JPS63308790A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS63308790A
JPS63308790A JP62145817A JP14581787A JPS63308790A JP S63308790 A JPS63308790 A JP S63308790A JP 62145817 A JP62145817 A JP 62145817A JP 14581787 A JP14581787 A JP 14581787A JP S63308790 A JPS63308790 A JP S63308790A
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JP
Japan
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potential
level
sense amplifier
drive signal
bit line
Prior art date
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Application number
JP62145817A
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English (en)
Inventor
Yasuharu Nagayama
長山 安治
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 この発明はダイナミック型の半導体記憶装置に関するも
のである。
[従来の技術] 1トランジスタ・1容量型ダイナミックRAMは、微細
化技術の進歩とともに、3年で4倍の高集積化が達成さ
れてきた。また、最近は、ダイナミックRAMの回路動
作を安定化させるために、0M03回路を周辺回路に用
いることが多く、高速化、低消費電力化が容易になって
きた。
第3図は、従来のCMOSダイナミックRAMのメモリ
セルおよびセンスアンプの構成を示す回路図である。
図において、複数本のワードIIWLと複数組のビット
線対BL、BLが直交して設けられている(第3図では
一本のワード線WLと1組のビット線対BL、BLだけ
を示している)。各ワード線WLとピット線BLおよび
BLとの各交点には、たとえば1つのMOSトランジス
タQ1とキャパシタC1とから構成されるメモリセルM
Cが配置されている。トランジスタQ1のソースはピッ
ト線BLまたはBLに接続され、ドレインはキャパシタ
C1に接続されている。また、トランジスタQ1のゲー
ト電極はワード線WLに接続され、このワードl1WL
にはXアドレスデコーダ(図示せず)によってワード線
駆動信号φ2が与えられる。
ヒツトIBL、BLflilにはN′f−tネルMOS
トランジスタQ2が接続されており、このトランジスタ
Q2のゲート電極にはプリチャージ信号φ。
が与えられる。
また、各ビット線対BL、8Lには、2つのPチャネル
M OS l−ランジスタQ3.Q4により構成される
PチャネルセンスアンプSPが接続されている。トラン
ジスタQ3のゲート電極とトランジスタQ4の一方導通
端子とはビットl1BLに接続され、トランジスタQ3
の一方導通端子とトランジスタQ4のゲート1!極とは
ビットmBLに接続されている。またトランジスタQ3
およびQ4の他方導通端子はPチャネルMOSトランジ
スタQ5を介しrlliVccに接続され、このトラン
ジスタQ5のゲート電極にはセンスアンプ駆動信号φ、
が与えられる。
さらに、ピット纏BL、BL間には、4つのNチャネル
MO8t−ランジスタQ6.Q7.Q9゜Q10により
構成されるNチャネルセンスアンプSNが接続されてい
る。トランジスタQ6のゲート電極とトランジスタQ7
の一方導通端子とはピット線BLに接続され、トランジ
スタQ6の一方導通端子とトランジスタQ7のゲート電
極とはビットl1lBLに接続されている。またトラン
ジスタQ6およびQlの他方導通端子はNチャネルMo
SトランジスタQ8を介して接地され、このトランジス
タQ8のゲート’Illにはセンスアンプ駆動信号φ、
が与えられる。さらにトランジスタQ6およびQlにN
チャネルMoSトランジスタQ9およびQ10がそれぞ
れ並列に接続され、これらのトランジスタQ9およびQ
10のゲート電極には上述したプリチャージ信号φ、が
与えられる。
各ごット1ilBL、BLはそれぞれNチャネルMoS
トランジスタQ11.Ql 2を介してそれぞれデータ
線I10.I10に接続され、これらのNチャネルMo
SトランジスタQ11.Ql2のゲート電極には、Yア
ドレスデコーダ(図示せず)によりコラム信号φ、が与
えられる。
次に、第3図の回路の動作を第4図のタイミングチャー
トを参照して説明する。
まず、プリチャージ信号φ、がrHJレベルからrLJ
レベルに立ち下がり、ピット線BL、BLが互いに同電
位のフローティング状態となる。
そして、Xアドレスデコーダにより選択されたワード線
WLのワード線駆動信号φ2が低レベルから高レベルに
立ち上がると、メモリセルMCのトランジスタQ1が導
通し、ノードNに書込まれていた2値情報(「H」レベ
ルまたは「L」レベル)によってビットA11BLの電
位が微小に変化する。
このビットIIIBLの電位は、ノードNの保持データ
がrHJレベルのときはわずかに(約200 ra■)
高くなり、ノードNの保持データがrLJレベルのとき
はわずかに(約200mV)低くなる。
一方、ビットl1lBLには選択されたメモリセルMC
が接続されていないので、電位変化は起こらない。ここ
では、メモリセルMCの保持データがrHJレベルであ
るとして説明する。ワード線駆動信号φ2の高レベルは
、メモリセルMCのrHJレベルのデータを十分に読出
すことができるように、VCC+2VT)lのレベルま
で昇圧されている。
なお、VCCは電源電位、VTMはトランジスタQ1の
しきい値電圧である。
次に、センスアンプ駆動信号φ、が「し」レベルからr
HJレベルに立ち上がり、NチャネルセンスアンプSN
が動作する。これにより、NチャネルセンスアンプSN
はビット線対BL、BL間の微小な電位差を増幅し、ビ
ット線対BL、BLのうち相対的に電位の低い側を接地
電位にまで放電させる。また、センスアンプ駆動信号φ
、がrHJレベルから「シ」レベルに立ち下がり、Pチ
ャネルセンスアンプSPが動作する。これにより、Pチ
ャネルセンスアンプSPはビット線対BL、BLのうち
電位の高い側を電源電位VCCにまで充電する。
さらに、Yアドレスデコーダによって選択されたコラム
信号φ、がrLJレベルからrHJレベルに変化すると
、トランジスタQ11およびQ12がオンし、ピット線
BL、BLがそれぞれデータ11!I10.Iloに接
続される。これにより、ピット線BL、BLの電源電位
VCCおよび接地電位がデータ111110.Iloに
伝達され、出力バッファ回路(図示せず)を通して出力
端子に導出される。このようにして、メモリセルMC内
の記憶情報が出力される。
その後、ワード線駆動信号φ2が高レベルから低レベル
に立ち下がると、メモリセルMCのトランジスタQ1が
オフし、メモリセルMCに記憶情報が再び保持される。
そして、センスアンプ駆動信号φ、がrLJレベルに変
化し、かつ、センスアンプ駆動信号φ4がrHJレベル
に変化することにより、トランジスタQ8およびQ5が
オフし、NチャネルセンスアンプSNおよびPチャネル
センスアンプSPが非活性状態となる。さらに、コラム
信号φ1がrHJレベルから「しjレベルに立ち下がる
ことにより、ピットIIIBL、BLとデータ線■10
.I10とが遮断される。
次に、プリチャージ信号φ、がrHJレベルに立ち上が
ることによりトランジスタQ2がオンすると、電源’1
(ffVccおよび接地電位になっていたビット線対B
L、BL間が導通し、両方のピット線BLおよびBLが
中間電位となる。このようにして、ピット線BL、BL
が(1/2)Vcc(7)電位にプリチャージされるこ
とになり、次の読出および書込サイクルに備える。
[発明が解決しようとする問題虐] MOSダイナミックRAMにおいては、大言l化を図る
ほど1ビツトあたりのセル面積およびセル容量が小さく
なり、センスアンプの動作余裕度を十分確保することが
困難になり、これによって、チップ内で発生するノイズ
に対して敏感になってくる。
このことを第5図により説明する。第5図は、メモリセ
ルアレイの平面図である。
図において、複数組のビット線対8に、BLが平行に配
列されており、これに交差するように複数のワード線W
Lが配列されている。各ピット線BL、8Lはメモリセ
ルMCを構成するトランジスタの一方の不純物拡散領域
にコンタクト孔50を介して接続されており、ワード線
WLは前記トランジスタのゲート電極を兼ねている。各
ピット線対BL、BLは隣接したセンスアンプ(図示せ
ず)に接続されている。
このようなMOSダイナミックRAMを大容量化するた
めにその構造を微細化するにしたがって、ビット線対の
各ピット$1!BL、BL間および各ビット線対BL、
BLどうしの間が近接することになる。そのため、アル
ミニウムにより形成されるピット線BL、BLI!Iの
容量結合が大きくなり、大きな電圧振幅の信号の伝達を
行なう際に容量結合によるノイズの量が大きくなってク
ロストークの原因と−なる。
また、センスアンプの動作の際にピット線BL。
BLの充放電電流が大きくなり、これによって電源ライ
ンにおけるノイズおよび接地ラインにおけるノイズが大
きくなる。このため、センスアンプ回路だけでなく、他
の回路の動作余裕度を低下させる原因にもなっている。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ビット棒間の容量結合によるノイズの低減お
よびビット線の充放電による電源ラインおよび接地ライ
ンのノイズの低減が聞られた半導体記憶装置を得ること
を目的とする。
L問題点を解決するための手段] この発明に係る半導体記憶装置は、複数のワード線と、
前記ワード線に交差しτ設けられた複数のピット線対と
、前記ワード線と前記ビット線との交点に設けられた1
1aのメモリセルと、第1の駆動信号を発生し所定時間
経過1第2の駆動信号を発生する駆動信号発生手段と、
第1の増幅手段と、第2の増幅手段とを備えている。
前記第1の増幅手段は、駆動信号発生手段からの第1の
駆動信号に応答して、低電位側のビット線の電位をその
電位よりも低い第1の低電位に設定しかつ高1!i位側
のビット線の電位をその電位よりも高い第1の高電位に
設定するものである。また前記第2の増幅手段は、前記
駆動信号発生手段からの第2の駆動信号に応答して、低
電位側のピット線の電位を前記第1の低電位よりもさら
に低い第2の低電位に設定しかつ高電位側のビット線の
電位を前記第1の高電位よりもさらに高い第2の高電位
に設定するものである。
[作用] この発明の半導体記憶@胃においては、ピット線対に現
われた電位を所定の電位まで増幅する動作、すなわちセ
ンスアンプ動作が2段階に分割されて行なわれる。
まず、第1の増幅手段によって、低電位側のビット線の
電位が第1の低電位になりかつ高電位側のピット線の電
位が第1のsm位になるようにビット線対間が増幅され
、次に、第2の増幅手段によって、低電位側のピット線
の電位が第2の低電位になりかつ高電位側のビット線の
電位が第2の高電位になるようにビット線対間が増幅さ
れる。
このようにセンスアンプ動作を2段階に分けて行なうこ
とにより、ピット線間に発生する容量結合によるノイズ
が抑えられる。また、ピット線に充放電電流が2回に分
割して流れることになるので、電源ラインおよび接地ラ
インにおけるノイズの量が低減され、回路の動作余裕度
の向上が図られる。
[*論例] 以下、この発明の一実施例を図面を用いて説明する。
第1図はこの発明の一実施例による半導体記憶5ilF
の主要部の回路図であり、第2図はこの実施例の動作を
説明するためのタイミングチャートである。
なお、この実施例は以下の点を除いて第3図に示した従
来例と同様の構成であり、相当する部分には同一の参照
番号を付しその説明を省略する。
この実施例の特徴は、NチャネルセンスアンプSNおよ
びPチャネルセンスアンプSPの動作をそれぞれ2段階
に分割して行なわせるようにしたことである。
そのために、NチャネルセンスアンプSNを活性化する
ためのNチャネルMOSトランジスタQ8に並列にNチ
ャネルMO8)−ランジスタ018が接続され、このト
ランジスタQ18のゲート電極に、1段階目のセンスア
ンプ動作のための第1のセンスアンプ駆動信号φ6が与
えられる。そして、トランジスタQ8のゲート電極には
、2段階目のセンスアンプ動作のための第2のセンスア
ンプ駆動信号として従来例と同じセンスアンプ駆動信号
φ、が与えられる。
また、PチャネルセンスアンプSPを活性化するための
PチャネルMOSトランジスタQ5に並列にPチャネル
MOSトランジスタQ15が接続され、このトランジス
タQ15のゲート電極に、1段階目のセンスアンプ動作
のための第1のセンスアンプ駆動信号φ、が与えられる
。そして、トランジスタQ5のゲート電極には、2段階
目のセンスアンプ動作のための第2のセンスアンプ駆動
信号として従来例と同じセンスアンプ駆動信号φ、が与
えられる。
前記トランジスタ018およびQ15に与えられる第2
のセンスアンプ駆動信号φ。およびφ。
は、センスアンプ駆動信号発生回路1により得られる。
このセンスアンプ駆動信号発生回路1は、PチャネルM
OSトランジスタQ2’lとNチャネルMOSトランジ
スタQ22とからなる第1の反転回路2、PチャネルM
OSトランジスタQ23゜Q24とNチャネルMOSト
ランジスタQ25゜Q26とからなる反転!!+IJt
11回路3、PチャネルMOSトランジスタQ27とN
チャネルMO8t−ランジスタQ28とからなる第2の
反転回路4から構成されている。
第1の反転回路2において、トランジスタQ21、Q2
2のゲート電極は互いに接続されて前記Nチャネルセン
スアンプSNとトランジスタQ8゜018との接続点で
あるノードN1に接続されている。また、トランジスタ
Q21の一方導通端子はNHVCCに接続され、トラン
ジスタQ22の一方導通端子は接地されている。さらに
、これらのトランジスタQ21.Q22の他方導通端子
どうしは互いに接続されて出力端子とされている。
反転制御回路3において、トランジスタQ23およびQ
25のゲート電極は互いに接続されて前記第1の反転回
路2の出力端子に接続されている。
また、トランジスタQ23の一方導通端子は電源vCC
に接続され、トランジスタQ25.Q26の一方導通端
子は接地されている。さらに、トランジスタQ23の他
方導通端子は、トランジスタQ24の一方導通端子およ
び他方導通端子を介してトランジスタQ25.Q26の
他方導通端子に接続されている。トランジスタQ24お
よびQ26のゲート電極には発生回路駆動信号φ8が与
えられる。そして、トランジスタQ24の他方導通端子
とトランジスタQ25.Q26の他方導通端子との接続
点からNチャネルセンスアンプSN用の第1のセンスア
ンプ駆動信号φ、が出力される。
第2の反転回路4の構成は、vslの反転回路2の構成
と同様であり、トランジスタQ27および02Bのゲー
ト電極には反転制御回路3の出力が与えられ、トランジ
スタQ27およびQ28の一方導通端子どうしの接続点
からはPチャネルセンスアンプSP用の第1のセンスア
ンプ駆動信号φ7が出力される。
次に、この実施例の動作を第2図のタイミングチャート
を参照して説明する。
まず、プリチャージ信号φ、がrHJレベルからI’L
Jレベルに立ち下がり、ビット線BL、BLが互いに同
電位のフローティング状態となる。
そして、ワード線駆動信号φ2が低レベルから(VCC
+2VT N )程度のへレベルに立ち上がると、メモ
リセルMCのトランジスタQ1が導通し、ノードNに書
込まれていた2値情報によってビット線BLの電位が微
小に変化する。
その侵、発生回路駆動信号φ8がrHJレベルからrL
Jレベルに立ち下がると、反転11J tm回路3のト
ランジスタQ24がオンし、トランジスタQ23および
Q25により反転回路が形成される。
このとき、ノードN1の電位はほぼ(1/2)VCCと
なっているので、第1の反転回路2の出力はrLJレベ
ルとなり、これにより反転制御回路3から出力される第
1のセンスアンプ駆動信号φSはrHJレベルとなる。
このため、トランジスタ018がオンし、ノードN1の
電位はNチャネルセンスアンプSNを活性化させるため
に放電により低下するが、ノードN1の電位が(1/4
)VCC程度になったときに、第1の反転回路2の出力
はrLJレベルからrHJレベルに反転する。なお、こ
の場合、第1の反転回路2のしきい値電圧が(1/4)
Vccとなるように設定しておく。
これにより、第1のセンスアンプ駆動信号φ6がrHJ
レベルからrLJレベルに引き戻され、トランジスタ0
18がオフすることになる。
一方、PチャネルセンスアンプSP用の第1のセンスア
ンプ駆動信号φ、は、NチャネルセンスアンプSN用の
11のセンスアンプ駆動信号φGの立ち上がりをトリが
としてrHJレベルからrLJレベルに立ち下がり、同
様に、センスアンプ駆動信号φ、の立ち下がりをトリガ
としてrLJレベルからrl−IJレベルに立ち上がり
、トランジスタQ15を通してPチャネルセンスアンプ
SPを活性化させる。
これらの第1のセンスアンプ駆動信号φGおよびφ、に
よって、ビット線対81,81間に現われた微小の電位
差を増幅し、ビット線BLおよびBLをrHJレベルと
rLJレベルの中間電位の2値状態、すなわち約(1/
4)Vcc電位と約(3/4)VcciI位とに固定す
る。
その後、アクセス時間の損失とならない範囲内の一定時
間経過模、NチャネルセンスアンプSN用の第2のセン
スアンプ駆動信号φ、がrLJレベルからrHJレベル
に立ち上がり、PチャネルセンスアンプSP用の第2の
センスアンプ駆動信号φ、がrHJレベルからrLJレ
ベルに立ち下がる。これにより、Nチャネルセンスアン
プSNおよびPチャネルセンスアンプSPが活性化し、
中間電位にあったビット線BL、8Lが電源電位VCC
または接地電位に充電または放電される。
このように、センスアンプSN、SPの動作を2段階に
分割して行なうことにより、ビット1aBL、BLの充
放電が2回に分割して行なわれるため、ビット線BL、
BL間の容量結合によって発生するノイズの量を2分の
1に低減することができる。
また、ピットmBL、BLの充放電電流が2回に分割さ
れて流れるので、′R111電位Vccおよび接地電位
へのピーク電流も2分の1に低減することができる。
なお、第1のセンスアンプ駆動信号φ6.φ7によりビ
ット線BL、BLの電位が設定される中間電位は、第1
の反転回路2のしきい値電圧を変えることにより、自在
に変化させることができる。
[発明の効果コ 以上のようにこの発明によれば、ビット線に現われた電
位を所定の電位に増幅するセンスアンプ動作が2段階に
分割して行なわれるので、ビット線間の容量結合による
ノイズが低減され、これにより安定したセンスアンプ動
作が確保される。また、ビット線の充放電電流のピーク
値が小さくなるので、電源ラインおよび接地ラインにお
けるノイズが低減される。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による半導体記憶装置の一実施例を示
す回路図、第2図は同実施例の動作を説明するためのタ
イミングチャート、第3図は従来の半導体記憶1AIl
lを示す回路図、第4図は第3図の半導体記憶装置の動
作を説明するためのタイミングチャート、第5図はメモ
リセルアレイの平面図である。 図において、1はセンスアンプ駆動信号発生回路、2は
第1の反転回路、3は反転制御回路、4は第2の反転回
路、BL、BLはビット線対、WLはワード線、MCは
メモリセル、SPはPチャネルセンスアンプ、SNはN
チャネルセンスアンプ、Ilo、Iloはデータ線であ
る。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数のワード線、 前記ワード線に交差して設けられた複数のビット線対、 前記ワード線と前記ビット線との交点に設けられた複数
    のメモリセル、 第1の駆動信号を発生し、所定時間経過後第2の駆動信
    号を発生する駆動信号発生手段、 前記第1の駆動信号に応答して、低電位側のビット線の
    電位をその電位よりも低い第1の低電位に設定しかつ高
    電位側のビット線の電位をその電位よりも高い第1の高
    電位に設定する第1の増幅手段、 前記第2の駆動信号に応答して、低電位側のビット線の
    電位を前記第1の低電位よりもさらに低い第2の低電位
    に設定しかつ高電位側のビット線の電位を前記第1の高
    電位よりもさらに高い第2の高電位に設定する第2の増
    幅手段を備えた半導体記憶装置。
  2. (2)前記第1の低電位は電源電位の1/2の電位と接
    地電位との中間の電位であり、前記第1の高電位は電源
    電位の1/2の電位と電源電位との中間の電位であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶
    装置。
  3. (3)前記第2の低電位は接地電位であり、前記第2の
    高電位は電源電位であることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項または第2項記載の半導体記憶装置。
  4. (4)前記第1の増幅手段は、前記ビット線の電位を上
    昇または下降させる電圧供給手段と、前記ビット線の電
    位を検出する検出手段と、前記検出手段により検出され
    た電位が前記第1の低電位または第1の高電位になった
    ときに前記電圧供給手段の動作を停止させる手段とを備
    えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第3
    項のいずれかに記載の半導体記憶装置。
JP62145817A 1987-06-10 1987-06-10 半導体記憶装置 Pending JPS63308790A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5042011A (en) * 1989-05-22 1991-08-20 Micron Technology, Inc. Sense amplifier pulldown device with tailored edge input
US5677878A (en) * 1996-01-17 1997-10-14 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for quickly restoring digit I/O lines
US6385103B1 (en) * 2000-09-01 2002-05-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having a circuit for testing memories
US7577045B2 (en) 2006-07-07 2009-08-18 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory device

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