JPS63300444A - 光ディスク用フォトマスクおよびその製造方法 - Google Patents
光ディスク用フォトマスクおよびその製造方法Info
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- JPS63300444A JPS63300444A JP13661587A JP13661587A JPS63300444A JP S63300444 A JPS63300444 A JP S63300444A JP 13661587 A JP13661587 A JP 13661587A JP 13661587 A JP13661587 A JP 13661587A JP S63300444 A JPS63300444 A JP S63300444A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は光ディスク用フォトマスクに関し、特に元ディ
スクの製造工程におけるパターン露光工程（リソグラフ
ィー）で用いられる遮光性マスク用材料およびその製造
方法に関する。
スクの製造工程におけるパターン露光工程（リソグラフ
ィー）で用いられる遮光性マスク用材料およびその製造
方法に関する。
〈従来技術〉
第３図（ｅ）に従来の光ディスクのパターン露光工程で
用いられるフォトマスクの断面形状を示す。
用いられるフォトマスクの断面形状を示す。
喀
このフォトマスクの製造は次のような方法でるされる。
まず、第３図（ａ）に示すように、石英、ガラス等の素
材からなる平板の透光性マスク基板１の上面にクロム（
Ｃｒ）を遮光性材料として蒸着により付着して遮光性材
料層２を形成する。
材からなる平板の透光性マスク基板１の上面にクロム（
Ｃｒ）を遮光性材料として蒸着により付着して遮光性材
料層２を形成する。
次に、第３図（ｂ）に示すように、前記遮光性材料層２
の上面に、感光性レジスト膜３を形成する。
の上面に、感光性レジスト膜３を形成する。
次に、その感光性レジスト膜３上に所望の微細パターン
を投影し、露光・現像して、第３図（ｃ）に示すように
必要な部分のみを残したレジスト膜３′とする。
を投影し、露光・現像して、第３図（ｃ）に示すように
必要な部分のみを残したレジスト膜３′とする。
次に化学溶液によるウェットエツチングまたはｃｌ！２
等の塩素系のガスによるドライエツチングを行い、レジ
スト膜３′がない部分の遮光性材料層２を除去し、第３
図（ｄ）に示すように、必要な部分のみ残した透光性材
料層２′とする。最後に、有機溶剤あるいはプラズマ法
等によりレジスト層３を除去する。
等の塩素系のガスによるドライエツチングを行い、レジ
スト膜３′がない部分の遮光性材料層２を除去し、第３
図（ｄ）に示すように、必要な部分のみ残した透光性材
料層２′とする。最後に、有機溶剤あるいはプラズマ法
等によりレジスト層３を除去する。
これにより第３図（ｅ）に示すようなフォトマスク２０
が得られる。
が得られる。
以上の従来のフォトマスクではクロム（Ｃｒ）をウェッ
トプロセスで作製するため大量の薬品処理。
トプロセスで作製するため大量の薬品処理。
液組成の管理、クロム廃液による公害等の問題点があっ
た。また、蒸着法によりクロム膜を作製するためフォト
マスクの洗浄等により外力が加わると遮光性材料層が剥
離し易いという問題点がある。
た。また、蒸着法によりクロム膜を作製するためフォト
マスクの洗浄等により外力が加わると遮光性材料層が剥
離し易いという問題点がある。
〈発明の目的〉
本発明の目的とするところは、エツチングプロセスにお
いて公害等の問題のない遮光性材料及びその製造方法を
提供することにある。
いて公害等の問題のない遮光性材料及びその製造方法を
提供することにある。
く作用〉
本発明のフォトマスクは従来のフォトマスク製造方法の
技術を利用して作製することが可能なため、新たな設備
負担が少なくて済み、容易に実施できる利点がある。
技術を利用して作製することが可能なため、新たな設備
負担が少なくて済み、容易に実施できる利点がある。
〈実施例〉
以下、図面に基づいて本発明の一実施例を詳しく説明す
る。
る。
第１図（ａ）〜（ｅ）を参照し本発明のフォトマスクの
製造方法を順に説明する。
製造方法を順に説明する。
まず第１図（ａ）に示すように石英、ガラス等の素材か
らなる平板の遮光性マスク基板１上にタンタル（Ｔａ）
またはチタン（Ｔｉ）またはそれらの混合物をスパッタ
リング法または蒸着法により付着して遮光性材料層４を
形成する。
らなる平板の遮光性マスク基板１上にタンタル（Ｔａ）
またはチタン（Ｔｉ）またはそれらの混合物をスパッタ
リング法または蒸着法により付着して遮光性材料層４を
形成する。
この遮光性材料層４をＴａで形成する場合の膜厚は、超
高圧水銀灯の発光スペクトルであり、レジストの感光に
最も寄与する光の波長λ＝３６５０ＡのＴａ膜厚に対す
る透過率の関係を示す第２図から求めることができる。
高圧水銀灯の発光スペクトルであり、レジストの感光に
最も寄与する光の波長λ＝３６５０ＡのＴａ膜厚に対す
る透過率の関係を示す第２図から求めることができる。
第２図から透過率がＯとなる膜厚は８００Ａ以上となり
、Ｔａは最低８００Ａ６ればよいことになる。
、Ｔａは最低８００Ａ６ればよいことになる。
次に遮光性材料層４の上にポジ型又はネガ型フォトレジ
ストをスピンコード法により塗布して感光性レジスト膜
３を形成し、該感光性レジスト膜３にレーザー光等を用
いて所望の微細パターンを露光し、現像し、第１図（ｃ
）に示すように必要な部分のみを残したレジスト膜４′
とする。
ストをスピンコード法により塗布して感光性レジスト膜
３を形成し、該感光性レジスト膜３にレーザー光等を用
いて所望の微細パターンを露光し、現像し、第１図（ｃ
）に示すように必要な部分のみを残したレジスト膜４′
とする。
次にＣＦ４によるドライエツチングにより異方性エツチ
ングを施し、第１図（Ｃ）に示すようにレジスト膜３′
で覆われていない部分に溝５を形成した透光性マスク基
板とする。
ングを施し、第１図（Ｃ）に示すようにレジスト膜３′
で覆われていない部分に溝５を形成した透光性マスク基
板とする。
次に第１図（ｅ）に示すようにアッシング（灰化）等に
より、レジスト膜３′を除去する。
より、レジスト膜３′を除去する。
かくして、本発明に係るフォトマスク１ｏが得られる。
以上の製法において洗浄等により外方が加わっても剥離
しにくくする方法としては、Ｔａ、Ｔｉ膜等をスパッタ
法で作製する方法が有効である。
しにくくする方法としては、Ｔａ、Ｔｉ膜等をスパッタ
法で作製する方法が有効である。
〈発明の効果〉
本発明によればマスク作製過程におけるエツチングプロ
セスにおいてウェットエツチングを用いずドライエツチ
ングを用いることが可能となり、またエツチングガスも
ＣＦ４を用いるため、無公害のエツチングプロセスが可
能となり、実用性に優れた方法である。
セスにおいてウェットエツチングを用いずドライエツチ
ングを用いることが可能となり、またエツチングガスも
ＣＦ４を用いるため、無公害のエツチングプロセスが可
能となり、実用性に優れた方法である。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明にかかるフォトマスクの
製造方法の一実施例の各工程における断面図、第２図は
Ｔａ膜厚と透過率の関係を示すグラフ図、第３図は従来
のフォトマスクの製造方法の一例の断面図である。 図中 １・・・透光性マスク基板、１０．２０・・・フォトマ
スク、２，２′・・・遮光性材料層Ｃｒ、３．３’・・
・レジスト膜、４，４・・・遮光性材料層Ｔａ又はＴｉ
、５・・・溝。 代理人 弁理士 杉 山 毅 至（他１名）ＩＯ 第１因 ２００ ４凌α℃初 ｌ１ｌ−４（λ） 第２図
製造方法の一実施例の各工程における断面図、第２図は
Ｔａ膜厚と透過率の関係を示すグラフ図、第３図は従来
のフォトマスクの製造方法の一例の断面図である。 図中 １・・・透光性マスク基板、１０．２０・・・フォトマ
スク、２，２′・・・遮光性材料層Ｃｒ、３．３’・・
・レジスト膜、４，４・・・遮光性材料層Ｔａ又はＴｉ
、５・・・溝。 代理人 弁理士 杉 山 毅 至（他１名）ＩＯ 第１因 ２００ ４凌α℃初 ｌ１ｌ−４（λ） 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光ディスクの製造工程におけるパターン露光で用い
られるマスク用材料としてタンタルまたはチタンまたは
それらの混合物を用いたことを特徴とする光ディスク用
フォトマスク。 ２、タンタルまたはチタンからなる光ディスク用マスク
材料にて構成された膜にドライエッチングを施し、微細
パターンを形成するようにしてなることを特徴とする光
ディスク用フォトマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13661587A JPS63300444A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 光ディスク用フォトマスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13661587A JPS63300444A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 光ディスク用フォトマスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63300444A true JPS63300444A (ja) | 1988-12-07 |
Family
ID=15179445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13661587A Pending JPS63300444A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 光ディスク用フォトマスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63300444A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2701151A1 (fr) * | 1993-02-03 | 1994-08-05 | Digipress Sa | Procédé de fabrication d'une matrice de pressage, notamment pour la réalisation de disques optiques, matrice de pressage obtenue par ce procédé et produit, tel que disque optique, obtenu à partir de cette matrice de pressage. |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP13661587A patent/JPS63300444A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2701151A1 (fr) * | 1993-02-03 | 1994-08-05 | Digipress Sa | Procédé de fabrication d'une matrice de pressage, notamment pour la réalisation de disques optiques, matrice de pressage obtenue par ce procédé et produit, tel que disque optique, obtenu à partir de cette matrice de pressage. |
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