JPS63308753A - 平面状の磁気光学的多層記録材料 - Google Patents
平面状の磁気光学的多層記録材料Info
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光透過性担体と、無定形ランタニド遷移金属
合金からの熱変化可能な記録層と、この記録層の担体か
ら離れた面上の炭化物、窒化物および/または酸化物を
含有する耐蝕層とを有する新規の平面状磁気光学的多層
記録材料に関する。
合金からの熱変化可能な記録層と、この記録層の担体か
ら離れた面上の炭化物、窒化物および/または酸化物を
含有する耐蝕層とを有する新規の平面状磁気光学的多層
記録材料に関する。
従来の技術
この種の記録材料は、例えばドイツ連邦共和国特許出願
公開第3335689号明細書から公知である。この場
合、記録層は、20〜10Qnmの厚さである。この記
録層は、担体から離れた面」二に3つの層を有し、その
際それぞれ個々の層は、一定の機能を充足する。すなわ
ち、第1の層は、2.0およびそれ以上の高い屈折率を
有する材料、例えば酸化チタン、酸化セリウム、酸化ア
ンチモン、酸化タングステン、酸化珪素、酸化蒼鉛また
は酸化カドミウムからなり、かつ干渉被膜として使用さ
れる。第2の層1;!、銅、銀、クロム、アルミニウム
、ロジウム、金またはニッケルのような金属からなり、
かつ反射層を表わす。最」二層は、酸化層であり、かつ
酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化
チタンまたは酸化トリウムからなる。
公開第3335689号明細書から公知である。この場
合、記録層は、20〜10Qnmの厚さである。この記
録層は、担体から離れた面」二に3つの層を有し、その
際それぞれ個々の層は、一定の機能を充足する。すなわ
ち、第1の層は、2.0およびそれ以上の高い屈折率を
有する材料、例えば酸化チタン、酸化セリウム、酸化ア
ンチモン、酸化タングステン、酸化珪素、酸化蒼鉛また
は酸化カドミウムからなり、かつ干渉被膜として使用さ
れる。第2の層1;!、銅、銀、クロム、アルミニウム
、ロジウム、金またはニッケルのような金属からなり、
かつ反射層を表わす。最」二層は、酸化層であり、かつ
酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化
チタンまたは酸化トリウムからなる。
ドイツ連邦共和国特許出願公開第3534571号明細
書から公知の記録材料は、比較可能な構造を有する。こ
の場合、記録層」二に設けられた層の第1層は、炭化珪
素および窒化珪素または炭化珪素および窒化アルミニウ
ムからの混合物からなり、かつ保護層としても干渉層と
しても使用される。第2層としては、銅、アルミニウム
または金のような金属からなる反射層である。更に、耐
蝕層が配置されていてもよい。
書から公知の記録材料は、比較可能な構造を有する。こ
の場合、記録層」二に設けられた層の第1層は、炭化珪
素および窒化珪素または炭化珪素および窒化アルミニウ
ムからの混合物からなり、かつ保護層としても干渉層と
しても使用される。第2層としては、銅、アルミニウム
または金のような金属からなる反射層である。更に、耐
蝕層が配置されていてもよい。
記録材料は、他の補助層、例えば酸化珪素、弗化マグネ
シウムまたは酸化ニオブ、酸化タンタルまたは酸化アル
ミニウムまたは窒化アルミニウムまたは窒化珪素からな
る干渉層を包含することができる。
シウムまたは酸化ニオブ、酸化タンタルまたは酸化アル
ミニウムまたは窒化アルミニウムまたは窒化珪素からな
る干渉層を包含することができる。
その」二、ドイツ連邦共和国特許出願公開第35003
14号明細書から、耐蝕層としても干渉層としても使用
される酸化物−窒化物混合物からなる層を有する記録材
料が知られている。
14号明細書から、耐蝕層としても干渉層としても使用
される酸化物−窒化物混合物からなる層を有する記録材
料が知られている。
この公知の記録材料は、インパルス符号化したレーザー
光線を用いてデータの記録および読取りに使用され、こ
の場合このレーザー光線は、記録層上にピント調節され
かつ記録層に垂直に入射する。
光線を用いてデータの記録および読取りに使用され、こ
の場合このレーザー光線は、記録層上にピント調節され
かつ記録層に垂直に入射する。
データを記録するかまたは書込む場合、記録材料には、
補助磁界が印加され、その磁力線は、記録層の表面に対
して垂直の方向に向いている。
補助磁界が印加され、その磁力線は、記録層の表面に対
して垂直の方向に向いている。
周知のように、無定形のフェリ磁性ランタニド遷移金属
合金からなる、その表面に対して垂直に磁化された記録
層は、データを、す込む際にレーザー光線によって入射
位置で加熱される。
合金からなる、その表面に対して垂直に磁化された記録
層は、データを、す込む際にレーザー光線によって入射
位置で加熱される。
この加熱により、合金の保磁力H,は減少する。
保磁力1−Tcは、それぞれ使用される合金に依存する
臨界温度の際に印加される補助磁界の磁力を下廻り、し
たがって入射位置で元来の方向とは反対の磁化方向を有
する領域が生じる。このような領域は、“スポット(s
pot)”とも呼ばれる。
臨界温度の際に印加される補助磁界の磁力を下廻り、し
たがって入射位置で元来の方向とは反対の磁化方向を有
する領域が生じる。このような領域は、“スポット(s
pot)”とも呼ばれる。
データを読取るためには、連続的に放出される持続波レ
ーザーの直線偏光が使用され、この直線偏光の効率は、
材料を臨界温度よりも高く加熱するのには不十分である
。このレーザー光線は、記録層それ自体によって反射さ
れるか、または記録層の後方に配置された反射層によっ
て反射され、この場合には、記録層中の磁気モーメント
とレーザー光波の磁気ベクトルとの相互作用を生じる。
ーザーの直線偏光が使用され、この直線偏光の効率は、
材料を臨界温度よりも高く加熱するのには不十分である
。このレーザー光線は、記録層それ自体によって反射さ
れるか、または記録層の後方に配置された反射層によっ
て反射され、この場合には、記録層中の磁気モーメント
とレーザー光波の磁気ベクトルとの相互作用を生じる。
この相互作用により、“スボソト”またはその後方に存
在する反射層によって反射されるレーザー光の偏光面V
は、元来の平面に対して僅かな角度だけ回転される。こ
の偏光面πの回転が、記録層それ自体での光の反射の際
に行なわれる場合には、このことは、カー効果と呼ばれ
、それに応じて回転角度は、カー回転角度と呼ばれ;こ
れに対して、この平面は、光が記録層を2回目に通過す
る場合に回転され、したがってファラデー効果およびフ
ァラデー回転角と呼ばれる。
在する反射層によって反射されるレーザー光の偏光面V
は、元来の平面に対して僅かな角度だけ回転される。こ
の偏光面πの回転が、記録層それ自体での光の反射の際
に行なわれる場合には、このことは、カー効果と呼ばれ
、それに応じて回転角度は、カー回転角度と呼ばれ;こ
れに対して、この平面は、光が記録層を2回目に通過す
る場合に回転され、したがってファラデー効果およびフ
ァラデー回転角と呼ばれる。
記録材料によって反射されるレーザー光の偏光面芯が前
記のように回転することは、適当な光学的電子装置を用
いて測定しかつ信号に変換することができる。
記のように回転することは、適当な光学的電子装置を用
いて測定しかつ信号に変換することができる。
公知の記録材料の際にファラデー効果を利用する場合に
は、この記録材料は、必然的に反射層を有しなければな
らない。それというのも、記録層それ自体は、光透過性
であるからである。
は、この記録材料は、必然的に反射層を有しなければな
らない。それというのも、記録層それ自体は、光透過性
であるからである。
その上、反射層と記録層との間の境界面での支障ある回
折現象を阻止するためには、干渉層が存在していなくて
はならない。勿論、このような層は、酸素遮断層として
も作用し、この酸素遮断層は、極めて酸素と水に敏感な
記録層が腐蝕されることをある程度阻止する。それにも
拘わらず、この酸素遮断層は、実際に十分な程度には前
記機能を充足させず、したがって付加的になお記録材料
を空気から隔離する耐蝕層を一緒に使用しなければなら
ない。
折現象を阻止するためには、干渉層が存在していなくて
はならない。勿論、このような層は、酸素遮断層として
も作用し、この酸素遮断層は、極めて酸素と水に敏感な
記録層が腐蝕されることをある程度阻止する。それにも
拘わらず、この酸素遮断層は、実際に十分な程度には前
記機能を充足させず、したがって付加的になお記録材料
を空気から隔離する耐蝕層を一緒に使用しなければなら
ない。
干渉被膜、反射層および酸化防止層からの公知の組合せ
は、多数の分離層から構成された唯1つの耐蝕層として
は把握されない。それというのも、この耐蝕層の構成お
よび組成は、主として別の機能によって定められるから
である。
は、多数の分離層から構成された唯1つの耐蝕層として
は把握されない。それというのも、この耐蝕層の構成お
よび組成は、主として別の機能によって定められるから
である。
耐蝕作用に関連して、公知の組合せは、欠点を有する。
殊に、この組合せの作用は、この組合せが空気側に例え
ば酸化アルミニウムからなる比較的厚い層を有する限り
、酸素遮断層としては所望のものには程遠い。更に、残
りの層の成分を別の視点に当てはまるように選択するこ
とにより、層相互の付着力、安定、性、内部応力または
機械的強度に関連して欠点が生じる。すなわち、干渉お
よび反射に関連して最適であることができる公知の組合
せは、僅かな耐蝕作用を有することができるか、或は、
この組合せの耐蝕作用は、実際に満足なものであるが、
それにも拘わらずその安定性は、所望のものには程遠い
。更に、特に硬質の上層を生じる成分を選択する場合に
は、公知の層組合せ物は、全体的に僅かな機械的振動で
裂断されてしまうような程度に脆くなる。その上、内部
応力により公知の層組合せ物中には亀裂が惹起しうる。
ば酸化アルミニウムからなる比較的厚い層を有する限り
、酸素遮断層としては所望のものには程遠い。更に、残
りの層の成分を別の視点に当てはまるように選択するこ
とにより、層相互の付着力、安定、性、内部応力または
機械的強度に関連して欠点が生じる。すなわち、干渉お
よび反射に関連して最適であることができる公知の組合
せは、僅かな耐蝕作用を有することができるか、或は、
この組合せの耐蝕作用は、実際に満足なものであるが、
それにも拘わらずその安定性は、所望のものには程遠い
。更に、特に硬質の上層を生じる成分を選択する場合に
は、公知の層組合せ物は、全体的に僅かな機械的振動で
裂断されてしまうような程度に脆くなる。その上、内部
応力により公知の層組合せ物中には亀裂が惹起しうる。
これら全てのことは、耐蝕作用にとって不利である。
しかし、この耐蝕性は、当該記録材料の場合には直接根
本的に重要なことである。それというのも、この記録材
料の記録層は、極めて迅速に水および/または空気酸素
によって破壊され、このことは、記録層中に書込まれた
データの全体的損失を結果としてまねくからである。
本的に重要なことである。それというのも、この記録材
料の記録層は、極めて迅速に水および/または空気酸素
によって破壊され、このことは、記録層中に書込まれた
データの全体的損失を結果としてまねくからである。
発明が解決しようとする課題
本発明の課題は、光透過性担体と、無定形ランタニド遷
移金属合金からの熱変化可能な記録層と、この記録層の
担体から離れた面上の炭化物、窒化物および/または酸
化物を含有する耐蝕層とを有し、かつ公知の記録材料の
欠点をもはや示さない、新規の平面状磁気光学的多層記
録材料を見い出すことである。
移金属合金からの熱変化可能な記録層と、この記録層の
担体から離れた面上の炭化物、窒化物および/または酸
化物を含有する耐蝕層とを有し、かつ公知の記録材料の
欠点をもはや示さない、新規の平面状磁気光学的多層記
録材料を見い出すことである。
課題を解決するための手段
この課題は、本発明によれば、耐蝕層がa)3C)〜2
50nmの厚さであり、b)2つまたはそれ以上の成分
からなり、これらの成分が C)成分のうちのそれぞれ1つからなる4つまたはそれ
以上の分離層中に存在し、この場合d)成分の少なくと
も1つは、硼素、アルミニウム、珪素、チタン、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデンおよびタングステンの元素の群から
選択され、 e)成分の少なくとももう1つは、前記元素(d)の炭
化物、窒化物および酸化物の群から選択され、その際 f)直接隣接した位置は、常に互いに異なる成分からな
ることを特徴とする、光透過性担体と、無定形ランタニ
ド遷移金属合金からの熱変化可能な記録層と、この記録
層の担体から離れた面上の炭化物、窒化物および/また
は酸化物を含有する耐蝕層とを有する、新規の平面状磁
気光学的多層記録材料によって解決される。
50nmの厚さであり、b)2つまたはそれ以上の成分
からなり、これらの成分が C)成分のうちのそれぞれ1つからなる4つまたはそれ
以上の分離層中に存在し、この場合d)成分の少なくと
も1つは、硼素、アルミニウム、珪素、チタン、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデンおよびタングステンの元素の群から
選択され、 e)成分の少なくとももう1つは、前記元素(d)の炭
化物、窒化物および酸化物の群から選択され、その際 f)直接隣接した位置は、常に互いに異なる成分からな
ることを特徴とする、光透過性担体と、無定形ランタニ
ド遷移金属合金からの熱変化可能な記録層と、この記録
層の担体から離れた面上の炭化物、窒化物および/また
は酸化物を含有する耐蝕層とを有する、新規の平面状磁
気光学的多層記録材料によって解決される。
本発明によれば、使用すべき多層の、炭化物、窒化物お
よび/または酸化物を含有する層は、本発明による平面
状の磁気光学的多層記録材料の記録層を腐蝕から保護す
ることに専ら使用される。従って、この層は、耐蝕層と
呼ばれる。
よび/または酸化物を含有する層は、本発明による平面
状の磁気光学的多層記録材料の記録層を腐蝕から保護す
ることに専ら使用される。従って、この層は、耐蝕層と
呼ばれる。
“平面状”の概念は、全ての立体形が包括され、その厚
さは、長さおよび幅よりも著しく僅かである。従って、
本発明による記録材料は、帯状、板状または円板状であ
ることができ、この場合には、一般に“データ板”また
は“ディスク”と呼ばれる円板状のものが有利である。
さは、長さおよび幅よりも著しく僅かである。従って、
本発明による記録材料は、帯状、板状または円板状であ
ることができ、この場合には、一般に“データ板”また
は“ディスク”と呼ばれる円板状のものが有利である。
“多層”の概念により、本発明による記録材料は、担体
、記録層および多層耐蝕層ならびに場合によっては同時
に記録材料の機能に役立つ他の層から構成されているこ
とが指摘される。
、記録層および多層耐蝕層ならびに場合によっては同時
に記録材料の機能に役立つ他の層から構成されているこ
とが指摘される。
本発明によれば、使用すべき耐蝕層は、25Qnmまで
の厚さである。この耐蝕層の特殊な性質のために、層厚
をより厚くすることは不要である。その」二、他の特別
の利点は、このために必要とされるより高い材料使用量
とは関連しない。本発明による耐蝕層の厚さは、30n
mを下廻ってはならない。それというのも、この場合こ
の耐蝕層の酸素および水に対する遮断作用は、もはや必
ずしも満足されるものではないからである。有利なのは
、50〜loonmの厚さである。本発明による耐蝕層
は、この厚さ範囲内で遮断作用、材料使用量、製造費、
機械的強度、靭性および安定性に関連して最適な性質の
プロフィールを示す。
の厚さである。この耐蝕層の特殊な性質のために、層厚
をより厚くすることは不要である。その」二、他の特別
の利点は、このために必要とされるより高い材料使用量
とは関連しない。本発明による耐蝕層の厚さは、30n
mを下廻ってはならない。それというのも、この場合こ
の耐蝕層の酸素および水に対する遮断作用は、もはや必
ずしも満足されるものではないからである。有利なのは
、50〜loonmの厚さである。本発明による耐蝕層
は、この厚さ範囲内で遮断作用、材料使用量、製造費、
機械的強度、靭性および安定性に関連して最適な性質の
プロフィールを示す。
本発明によれば、使用すべき耐蝕層は、2つまたはそれ
以上の成分の4つまたはそれ以上の分離層からなる。
以上の成分の4つまたはそれ以上の分離層からなる。
最も一般的な場合に最適な性質のプロフィールに調節す
るためには、4または5つの分離層テ十分であり、特殊
な場合には、6.7または8つの層からなる耐蝕層が使
用される。9つ、10またはそれ以上の層からなる耐蝕
層は、滅多に使用されない。それというのも、この場合
には多額な製造費により、それ自体既に好ましい性質が
さらに向上されることは正当化されないからである。従
って、特に有利なのは、4または5つの層からなる耐蝕
層である。その理由は、この層が最も少ない費用で製造
でき、かつその際既に最適な性質を有するからである。
るためには、4または5つの分離層テ十分であり、特殊
な場合には、6.7または8つの層からなる耐蝕層が使
用される。9つ、10またはそれ以上の層からなる耐蝕
層は、滅多に使用されない。それというのも、この場合
には多額な製造費により、それ自体既に好ましい性質が
さらに向上されることは正当化されないからである。従
って、特に有利なのは、4または5つの層からなる耐蝕
層である。その理由は、この層が最も少ない費用で製造
でき、かつその際既に最適な性質を有するからである。
本発明による耐蝕層の各層は、種々の厚さを有すること
ができる。しかし、これらの層は、はぼ同じ厚さである
のが有利である。
ができる。しかし、これらの層は、はぼ同じ厚さである
のが有利である。
それぞれの分離層は、常に1つの成分からなり、この場
合隣接した層の成分は、常に互いに異なる。総じて云え
ば、耐蝕層を構成するためおよび望ましい有利な性質に
調節するためには、既に2つの成分で十分である。しか
し、本発明によれば、3つの成分が有利である。それと
いうのも、それによって比較的僅かな!i2造費で性質
のプロフィールを最適なものにすることができるからで
ある。4.5または6つの成分は、滅多に使用されない
。それというのも、それによってなお有利な性質が向上
されるのは比較的僅かにすぎないからである。
合隣接した層の成分は、常に互いに異なる。総じて云え
ば、耐蝕層を構成するためおよび望ましい有利な性質に
調節するためには、既に2つの成分で十分である。しか
し、本発明によれば、3つの成分が有利である。それと
いうのも、それによって比較的僅かな!i2造費で性質
のプロフィールを最適なものにすることができるからで
ある。4.5または6つの成分は、滅多に使用されない
。それというのも、それによってなお有利な性質が向上
されるのは比較的僅かにすぎないからである。
1つの層から直ぐ次の層への移行は、突然であることが
できる。すなわち、例えば化学量論的組成を有する炭化
物層、窒化物層または酸化物層から純粋な金属層へ移行
する場合のように層間には、正確に定められた境界面が
存在する。
できる。すなわち、例えば化学量論的組成を有する炭化
物層、窒化物層または酸化物層から純粋な金属層へ移行
する場合のように層間には、正確に定められた境界面が
存在する。
しかし、移行は、流動的であってもよい。すなわち、層
間には、明確な境界面の代わりに多少とも広幅の移行領
域が存在する。従って、例えば化学量論的組成を有する
炭化物層、窒化物層または酸化物層は、副次的な化学量
論的組成の領域(但し、この領域中で炭素、窒素または
酸素の濃度は、多少とも迅速に減少し、かつ金属濃度は
、多少とも迅速に増大する。)を介して純粋な金属層に
移行することができる。全(同様に、例えば酸化物層は
、突然または徐々に炭化物層または窒化物層に移行する
ことができる。
間には、明確な境界面の代わりに多少とも広幅の移行領
域が存在する。従って、例えば化学量論的組成を有する
炭化物層、窒化物層または酸化物層は、副次的な化学量
論的組成の領域(但し、この領域中で炭素、窒素または
酸素の濃度は、多少とも迅速に減少し、かつ金属濃度は
、多少とも迅速に増大する。)を介して純粋な金属層に
移行することができる。全(同様に、例えば酸化物層は
、突然または徐々に炭化物層または窒化物層に移行する
ことができる。
本発明によれば、有利には、1つの層から直ぐ次の層へ
流動的に移行し、この場合、酸化物層、炭化物層または
窒化物層は、金属層に移行し、かつ金属層は、相応して
酸化物層、炭化物層または窒化物層に移行するのが特に
有利である。
流動的に移行し、この場合、酸化物層、炭化物層または
窒化物層は、金属層に移行し、かつ金属層は、相応して
酸化物層、炭化物層または窒化物層に移行するのが特に
有利である。
酸化物層、炭化物層または窒化物層の炭素含量、窒素含
量または酸素含量が相応する化学量論的値のまさに50
%に達しているような移行領域中の平面は、2つの徐々
に互いに移行する層間の理論的境界面と見なされる。従
って、このような層の厚さは、理論的境界面から直ぐ次
の層に及ぶ。
量または酸素含量が相応する化学量論的値のまさに50
%に達しているような移行領域中の平面は、2つの徐々
に互いに移行する層間の理論的境界面と見なされる。従
って、このような層の厚さは、理論的境界面から直ぐ次
の層に及ぶ。
炭化物層、窒化物層または酸化物層の炭素含量、窒素含
量または酸素含量が化学量論的値のまさに90%に達し
ているような平面から、この値がまさに10%になるよ
うな平面にまでの区間は、移行領域の厚さと見なされる
。2つの層の移行領域での双方の割合は、異なる厚さで
あってもよい。1つの層中でのかかる割合の厚さは、層
厚に対して75%以下、特に50%、好ましくは30%
、殊に10%でなければならない。
量または酸素含量が化学量論的値のまさに90%に達し
ているような平面から、この値がまさに10%になるよ
うな平面にまでの区間は、移行領域の厚さと見なされる
。2つの層の移行領域での双方の割合は、異なる厚さで
あってもよい。1つの層中でのかかる割合の厚さは、層
厚に対して75%以下、特に50%、好ましくは30%
、殊に10%でなければならない。
本発明によれば、使用すべき耐蝕層の最上層は、炭化物
層、窒化物層、酸化物層または元素層であることができ
る。有利には、炭化物層、窒化物層または酸化物層であ
り、この場合には、酸化物層が特に有利である。この場
合には、とりわけ、酸化物層の下の層は元素層であるの
が有利である。
層、窒化物層、酸化物層または元素層であることができ
る。有利には、炭化物層、窒化物層または酸化物層であ
り、この場合には、酸化物層が特に有利である。この場
合には、とりわけ、酸化物層の下の層は元素層であるの
が有利である。
耐蝕層の成分は、常に2つの群から選択され、その中1
つの群は、硼素、アルミニウム、珪素、チタン、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデンおよびタングステンの元素の群から
なり、もう1つの群は、これら元素の炭化物、窒化物お
よび酸化物、すなわち炭化硼素、炭化アルミニウム、炭
化珪素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウ
ム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化
クロム、炭化モリブデンおよび炭化タングステン、窒化
硼素、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化チタン、窒化
ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウム、窒化
ニオブ、窒化タンタル、窒化クロム、窒化モリブデンお
よび窒化タングステンならびに酸化硼素、酸化アルミニ
ウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化
ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタ
ル、酸化クロム、酸化モリブデンおよび酸化タングステ
ンからなる。この場合、耐蝕層を構成するためには、特
定の元素または2つおよびそれ以上の特定の元素ならび
に同じかまたは別の元素の炭化物、窒化物または酸化物
を選択することができる。
つの群は、硼素、アルミニウム、珪素、チタン、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデンおよびタングステンの元素の群から
なり、もう1つの群は、これら元素の炭化物、窒化物お
よび酸化物、すなわち炭化硼素、炭化アルミニウム、炭
化珪素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウ
ム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化
クロム、炭化モリブデンおよび炭化タングステン、窒化
硼素、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化チタン、窒化
ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウム、窒化
ニオブ、窒化タンタル、窒化クロム、窒化モリブデンお
よび窒化タングステンならびに酸化硼素、酸化アルミニ
ウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化
ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタ
ル、酸化クロム、酸化モリブデンおよび酸化タングステ
ンからなる。この場合、耐蝕層を構成するためには、特
定の元素または2つおよびそれ以上の特定の元素ならび
に同じかまたは別の元素の炭化物、窒化物または酸化物
を選択することができる。
1つの元素のみを使用するのが有利であり、この場合に
は、前記元素の1つの炭化物、窒化物および/または酸
化物を使用するのが特に有利である。
は、前記元素の1つの炭化物、窒化物および/または酸
化物を使用するのが特に有利である。
有利に本発明により使用すべき耐蝕層は、成分としてア
ルミニウム、珪素またはチタンならびに炭化硼素、炭化
アルミニウム、炭化珪素または炭化チタン、窒化硼素、
窒化アルミニウム、窒化珪素または窒化チタン、または
酸化アルミニウム、酸化珪素または酸化チタンを含有す
る。
ルミニウム、珪素またはチタンならびに炭化硼素、炭化
アルミニウム、炭化珪素または炭化チタン、窒化硼素、
窒化アルミニウム、窒化珪素または窒化チタン、または
酸化アルミニウム、酸化珪素または酸化チタンを含有す
る。
特に好ましい耐蝕層は、アルミニウム、珪素またはチタ
ンならびに炭化アルミニウム、炭化珪素または炭化チタ
ン、または窒化アルミニウム、窒化珪素または窒化チタ
ンおよび酸化アルミニウム、酸化珪素または酸化チタン
からなる。
ンならびに炭化アルミニウム、炭化珪素または炭化チタ
ン、または窒化アルミニウム、窒化珪素または窒化チタ
ンおよび酸化アルミニウム、酸化珪素または酸化チタン
からなる。
特に好ましい耐蝕層は、アルミニウム、窒化アルミニウ
ムおよび酸化アルミニウムからなるか、または珪素、炭
化珪素および/または窒化珪素ならびに酸化珪素からな
る。
ムおよび酸化アルミニウムからなるか、または珪素、炭
化珪素および/または窒化珪素ならびに酸化珪素からな
る。
本発明によれば、使用すべき耐蝕層の製造は、薄膜を製
造する常用で公知の方法により蒸着、反応性蒸着、イオ
ンめっき、′イオンクラスタービーム付着” (IcB
)または反応性陰極スパッタリングを含めて陰極スパッ
タリングによって行なうことができる。特に、陰極スパ
ッタリングが使用される。このためには、公知方法で相
応する金属、酸化物、窒化物および/または炭化物を純
粋な形で所望の順序および量で高真空中で所謂“ターゲ
ット”からスパッタし、かつ適当な担体上または既にそ
の上に存在する層上に析出させることができるか、或は
、耐蝕層を、純粋な金属をスパッタしかつ酸素、窒素ま
たは炭素の望ましい量をプロセスガスに混和することに
よって適当な時点で望ましい方法で構成させることがで
き、このことは、反応性陰極スパッタリングとも呼ばれ
る。
造する常用で公知の方法により蒸着、反応性蒸着、イオ
ンめっき、′イオンクラスタービーム付着” (IcB
)または反応性陰極スパッタリングを含めて陰極スパッ
タリングによって行なうことができる。特に、陰極スパ
ッタリングが使用される。このためには、公知方法で相
応する金属、酸化物、窒化物および/または炭化物を純
粋な形で所望の順序および量で高真空中で所謂“ターゲ
ット”からスパッタし、かつ適当な担体上または既にそ
の上に存在する層上に析出させることができるか、或は
、耐蝕層を、純粋な金属をスパッタしかつ酸素、窒素ま
たは炭素の望ましい量をプロセスガスに混和することに
よって適当な時点で望ましい方法で構成させることがで
き、このことは、反応性陰極スパッタリングとも呼ばれ
る。
更に、本発明によれば、平面状の磁気光学的多層記録材
料は、光透過性担体および無定形ランタニド遷移金属合
金からなる厚さ10〜10Qnmの熱変化可能な記録層
を有し、この場合本発明により使用すべき耐蝕層は、記
録層の担体から離れた面上に存在する。本発明による耐
蝕層と、記録層との間には、他の層、例えば常用で公知
の反射層および/または干渉層が存在することができる
。全く同様に、光透過性担体と、記録層との間には、他
の常用で公知の干渉層が配置されていてもよい。
料は、光透過性担体および無定形ランタニド遷移金属合
金からなる厚さ10〜10Qnmの熱変化可能な記録層
を有し、この場合本発明により使用すべき耐蝕層は、記
録層の担体から離れた面上に存在する。本発明による耐
蝕層と、記録層との間には、他の層、例えば常用で公知
の反射層および/または干渉層が存在することができる
。全く同様に、光透過性担体と、記録層との間には、他
の常用で公知の干渉層が配置されていてもよい。
適当な光透過性担体の例は、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートまた
はガラスのように非導電性で光学的に明澄な材料からの
フィルム、板または円板であり、その中で円板が有利で
ある。この円板の表面は、パターン化されており、かつ
例えばトラック溝を有していてもよい。通常、このよう
な円板の直径は、90〜130mmである。
ト、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートまた
はガラスのように非導電性で光学的に明澄な材料からの
フィルム、板または円板であり、その中で円板が有利で
ある。この円板の表面は、パターン化されており、かつ
例えばトラック溝を有していてもよい。通常、このよう
な円板の直径は、90〜130mmである。
適当な無定形ランタニド遷移金属合金の例は、常用で公
知のGdCe−合金、GdFe−合金、TbFe−合金
、DyFe−合金、GdTbFe−合金、TbDyFe
−合金、GdFeCo−合金、TbFeCo−合金、G
dTbFeCo−合金またはN d D y F e
Co−合金であり、これらの合金は、なおさらに適当な
成分、例えば硼素、燐、チタン、アンチモンまたは蒼鉛
を含有することができる。
知のGdCe−合金、GdFe−合金、TbFe−合金
、DyFe−合金、GdTbFe−合金、TbDyFe
−合金、GdFeCo−合金、TbFeCo−合金、G
dTbFeCo−合金またはN d D y F e
Co−合金であり、これらの合金は、なおさらに適当な
成分、例えば硼素、燐、チタン、アンチモンまたは蒼鉛
を含有することができる。
本発明による記録材料の製造は、耐蝕層の製造の際に使
用したのと同じ方法により行なうことができる。この場
合には、通常本発明による記録材料の個々の層を望まし
い順序、量および厚さでガス相を介して担体上にもたら
し、その後に層表面に対して垂直に配向されている定め
られた磁化を記録層中で誘起させる。
用したのと同じ方法により行なうことができる。この場
合には、通常本発明による記録材料の個々の層を望まし
い順序、量および厚さでガス相を介して担体上にもたら
し、その後に層表面に対して垂直に配向されている定め
られた磁化を記録層中で誘起させる。
記録材料は、常法で光透過性担体の側から、記録層上に
ピント合わせされかつこの層上に垂直に入射する110
00n未満の波長λのインパルス符号化された許込みレ
ーザー光線を用いて逆磁化された“スポット(5pot
)”の形でデータを書込むことができる。その後に、デ
ータは、書込まれた記録層上にピント合わせされかつこ
の層」−に垂直に入射される持続波レーザー光線により
読取ることができ、この場合には、記録層それ自体また
は反射層から反射された光を検出し、分析し、かつ信号
に変換する。本発明によるデータ板またはディスクの場
合には、このために半導体レーザーを有する、レーザー
光学的ヘッドを備えた常用で公知のレーザー光学的ディ
スクドライブを使用することができる。
ピント合わせされかつこの層上に垂直に入射する110
00n未満の波長λのインパルス符号化された許込みレ
ーザー光線を用いて逆磁化された“スポット(5pot
)”の形でデータを書込むことができる。その後に、デ
ータは、書込まれた記録層上にピント合わせされかつこ
の層」−に垂直に入射される持続波レーザー光線により
読取ることができ、この場合には、記録層それ自体また
は反射層から反射された光を検出し、分析し、かつ信号
に変換する。本発明によるデータ板またはディスクの場
合には、このために半導体レーザーを有する、レーザー
光学的ヘッドを備えた常用で公知のレーザー光学的ディ
スクドライブを使用することができる。
本発明による記録材料は、公知技術水準に比して特別の
利点を有する。すなわち、本発明による記録材料は、公
知の記録材料の場合よりも高い感度を有し、それ故に本
発明による記録材料は、レーザー出力が僅かで済むこと
を記載することができる。従って、本発明による磁気光
学的データ板(ディスク)は、同じレーザー出力で公知
のディスクの場合よりもディスク回転数が高いことを記
載することができる。また、本発明による磁気光学的デ
ータ板のビット密度は、公知技術水準に比して明らかに
上昇されている。この磁気光学的データ板は、読取りの
際に歪みのない信号を供給し、かつ55dBよりも高い
SN比を有する。70℃で1000時間を1−廻る貯蔵
時間後および90%の相対湿度後であっても、ビット誤
差率は上昇せず、すなわち情報の損失は全く生じない。
利点を有する。すなわち、本発明による記録材料は、公
知の記録材料の場合よりも高い感度を有し、それ故に本
発明による記録材料は、レーザー出力が僅かで済むこと
を記載することができる。従って、本発明による磁気光
学的データ板(ディスク)は、同じレーザー出力で公知
のディスクの場合よりもディスク回転数が高いことを記
載することができる。また、本発明による磁気光学的デ
ータ板のビット密度は、公知技術水準に比して明らかに
上昇されている。この磁気光学的データ板は、読取りの
際に歪みのない信号を供給し、かつ55dBよりも高い
SN比を有する。70℃で1000時間を1−廻る貯蔵
時間後および90%の相対湿度後であっても、ビット誤
差率は上昇せず、すなわち情報の損失は全く生じない。
この記録材料は、耐引掻性で硬質で強く付着した機械的
に安定な耐蝕層を有し、この耐蝕層は、脆(なく、かつ
空気および水に敏感な記録層を十分に遮蔽する。
に安定な耐蝕層を有し、この耐蝕層は、脆(なく、かつ
空気および水に敏感な記録層を十分に遮蔽する。
その」二、この耐蝕層は、光学的性質及び機械的性質な
らびに付着特性の点で有利に残りの層に適合することが
できる。
らびに付着特性の点で有利に残りの層に適合することが
できる。
実施例
実施例 1〜4
多層耐蝕層を有する本発明による磁気光学的データ板の
製造および性質 トラック溝を有する直径130mmの4つのポリカーボ
ネート円板上に円板を回転させながら個々の層を所望の
順序および厚さでガス相から施した。この場合、耐蝕層
は、当該金属および炭素、酸素および/または窒素の混
合物をガス相により陰極スパッタすることによって析出
させた。この場合、条件は、耐蝕層の第1表に記載した
組成が得られるように選択された。実施例1および4の
場合、最上層(酸化アルミニウム)は、アルミニウム層
を空気酸化することによって発生させた。第1表には、
得られるデータ板の構成に関する報告が記載されている
。
製造および性質 トラック溝を有する直径130mmの4つのポリカーボ
ネート円板上に円板を回転させながら個々の層を所望の
順序および厚さでガス相から施した。この場合、耐蝕層
は、当該金属および炭素、酸素および/または窒素の混
合物をガス相により陰極スパッタすることによって析出
させた。この場合、条件は、耐蝕層の第1表に記載した
組成が得られるように選択された。実施例1および4の
場合、最上層(酸化アルミニウム)は、アルミニウム層
を空気酸化することによって発生させた。第1表には、
得られるデータ板の構成に関する報告が記載されている
。
こうして得られたデータ板の記録層を、その表面に対し
て垂直に磁化し、かつ常用で公知のレーザー光学的ディ
スクドライブを用いてデータを書き込んだ。この場合に
は、インパルス符号化されたGaA12As−半導体レ
ーザーが使用され、この半導体レーザーは、波長λ−8
3Qnmの直線偏光を放出した。ビット長さ、すなわち
“スポット”直径ならびにビット距離、すなわち“スポ
ット”から“スポット”への距離は、約1μmであった
。
て垂直に磁化し、かつ常用で公知のレーザー光学的ディ
スクドライブを用いてデータを書き込んだ。この場合に
は、インパルス符号化されたGaA12As−半導体レ
ーザーが使用され、この半導体レーザーは、波長λ−8
3Qnmの直線偏光を放出した。ビット長さ、すなわち
“スポット”直径ならびにビット距離、すなわち“スポ
ット”から“スポット”への距離は、約1μmであった
。
書込まれたデータをカー効果(実施例1および2)また
はファラデー効果(実施例3および4)により読取るた
めには、GaAQAs−半導体レーザーを持続波運転で
1mW未満の光出力で使用する。未修正のビット誤差率
を常用の公知方法で時間間隔検光子(“time 1n
tervalanalyzer″、TIA)を用いて測
定した。このデータ板を書込み直後に読取り(1回目の
読取り)、引続き70℃および90%の相対湿度で10
00時間貯蔵し、次に再び読取った(2回目の読取り)
。この結果は、第2表に記載した。
はファラデー効果(実施例3および4)により読取るた
めには、GaAQAs−半導体レーザーを持続波運転で
1mW未満の光出力で使用する。未修正のビット誤差率
を常用の公知方法で時間間隔検光子(“time 1n
tervalanalyzer″、TIA)を用いて測
定した。このデータ板を書込み直後に読取り(1回目の
読取り)、引続き70℃および90%の相対湿度で10
00時間貯蔵し、次に再び読取った(2回目の読取り)
。この結果は、第2表に記載した。
比較試験 AおよびB
公知の記録材料の製造および性質
実施例1〜4で記載された試験規定により、構造および
組成の点でトイ・ジ連邦共和国特許出願公開第3335
689号明細書から公知の試料A−2およびB−5と同
じ2つのデータ板を得た。比較板の構成は、第1表中で
本発明によるデータ板の構成と対比して示しである。
組成の点でトイ・ジ連邦共和国特許出願公開第3335
689号明細書から公知の試料A−2およびB−5と同
じ2つのデータ板を得た。比較板の構成は、第1表中で
本発明によるデータ板の構成と対比して示しである。
公知のデータ板を実施例1〜4の記載と同様にして磁化
し、データを書込み、読取り、かつ試験した。この場合
に得られた試験結果は、第2表中で実施例1〜4の値と
比較されている。
し、データを書込み、読取り、かつ試験した。この場合
に得られた試験結果は、第2表中で実施例1〜4の値と
比較されている。
この比較によれば、公知の組成の記録材料は、本発明に
よる記録材料よりも貯蔵安定性の点で劣り、このことに
より、公知の記録材料のピ・ノド誤差率が明らかに上昇
されたことを認めることができる。
よる記録材料よりも貯蔵安定性の点で劣り、このことに
より、公知の記録材料のピ・ノド誤差率が明らかに上昇
されたことを認めることができる。
第2表:比較試験の結果
2 10−’ 1
0−’3 10−’
10−1′4 10−’
10−’比較試験
0−’3 10−’
10−1′4 10−’
10−’比較試験
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光透過性担体と、無定形ランタニド遷移金属合金か
らの熱変化可能な記録層と、この記録層の担体から離れ
た面上の炭化物、窒化物および/または酸化物を含有す
る多層耐蝕層とを有する平面状の磁気光学的多層記録材
料において、耐蝕層が a)30〜250nmの厚さであり、 b)2つまたはそれ以上の成分からなり、これらの成分
が c)成分のうちのそれぞれ1つからなる4つまたはそれ
以上の分離層中に存在し、この場合 d)成分の少なくとも1つは、硼素、アルミニウム、珪
素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンおよびタングス
テンの元素の群から選択され、 e)成分の少なくとももう1つは、前記元素(d)の炭
化物、窒化物および酸化物の群から選択され、その際 f)直接隣接した位置は、常に互いに異なる成分からな
ることを特徴とする、平面状の磁気光学的多層記録材料
。 2、分離層がほぼ同じ厚さの耐蝕層である、請求項1記
載の記録材料。 3、耐蝕層の最上層が酸化物層である、請求項1または
2記載の記録材料。 4、成分(d)として唯1つの元素を使用し、かつ成分
(e)として前記成分の炭化物、窒化物および/または
酸化物を使用する、請求項1から3までのいずれか1項
に記載の記録材料。 5、耐蝕層が4つまたは5つの分離層中に存在する3つ
の成分からなり、この場合成分の1つは、アルミニウム
、珪素およびチタンから選択され、かつ他の2つの成分
は、炭化硼素、炭化アルミニウム、炭化珪素および炭化
チタン、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化珪素および
窒化チタンならびに酸化アルミニウム、酸化珪素および
酸化チタンから選択されている、請求項1から4までの
いずれか1項に記載の記録材料。 6、酸化アルミニウム、酸化珪素および酸化チタンの群
からの少なくとも1つの成分を使用する、請求項5記載
の記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3716736.7 | 1987-05-19 | ||
DE19873716736 DE3716736A1 (de) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | Flaechenfoermiges, mehrschichtiges, magneto-optisches aufzeichnungsmaterial |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63308753A true JPS63308753A (ja) | 1988-12-16 |
Family
ID=6327871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63115000A Pending JPS63308753A (ja) | 1987-05-19 | 1988-05-13 | 平面状の磁気光学的多層記録材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4994330A (ja) |
EP (1) | EP0291847B1 (ja) |
JP (1) | JPS63308753A (ja) |
DE (2) | DE3716736A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01169759A (ja) * | 1987-12-24 | 1989-07-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録担体 |
DE3803000A1 (de) * | 1988-02-02 | 1989-08-10 | Basf Ag | Flaechenfoermiges, mehrschichtiges magneto-optisches aufzeichnungsmaterial |
DE3803013A1 (de) * | 1988-02-02 | 1989-08-10 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung eines flaechenfoermigen, mehrschichtigen, magneto-optischen aufzeichnungsmaterials |
JP2955112B2 (ja) * | 1992-03-13 | 1999-10-04 | シャープ株式会社 | 光磁気記憶媒体 |
US5480695A (en) * | 1994-08-10 | 1996-01-02 | Tenhover; Michael A. | Ceramic substrates and magnetic data storage components prepared therefrom |
US6699450B2 (en) | 1999-01-08 | 2004-03-02 | Redunndant Materials, Inc. | Carbide material by electromagnetic processing |
US6537686B1 (en) | 1999-05-19 | 2003-03-25 | Seagate Technology Llc | Magneto-resistance recording media comprising a silicon nitride corrosion barrier layer and a C-overcoat |
WO2011140581A1 (en) * | 2010-05-11 | 2011-11-17 | Panorama Synergy Ltd | A multi-layer magneto-optic structure |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4649451A (en) * | 1982-09-27 | 1987-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium having alternately-layered high and low refractive index layers |
DE3247172A1 (de) * | 1982-12-21 | 1984-06-28 | Fa. A.W. Faber-Castell, 8504 Stein | Tintenfoermiger nagellack |
JPS59227056A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-20 | Canon Inc | 光磁気記録媒体 |
JPS6124041A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-01 | Canon Inc | 光学的磁気記録媒体 |
JPS6129437A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-10 | Canon Inc | 光磁気記録媒体 |
JPS6157052A (ja) * | 1984-08-28 | 1986-03-22 | Canon Inc | 光学的記録媒体 |
JPS6180640A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-24 | Canon Inc | 光学的記録媒体 |
-
1987
- 1987-05-19 DE DE19873716736 patent/DE3716736A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-05-11 EP EP88107587A patent/EP0291847B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-11 DE DE8888107587T patent/DE3877053D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-13 JP JP63115000A patent/JPS63308753A/ja active Pending
-
1990
- 1990-03-13 US US07/492,211 patent/US4994330A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0291847A3 (en) | 1990-03-21 |
EP0291847A2 (de) | 1988-11-23 |
US4994330A (en) | 1991-02-19 |
EP0291847B1 (de) | 1992-12-30 |
DE3716736A1 (de) | 1988-12-01 |
DE3877053D1 (de) | 1993-02-11 |
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