JPS63298912A - 絶縁伝送導体 - Google Patents
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、絶縁電線のような絶縁伝送導体に関するも
のである。
のである。
一般に、絶縁エナメル電線の多くは、ポリエステル樹脂
′を主成分とするワニスを電線の外周面に塗布し、加熱
して絶縁皮膜化することによって製造されている。この
ようにして得られた絶縁電線の絶縁皮膜は高い電気絶縁
性を備えていると同時に優れた機械特性を有し、かつ耐
熱性にも比較的価れている。しかしながら、高度の耐熱
性が要求される場合には、イミド環を分子構造中に含む
ポリエステル樹脂を主成分とするワニスの塗布、焼付け
が行われている。
′を主成分とするワニスを電線の外周面に塗布し、加熱
して絶縁皮膜化することによって製造されている。この
ようにして得られた絶縁電線の絶縁皮膜は高い電気絶縁
性を備えていると同時に優れた機械特性を有し、かつ耐
熱性にも比較的価れている。しかしながら、高度の耐熱
性が要求される場合には、イミド環を分子構造中に含む
ポリエステル樹脂を主成分とするワニスの塗布、焼付け
が行われている。
しかしながら、上記のような分子構造中にイミド環を含
むポリエステル樹脂からなる絶縁皮膜は、耐熱性には冨
んでいるものの、ポリエステル樹脂が、イミド環の存在
により剛直構造となっているため可撓性に欠け、導体と
の密着性が低く、絶縁電線を曲成するとひび割れすると
いうような難点を生じている。
むポリエステル樹脂からなる絶縁皮膜は、耐熱性には冨
んでいるものの、ポリエステル樹脂が、イミド環の存在
により剛直構造となっているため可撓性に欠け、導体と
の密着性が低く、絶縁電線を曲成するとひび割れすると
いうような難点を生じている。
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、耐
熱性に優れた絶縁皮膜が強固に密着形成された絶縁伝送
導体の提供をその目的とする。
熱性に優れた絶縁皮膜が強固に密着形成された絶縁伝送
導体の提供をその目的とする。
上記の目的を達成するため、この発明の絶縁伝送導体は
、分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹脂を主成
分とし、酸性リン化合物が上記ポリエステル樹脂の余剰
アルコール性水酸基の0.05〜3.0当量%含有され
ているワニスを伝送導体ニ塗工し絶縁皮膜化させてなる
という構成をとる。
、分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹脂を主成
分とし、酸性リン化合物が上記ポリエステル樹脂の余剰
アルコール性水酸基の0.05〜3.0当量%含有され
ているワニスを伝送導体ニ塗工し絶縁皮膜化させてなる
という構成をとる。
すなわち、本発明者らは、分子構造中にイミド環を含む
ポリエステル樹脂からなる絶縁皮膜の可撓性を向上させ
るため一連の研究を重ねた結果、上記絶縁皮膜の可撓性
は、下地材との密着性と相関があることをつきとめた。
ポリエステル樹脂からなる絶縁皮膜の可撓性を向上させ
るため一連の研究を重ねた結果、上記絶縁皮膜の可撓性
は、下地材との密着性と相関があることをつきとめた。
そして、これを中心にさらに研究を重ねた結果、上記の
ような、分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹脂
を主成分とするワニス中に、上記ポリエステル樹脂の余
剰アルコール性水酸基に対して所定量の酸性リン化合物
を添加すると、絶縁皮膜の特性を低下させることなく可
撓性を改善しうろことを見いだしこの発明に到達した。
ような、分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹脂
を主成分とするワニス中に、上記ポリエステル樹脂の余
剰アルコール性水酸基に対して所定量の酸性リン化合物
を添加すると、絶縁皮膜の特性を低下させることなく可
撓性を改善しうろことを見いだしこの発明に到達した。
この発明の絶縁伝送導体は、分子構造中にイミド環を含
むポリエステル樹脂と酸性リン化合物と伝送導体とを用
いて得られる。
むポリエステル樹脂と酸性リン化合物と伝送導体とを用
いて得られる。
上記伝送導体としては、電線があげられ、それ以外に光
ファイバー等もあげられる。
ファイバー等もあげられる。
また、上記分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹
脂は、多塩基酸類と多価アルコールとを反応させること
によって得られる。
脂は、多塩基酸類と多価アルコールとを反応させること
によって得られる。
上記多塩基酸類としては、テレフタル酸、イソフタル酸
、ナフタレンジカルボン酸ないしはこれらのジメチルエ
ステルがあげられ、さらにコハク酸、アジピン酸等があ
げられる。そして、ポリエステル樹脂の分子構造中にイ
ミド環を含有させるために下記の一般式(1)および(
2)で表されるジカルボン酸も単独でもしくは併せて上
記酸類とともに用いられる。
、ナフタレンジカルボン酸ないしはこれらのジメチルエ
ステルがあげられ、さらにコハク酸、アジピン酸等があ
げられる。そして、ポリエステル樹脂の分子構造中にイ
ミド環を含有させるために下記の一般式(1)および(
2)で表されるジカルボン酸も単独でもしくは併せて上
記酸類とともに用いられる。
(1!1
]111
(余 白 )
上記一般式(1)で表されるイミド酸は、ジアミンまた
はジイソシアネート1モルに対してトリカルボン酸無水
物2モルを反応させることにより得られる。
はジイソシアネート1モルに対してトリカルボン酸無水
物2モルを反応させることにより得られる。
上記Rとしては、
等を例示でき、耐熱性の点からトリメリット酸骨格のも
のが好ましい。また、R゛とじては、F3 Cll3 CHz (トcH2−(EE)− 等を例示でき、これらにメチル基等の低級アルキル基、
メトキシ基等の低級アルコキシ基、塩素。
のが好ましい。また、R゛とじては、F3 Cll3 CHz (トcH2−(EE)− 等を例示でき、これらにメチル基等の低級アルキル基、
メトキシ基等の低級アルコキシ基、塩素。
臭素等のハロゲンを置換基として結合したものも使用可
能である。 − −i式(2)で表されるイミド酸は、テトラカルボン酸
二無水物とジアミンまたはジイソシアネートを1:20
モル比で反応させて得られるイミド基含有ジアミン1モ
ルに対し、二価のカルボン酸を2モルの割合で混合反応
させて得られるものである。
能である。 − −i式(2)で表されるイミド酸は、テトラカルボン酸
二無水物とジアミンまたはジイソシアネートを1:20
モル比で反応させて得られるイミド基含有ジアミン1モ
ルに対し、二価のカルボン酸を2モルの割合で混合反応
させて得られるものである。
R”としては、゛
+、や2℃σ、 C)lzGHz 、→C1l□h
等を例示できる。
等を例示できる。
R”″はR′ と同じものが使用可能である。
R″′としては、寡、尊 、メンて江 。
イミド化合物は、溶剤への溶解性が悪く、クレゾール、
フェノールあるいは非プロトン性有機溶剤であるN−メ
チルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の存在下、150〜
250℃に加熱して反応水を留去して合成する必要があ
る。イミド骨格含有ジカルボン酸は、単独で合成して使
用することもできるが、ポリエステル合成時に原料を仕
込んでポリエステルとともに得ることができる。
フェノールあるいは非プロトン性有機溶剤であるN−メ
チルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の存在下、150〜
250℃に加熱して反応水を留去して合成する必要があ
る。イミド骨格含有ジカルボン酸は、単独で合成して使
用することもできるが、ポリエステル合成時に原料を仕
込んでポリエステルとともに得ることができる。
また、溶剤にヘンゼン、キシレン、トルエン等の水と共
沸する炭化水素溶剤を加え、イミド化、エステル化によ
って生成する反応水を共沸によって系外に除去しながら
重合させることもできる。
沸する炭化水素溶剤を加え、イミド化、エステル化によ
って生成する反応水を共沸によって系外に除去しながら
重合させることもできる。
上記のようなイミド酸は、イミド環を含むポリエステル
樹脂においてそのイミド基の含有率が下記の式 で表される値が5〜40になるように他の多塩基酸類と
併用して使用される。
樹脂においてそのイミド基の含有率が下記の式 で表される値が5〜40になるように他の多塩基酸類と
併用して使用される。
上記イミド酸は、通常、上記の値を考慮し、テレフタル
酸等の多塩基酸成分の60当量%以下の割合になるよう
使用される。すなわち、イミド酸の使用割合が、上記の
範囲を上回ると、ポリエステル樹脂の溶剤に対する溶解
性が悪くなり、溶剤を多く必要とし、経済性の低下をも
たらす傾向がみられるからである。
酸等の多塩基酸成分の60当量%以下の割合になるよう
使用される。すなわち、イミド酸の使用割合が、上記の
範囲を上回ると、ポリエステル樹脂の溶剤に対する溶解
性が悪くなり、溶剤を多く必要とし、経済性の低下をも
たらす傾向がみられるからである。
上記のような多塩基酸類と反応させる多価アルコールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブタンジオール等の二価アルコールがあげられる。より
好ましいのはこのような二価アルコールにグリセリン、
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ト
リス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレート、ペ
ンタエリスリトール等の三価以上のアルコールを多価ア
ルコール成分の20当世%以上、好ましくは20〜75
当量%併用することである。
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブタンジオール等の二価アルコールがあげられる。より
好ましいのはこのような二価アルコールにグリセリン、
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ト
リス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレート、ペ
ンタエリスリトール等の三価以上のアルコールを多価ア
ルコール成分の20当世%以上、好ましくは20〜75
当量%併用することである。
分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹脂は、上記
のような多塩基酸類と多価アルコール成分を混合して1
50〜250℃に加熱し、脱水。
のような多塩基酸類と多価アルコール成分を混合して1
50〜250℃に加熱し、脱水。
脱アルコール反応によって生じる水やアルコールを留去
することによって合成することができる。
することによって合成することができる。
この場合、多塩基酸類と多価アルコール成分との使用割
合は、多塩基酸のカルボキシル基に対して多価アルコー
ル成分のアルコール性水酸基が20〜80当量%過剰に
なるように設定し反応させることが好適である。このよ
うにアルコール成分の過剰下で反応させることによって
未反応で残存するカルボキシル基が少なくなり、そのカ
ルボキシル基による金属の腐蝕が防止されるようになる
と同時に、ポリエステル樹脂の高分子量化に基づく塗装
作業性の低下が防止されるようになる。また、アルコー
ル性水酸基が上記の範囲よりも上回ると、生成ポリエス
テル樹脂が低分子量になりすぎて、絶縁皮膜が脆くなり
、かつ耐熱性も低下する傾向がみられるようになる。し
たがって、多塩基酸類と多価アルコール成分とは、上記
のようにアルコール成分過剰な割合で反応させることが
好適である。
合は、多塩基酸のカルボキシル基に対して多価アルコー
ル成分のアルコール性水酸基が20〜80当量%過剰に
なるように設定し反応させることが好適である。このよ
うにアルコール成分の過剰下で反応させることによって
未反応で残存するカルボキシル基が少なくなり、そのカ
ルボキシル基による金属の腐蝕が防止されるようになる
と同時に、ポリエステル樹脂の高分子量化に基づく塗装
作業性の低下が防止されるようになる。また、アルコー
ル性水酸基が上記の範囲よりも上回ると、生成ポリエス
テル樹脂が低分子量になりすぎて、絶縁皮膜が脆くなり
、かつ耐熱性も低下する傾向がみられるようになる。し
たがって、多塩基酸類と多価アルコール成分とは、上記
のようにアルコール成分過剰な割合で反応させることが
好適である。
なお、上記のエステル化反応を促進させるため触媒を用
いることも有効である。上記触媒としては、亜鉛、錫、
カドミウム、マンガン、鉄、コバルト、鉛等の金属の有
機金属塩やチタン化合物があげられる。その代表例とし
ては、酢酸亜鉛、酢酸カドミウム、ジブチル錫ラウレー
ト、ブチルチタネート等があげられる。触媒の使用量は
、全反応成分量に対し0.05〜0.2重量%である。
いることも有効である。上記触媒としては、亜鉛、錫、
カドミウム、マンガン、鉄、コバルト、鉛等の金属の有
機金属塩やチタン化合物があげられる。その代表例とし
ては、酢酸亜鉛、酢酸カドミウム、ジブチル錫ラウレー
ト、ブチルチタネート等があげられる。触媒の使用量は
、全反応成分量に対し0.05〜0.2重量%である。
また、反応促進のため反応を減圧下で行うことも有効で
ある。この場合、多価アルコールの使用量を上記以上に
することが好ましく、減圧後アルコール分が20〜80
当量%過剰になるように配合する、そして、上記エステ
ル化反応の終点は環球法による樹脂の軟化温度を測定し
て求めることができる。終点の値は出発原料の種類、溶
剤量によって異なるが、軟化温度80〜190℃程度の
ものが好適である。
ある。この場合、多価アルコールの使用量を上記以上に
することが好ましく、減圧後アルコール分が20〜80
当量%過剰になるように配合する、そして、上記エステ
ル化反応の終点は環球法による樹脂の軟化温度を測定し
て求めることができる。終点の値は出発原料の種類、溶
剤量によって異なるが、軟化温度80〜190℃程度の
ものが好適である。
この発明で用いる酸性リン化合物としては、オルトリン
酸、メタリン酸、亜リン酸1次リン酸。
酸、メタリン酸、亜リン酸1次リン酸。
次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸等0無機リン化合
物があげられる。また、下記に例示するりン化合物も好
適に使用される。これらのなかでもアミノ基、カルボキ
シル基を有するものを用いることが好結果をもたらす。
物があげられる。また、下記に例示するりン化合物も好
適に使用される。これらのなかでもアミノ基、カルボキ
シル基を有するものを用いることが好結果をもたらす。
0il OH
HzNCHzCIIzOP OH。
(以下余白)
COOHOH
OH
CHz=CH−@−P OH。
このような酸性リン化合物は、ポリエステル樹脂の余剰
アルコール性水酸基の0.05〜3.0当量%使用され
る。この意味は、酸性リン化合物のリンに直接結合して
いる水酸基がイミド環含有ポリエステル樹脂の余剰アル
コール性水酸基に対して0.05〜3.0当量%になる
ように酸性リン化合物が使用されることを意味している
。すなわち、酸性リン化合物の使用割合が、上記の範囲
を下回ると可撓性付与効果が生じなくなり、逆に上記の
範囲を上回ると電気絶縁性、耐水性、保存性の低下、金
属腐蝕等の不具合が生じるようになるからである。この
ような酸性リン化合物は、イミド環含有ポリエステル樹
脂の合成時に添加するとエステル化反応の触媒としても
作用するため、合成時に添加することが好適である。
アルコール性水酸基の0.05〜3.0当量%使用され
る。この意味は、酸性リン化合物のリンに直接結合して
いる水酸基がイミド環含有ポリエステル樹脂の余剰アル
コール性水酸基に対して0.05〜3.0当量%になる
ように酸性リン化合物が使用されることを意味している
。すなわち、酸性リン化合物の使用割合が、上記の範囲
を下回ると可撓性付与効果が生じなくなり、逆に上記の
範囲を上回ると電気絶縁性、耐水性、保存性の低下、金
属腐蝕等の不具合が生じるようになるからである。この
ような酸性リン化合物は、イミド環含有ポリエステル樹
脂の合成時に添加するとエステル化反応の触媒としても
作用するため、合成時に添加することが好適である。
このようにして得られたリン含有ポリエステル樹脂は、
通常、クレゾール、N−メチルピロリドン等の極性溶剤
に溶解されて電線等の伝送導体の外周に塗布され焼付け
される。この場合、不揮発分25〜50重量%、粘度1
0〜100ボイズ(30℃)に設定することが作業性の
観点から好適である。なお、上記溶剤としては、キシレ
ン、ナフサ等を上記溶剤100重量部に対して60重量
部以下の割合で添加して用いることができる。60重量
部を上回ると焼付は時に発泡が著しくなり好ましくない
。このようにして電線等の伝送導体の外周面に絶縁皮膜
が形成される。この場合、絶縁皮膜の特性向上および焼
付は速度短縮のために各種の添加剤を上記ワニスに添加
することが行われる。
通常、クレゾール、N−メチルピロリドン等の極性溶剤
に溶解されて電線等の伝送導体の外周に塗布され焼付け
される。この場合、不揮発分25〜50重量%、粘度1
0〜100ボイズ(30℃)に設定することが作業性の
観点から好適である。なお、上記溶剤としては、キシレ
ン、ナフサ等を上記溶剤100重量部に対して60重量
部以下の割合で添加して用いることができる。60重量
部を上回ると焼付は時に発泡が著しくなり好ましくない
。このようにして電線等の伝送導体の外周面に絶縁皮膜
が形成される。この場合、絶縁皮膜の特性向上および焼
付は速度短縮のために各種の添加剤を上記ワニスに添加
することが行われる。
上記添加剤としては、鉄、チタン、アルミニウム、ジル
コニウム等の金属原子を有する有機化合物、例えばテト
ラブチルチタネート、アルミニウムトリス(アセチルア
セトネート)、ジルコニウムテトラキス(アセチルアセ
トネート)等があげられる。また、熱によりポリイソシ
アネートを生成するブロック化ポリイソシアネート化合
物、例えばトリレンジイソシアネートの三量体のフェノ
ールブロック体ならびにフェノール樹脂、メラミン樹脂
等があげられる。これらは単独でもしくは併せて用い、
不揮発分の0.5〜30重量%程度使用することが可能
である。
コニウム等の金属原子を有する有機化合物、例えばテト
ラブチルチタネート、アルミニウムトリス(アセチルア
セトネート)、ジルコニウムテトラキス(アセチルアセ
トネート)等があげられる。また、熱によりポリイソシ
アネートを生成するブロック化ポリイソシアネート化合
物、例えばトリレンジイソシアネートの三量体のフェノ
ールブロック体ならびにフェノール樹脂、メラミン樹脂
等があげられる。これらは単独でもしくは併せて用い、
不揮発分の0.5〜30重量%程度使用することが可能
である。
上記ワニスの焼付けは、溶剤を揮散させるための100
〜300℃加熱、これに続く250〜450℃加熱によ
って行われる。焼付けが少な過ぎると塗膜が脆くなり可
撓性が悪くなる。焼付けが過剰になると塗膜の劣化を生
じ同様に可撓性の低下、密着性の低下をもたらす。さら
に絶縁皮膜は多層塗りすると発泡が起こりにくく平滑な
塗膜が得られ、かつピンホールの発生防止効果も得られ
るため、通常は多層塗りが行われる。
〜300℃加熱、これに続く250〜450℃加熱によ
って行われる。焼付けが少な過ぎると塗膜が脆くなり可
撓性が悪くなる。焼付けが過剰になると塗膜の劣化を生
じ同様に可撓性の低下、密着性の低下をもたらす。さら
に絶縁皮膜は多層塗りすると発泡が起こりにくく平滑な
塗膜が得られ、かつピンホールの発生防止効果も得られ
るため、通常は多層塗りが行われる。
この発明の絶縁伝送導体は、以上のように構成されてお
り、イミド環含有ポリエステル樹脂の作用によって絶縁
皮膜が耐熱性に富んでいると同時に酸性リン化合物の作
用により絶縁皮膜が電線等の下地材に強固に密着してお
り、したがって、絶縁皮膜の可撓性が大になっている。
り、イミド環含有ポリエステル樹脂の作用によって絶縁
皮膜が耐熱性に富んでいると同時に酸性リン化合物の作
用により絶縁皮膜が電線等の下地材に強固に密着してお
り、したがって、絶縁皮膜の可撓性が大になっている。
そのため、曲成しても絶縁皮膜等にひび割れ等が生じな
い。
い。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
〔実施例1〕
テレフタル酸1モル、エチレングリコール0.89モル
、トリス(2−ヒドロキシエチル)インシアヌレート0
.87モルを混合し、これにグリシン−N、N−ビス(
メチレンホスホニック酸)0.0005モル加え、21
0〜215℃に加熱し、液が透明になるまで混合、水の
留去を行った。
、トリス(2−ヒドロキシエチル)インシアヌレート0
.87モルを混合し、これにグリシン−N、N−ビス(
メチレンホスホニック酸)0.0005モル加え、21
0〜215℃に加熱し、液が透明になるまで混合、水の
留去を行った。
つぎに、上記反応物に、無水トリメリット酸0゜56モ
ル、メチレンジアニリン0.28モルを加え、メタクレ
ゾールをさらに加え、樹脂分を70重量%とじた。これ
を220〜230℃に加熱し水を留去し樹脂の軟化点9
8℃になった段階で反応を中止し、イミド環を含むポリ
エステル樹脂を合成した。
ル、メチレンジアニリン0.28モルを加え、メタクレ
ゾールをさらに加え、樹脂分を70重量%とじた。これ
を220〜230℃に加熱し水を留去し樹脂の軟化点9
8℃になった段階で反応を中止し、イミド環を含むポリ
エステル樹脂を合成した。
このようにして得られた樹脂を工業用クレゾールと高沸
点ナフサの混合溶剤に溶解しイミド合成時のクレゾール
を含めクレゾール、ナフサ比7:3 (重量比)の溶液
とした。
点ナフサの混合溶剤に溶解しイミド合成時のクレゾール
を含めクレゾール、ナフサ比7:3 (重量比)の溶液
とした。
つぎに、上記溶液に、トリレンジイソシアネート3量体
のp−クレゾールブロック体を樹脂分に対して5.5重
量%、テトラブチルチタネートを樹脂分に対して5重量
%、p−クレヅールーホルムアルデヒド樹脂(軟化温度
56℃9重量平均分子量1000)を樹脂分に対して5
重量%加え、不揮発分43重量%(200℃、2h)、
粘度38ポイズの溶液を得た。
のp−クレゾールブロック体を樹脂分に対して5.5重
量%、テトラブチルチタネートを樹脂分に対して5重量
%、p−クレヅールーホルムアルデヒド樹脂(軟化温度
56℃9重量平均分子量1000)を樹脂分に対して5
重量%加え、不揮発分43重量%(200℃、2h)、
粘度38ポイズの溶液を得た。
〔実施例2〕
テレフタル酸1.8モル、エチレングリコール2モル、
グリセリン1モルを混合し、これに酢酸亜鉛0.1重量
%を加え、215〜220℃に加熱し、液が透明になる
まで混合し、水の留去を行った。
グリセリン1モルを混合し、これに酢酸亜鉛0.1重量
%を加え、215〜220℃に加熱し、液が透明になる
まで混合し、水の留去を行った。
このように合成したポリエステルポリオール樹脂に、無
水トリメリット酸0.4モル、メチレンジアニリン0.
2モル、O−ホスホリルエタノールアミン0.01モル
を加え、メタクレゾールをさらに加え、樹脂分を70重
量%とじた。これを210〜230℃に加熱し水を留去
し樹脂の軟化点102℃になった段階で反応を中止し、
イミド変性ポリエステルを合成した。
水トリメリット酸0.4モル、メチレンジアニリン0.
2モル、O−ホスホリルエタノールアミン0.01モル
を加え、メタクレゾールをさらに加え、樹脂分を70重
量%とじた。これを210〜230℃に加熱し水を留去
し樹脂の軟化点102℃になった段階で反応を中止し、
イミド変性ポリエステルを合成した。
このようにして得られたイミド変性ポリエステルを工業
用クレゾールと高沸点ナフサの混合溶剤に溶解しイミド
合成時のクレゾール、ナフサ比6:4 (重量比)の溶
液とした。
用クレゾールと高沸点ナフサの混合溶剤に溶解しイミド
合成時のクレゾール、ナフサ比6:4 (重量比)の溶
液とした。
つぎに、上記溶液に、樹脂分に対して5重量%のテトラ
ブチルチタネート 2重量%のオクテン酸コバルト10
%溶液を加え、不揮発分40重量%(200℃、2h)
、粘度45ポイズの溶液を得た。
ブチルチタネート 2重量%のオクテン酸コバルト10
%溶液を加え、不揮発分40重量%(200℃、2h)
、粘度45ポイズの溶液を得た。
〔実施例3〕
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールから工業
的に製造された固有粘度(ηsp/C)が0.73のポ
リエチレンテレフタレート樹脂の繰り返し単位2モル分
と、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアスレート
1.2モルとベンゼンホスホニック酸0.02モルを混
合し、220〜230℃で6時間加熱し、エステル交換
、解重合反応を行った。
的に製造された固有粘度(ηsp/C)が0.73のポ
リエチレンテレフタレート樹脂の繰り返し単位2モル分
と、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアスレート
1.2モルとベンゼンホスホニック酸0.02モルを混
合し、220〜230℃で6時間加熱し、エステル交換
、解重合反応を行った。
つぎに、上記反応物に、無水トリメリット酸2゜0モル
、ジアミノジフェニルエーテル1.0モルを加え、ピロ
リドンをさらに加え樹脂分を50重世%とした。これを
、180〜200℃に加熱し水を留去し樹脂の軟化点9
0℃になった段階で反応を中止し、イミド環を含むポリ
エステル樹脂を合成した。
、ジアミノジフェニルエーテル1.0モルを加え、ピロ
リドンをさらに加え樹脂分を50重世%とした。これを
、180〜200℃に加熱し水を留去し樹脂の軟化点9
0℃になった段階で反応を中止し、イミド環を含むポリ
エステル樹脂を合成した。
このようにして得られた樹脂溶液に工業用クレゾールを
加え、さらに樹脂分に対して3.5重量%のテトラブチ
ルチタネート、6重量%のp−クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂(軟化点56℃。
加え、さらに樹脂分に対して3.5重量%のテトラブチ
ルチタネート、6重量%のp−クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂(軟化点56℃。
重量平均分子量1000)を加え、不揮発分30重量%
(200℃、2h)、粘度50ボイズの溶液を得た。
(200℃、2h)、粘度50ボイズの溶液を得た。
〔実施例4〕
テレフタル酸2.0モル、イソフタル酸0.5モル、エ
チレングリコール1.7モル、グリセリン1.5モルを
混合−し、これにオルトリン酸0.002モルを加え、
210〜215℃に加熱し、液が透明になるまで混合、
水の留去を行った。
チレングリコール1.7モル、グリセリン1.5モルを
混合−し、これにオルトリン酸0.002モルを加え、
210〜215℃に加熱し、液が透明になるまで混合、
水の留去を行った。
つぎに、上記反応物に、ピロリドンを加え、さらにピロ
リ−トンに対して20%の無水トリメリット酸とメチレ
ンジアニリンを2:1 (モル比)の割合で加え、18
0℃5時間加熱脱水し、メタノールで沈澱させて得られ
たイミド酸粉末を0.3モルを加え、メタクレゾールを
さらに加え樹脂分80%にした。これを205〜215
℃に加熱し水を留去し樹脂の軟化点85℃になった段階
で反応を中止し、樹脂溶液を得た。
リ−トンに対して20%の無水トリメリット酸とメチレ
ンジアニリンを2:1 (モル比)の割合で加え、18
0℃5時間加熱脱水し、メタノールで沈澱させて得られ
たイミド酸粉末を0.3モルを加え、メタクレゾールを
さらに加え樹脂分80%にした。これを205〜215
℃に加熱し水を留去し樹脂の軟化点85℃になった段階
で反応を中止し、樹脂溶液を得た。
このようにして得られた樹脂溶液に工業用クレゾールと
低沸点のナフサの7:3 (重量比)混合液を加え、樹
脂分に対して5重量%のテトラブチルチタネートを加え
、不揮発分45重量%(200℃、2h)、粘度60ボ
イズの溶液を得た。
低沸点のナフサの7:3 (重量比)混合液を加え、樹
脂分に対して5重量%のテトラブチルチタネートを加え
、不揮発分45重量%(200℃、2h)、粘度60ボ
イズの溶液を得た。
〔比較例1〜4〕
実施例1〜4においてリン化合物を使用しないでポリエ
ステル樹脂を合成し、これを実施例1〜4と同様、クレ
ゾール、高沸点ナフサ混合溶剤に溶解した。
ステル樹脂を合成し、これを実施例1〜4と同様、クレ
ゾール、高沸点ナフサ混合溶剤に溶解した。
〔比較例5〕
実施例1において、オルトリン酸を0.05モル使用し
た。それ以外は実施例1と同様にしてポリエステル樹脂
を合成した。この場合、軟化点は115℃であり、テト
ラブチルチタネートを加えるとゲル化してしまった。
た。それ以外は実施例1と同様にしてポリエステル樹脂
を合成した。この場合、軟化点は115℃であり、テト
ラブチルチタネートを加えるとゲル化してしまった。
以上の実施例および比較例で得られた溶液(ワニス)の
特性およびこれを用いて得られた絶縁電線の特性を調べ
後記の表に示した。表から明らかなように、実施例品は
比較例品に比べて緒特性が優れていることがわかる。
特性およびこれを用いて得られた絶縁電線の特性を調べ
後記の表に示した。表から明らかなように、実施例品は
比較例品に比べて緒特性が優れていることがわかる。
(以下余白)
Claims (1)
- (1)分子構造中にイミド環を含むポリエステル樹脂を
主成分とし、酸性リン化合物が上記ポリエステル樹脂の
余剰アルコール性水酸基の0.05〜3.0当量%含有
されているワニスを伝送導体に塗工し絶縁皮膜化させて
なる絶縁伝送導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13431487A JPS63298912A (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | 絶縁伝送導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13431487A JPS63298912A (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | 絶縁伝送導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63298912A true JPS63298912A (ja) | 1988-12-06 |
Family
ID=15125403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13431487A Pending JPS63298912A (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | 絶縁伝送導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63298912A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002184239A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-28 | Asahi Denka Kogyo Kk | コイル電線用被覆材料組成物 |
CN109232849A (zh) * | 2018-06-08 | 2019-01-18 | 青岛海尔股份有限公司 | 阻燃多元醇组合物及其制备方法、应用 |
-
1987
- 1987-05-28 JP JP13431487A patent/JPS63298912A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002184239A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-28 | Asahi Denka Kogyo Kk | コイル電線用被覆材料組成物 |
CN109232849A (zh) * | 2018-06-08 | 2019-01-18 | 青岛海尔股份有限公司 | 阻燃多元醇组合物及其制备方法、应用 |
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