ベン
ゾフェノンと１．２−ナ フトキノンー２−アジド−５− スルホニルクロリドとの縮合物 からなるフォートセンシタイブ プロピレングリコールメチル　　６８．１　Ｗ／Ｗ％エ
ーテルアセテート 前記レゾストを回転塗布し、対流炉中で９０′Ｃで６０
分間ベーキングすると、１．８μｍのフィルム塗膜が得
られる。このレジストのコントラストを、フィルムを、
段階のある公知光学密腿のガラスマスクを通して露光し
て測定する。露光機はＰｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ　Ｍｉ
ｃｒｏａｌｉｇｎ　２２　ｌであり、これは広いバンド
の照明を有する。レジストフィルムを、次の組成からな
る０、２８　Ｎの現像液で６０秒間机偉才る： メタ珪酸ナトリウムｘ　９　Ｈ２Ｏ５，３，９燐酸三ナ
トリウＡ　Ｘ　１２　Ｈ２Ｏ３，４ｇ燐酸二水素ナトリ
ウム　　　　　　　　０．３ｇ水　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　９１　　＆現像後に残留
し公知量の露光量を有するフィルムの厚さを測定する。

露光量の対数に対するフィルムの厚さのプロットの勾配
が、レジストのコントラストである。この条件下に、コ
ントラスト３．１が得られる。

例　　２ 次のＣＥＬを処方する： ポリスチレンスルホン［（１５１２０９％の水溶液） 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０
．９イソグロパノール　　　　　　　　６１ジフェニル
アミンｐ−ジアゾ　　１５７ＦＷモルニウムクロリド 例１のレジストを回転塗布し、対流炉中で９０°Ｃで３
０分間ベーキングすると、１．８μｍのフィルム塗膜が
得られる。前記ＣＥＬ処方物をポジのレジストに回転塗
布すると、０．６ｊｕｎのＣＥＬフィルムが得られる。

ビレベル系を、段階を有する公知光学密度のガラスマス
クを通して露光する。露光機は、広いバンドの照明を有
するＰｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ　Ｍｊｃｒｏａ’ｌｉｇ
ｎ　２２　ｌである。

ＣＥＬ　７　イルムラ水洗し、レジストフィルムを、０
．２８　ＮのＡＺ　　３５１現像剤で６０秒間現像する
。現像後に残留し公知量の露光量を有するフィルムの淳
さを測定する。露光量の対数に対するフィルムの厚さの
プロットの勾配か、レジストのコントラストである。こ
の条件下にコントラスト７．５が得られる。

例　　６ 次のＣＥＬを処方する： ポリスチレンスルホン酸（１５１２０、！７係の水溶液
） 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０
　ｇインプロパツール　　　　　　　　　３９３−メチ
ル−４−ピロリジノ　　１５７ｍモルベンゼンｐ−ジア
ゾニウムクロ リド亜鉛クロリド−水和物 例２と同じ方法を行なう。コントラスト５．８が得られ
る。

例　　４ 次のＣＥＬを処方する： ポリスチレンスルホン酸（１５１２０１１係の水溶液） 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０
　ｇインプロパツール　　　　　　　　３９２．５−ジ
ェトキシ−４−モ　　１３８ｍモルルホリノベンゼンジ
ア・ｌニウム フルオルボレート 例２と同じ方法を行なう。コントラスト５．８が得られ
る。

コントラストの増大は、本発明の処方物を使用して得ら
れるのを認めることができる。コントラストの正確な値
及び光に対するその感光度は、特別のジアゾニウムの吸
収と露光の光との相応する組合せによる。光の単波長を
使用してＣＥＬ　ｔｌ−露光することもできる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体、基体上に第１の感光層（この第１の感光層は
   感光性ｏ−キノンジアジドを、層を感光性にし、画像に
   応じた層の露光及び現像で画像の差異をもたらすのに十
   分な量で含有する）、ノボラク及びポリビニルフェノー
   ルからなる群から選ばれ、前記層を結合して均一なフィ
   ルムにするのに十分な量の樹脂少くとも１種、第１の感
   光層に第２の感光層（この第２の感光層は光を漂白する
   水溶性ジアゾニウム塩を、化学線放射に露光すると漂白
   された画像の差異をもたらすのに十分な量で含有する）
   及び第２の感光層を結合して均一なフィルムにするのに
   十分な量の強酸性水溶性フィルム形成ポリマー樹脂を有
   するフォートレジスト。 ２、基体は珪素、アルミニウム、ポリマー樹脂、二酸化
   珪素、ドープ塗布二酸化珪素、窒化珪素、タンタル、銅
   、ポリシリコン、セラミックス及びアルミニウム／銅混
   合物、砒化ガリウム及びIII／Ｖ族の化合物からなる群
   から選んだ成分１種又は数種からなる請求項１記載のフ
   ォートレジスト。 ３、ノボラクは、クレゾール／ホルムアルデヒドノボラ
   ク樹脂である請求項１記載のフォートレジスト。 ４、ジアジドは、ヒドロキシベンゾフェノン又はヒドロ
   キシアルキルフェノンと結合したナフトキノン−（１，
   ２）−ジアジド−４又は５−スルホニルクロリドである
   請求項１記載のフォートレジスト。 ５、ジアジドは、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
   −５−スルホニルクロリドとトリヒドロキシベンゾフェ
   ノンとの縮合生成物である請求項１記載のフォートレジ
   スト。 ６、第１の感光層は、更に着色剤、抗しわ剤、可塑剤、
   接着促進剤、速度増大剤、溶剤及び界面活性剤からなる
   群から選んだ添加剤１種又は数種を含有する請求項１記
   載のフォートレジスト。 ７、酸性樹脂は、ポリマーのスルホン酸である請求項１
   記載のフォートレジスト。 ８、スルホン酸は、ポリスチレンスルホン酸である請求
   項７記載のフォートレジスト。 ９、酸性樹脂は、ビニルスルホン酸又はスチレンスルホ
   ン酸を含有するコーポリマーである請求項７記載のフォ
   ートレジスト。 １０、ノボラクはクレゾールホルムアルデヒドノボラク
   樹脂であり、ジアジドは２，３，４−トリヒドロキシベ
   ンゾフェノンと縮合したナフトキノン−（１，２）−ジ
   アジド−４又は５−スルホニルクロリドである請求項１
   記載のフォートレジスト。 １１、第１の感光層は更に架橋化合物を含有し、第１の
   感光層の露光部は、露光すると架橋する請求項１記載の
   フォートレジスト。 １２、架橋化合物は、ジメチロールパラクレゾールであ
   る請求項１１記載のフォートレジスト。 １３、画像を有するフォートレジストを製造する方法に
   おいて、基体に第１の感光層（この第１の感光層は、感
   光性ｏ−キノンダアジドを、層を感光性にし、画像に応
   じた層の露光及び現像で画像の差異をもたらすのに十分
   な量で含有する）及びノボラク及びポリビニルフェノー
   ルからなる群から選ばれ、前記層を結合して均一なフィ
   ルムにするのに十分な量の樹脂少くとも１種を塗布し、
   第１の感光層に第２の感光層（この第２の感光層は光を
   漂白する水溶性ジアゾニウム塩を、化学線放射に露光す
   ると漂白された画像の差異をもたらすのに十分な量で含
   有する）及び第２の感光層を結合して均一なフィルムに
   するのに十分な量の強酸性水溶性フィルム形成ポリマー
   を塗布し、フォートレジストを十分な化学線放射に露光
   して第２の感光層を漂白し、かゝる漂白部分を化学線放
   射に透過させ、その際非露光部分は化学線放射に透過し
   ないで残留し、漂白部分下に存在する第１の感光層を化
   学線放射で露光し、次いで第２の全感光層を除去し、第
   １の感光層を現像することを特徴とする画像を有するフ
   ォートレジストの製造法。 １４、第２の感光層を、水又はアルカリ性水溶液で除去
   する請求項１３記載の方法。 １５、第１の感光層を、アルカリ性水溶液で現像する請
   求項１３記載の方法。 １６、化学線放射は、紫外線放射である請求項１３記載
   の方法。 １７、ノボラクは、クレゾールホルムアルデヒドノボラ
   ク樹脂である請求項１３記載の方法。 １８、ジアジドは、ヒドロキシベンゾフェノンと縮合し
   たナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４又は５−ス
   ルホニルクロリドである請求項１３記載の方法。 １９、酸性樹脂は、ポリスチレンスルホン酸である請求
   項１６記載の方法。 ２０、第１の感光層は架橋化合物を含有し、露光すると
   第１の感光層の露光部が架橋し、現像するとネガの画像
   が得られる請求項１６記載の方法。 ２１、架橋化合物は、ジメチロールパラクレゾールであ
   る請求項２０記載の方法。