JPS6329332B2 - - Google Patents
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- JPS6329332B2 JPS6329332B2 JP10830579A JP10830579A JPS6329332B2 JP S6329332 B2 JPS6329332 B2 JP S6329332B2 JP 10830579 A JP10830579 A JP 10830579A JP 10830579 A JP10830579 A JP 10830579A JP S6329332 B2 JPS6329332 B2 JP S6329332B2
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関
し、さらに詳しくは、磁気特性および耐擦傷性に
優れ、かつ強磁性金属薄膜層の高分子成形物から
なる基体に対する接着性が改善された強磁性金属
薄膜型磁気記録媒体に関する。 〔従来の技術〕 近年、磁気記録の高密度化に対応して、ポリエ
ステル、ポリイミド、ポリアミド等の高分子成形
物からなるベースフイルム上に、強磁性金属また
はその合金あるいはこれらの金属を含む化合物か
らなる強磁性金属薄膜層を蒸着等によつて被着形
成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒体が開発され
ている。この種の磁気記録媒体は、従来の磁性粉
末を有機バインダー中に分散して塗布する塗布型
磁気記録媒体に比べ高密度記録に適した特性を有
するが、高分子成形物からなるベースフイルムが
結晶質部分と無定形部分とからなる微細な結晶性
組織を有し本質的に不均一である上に、延伸など
の機械的処理による配向組織や、表面の平滑性を
調節するための充填粒子の存在、さらに汚染物質
の吸着などによつて表面がさらに不均一になり、
このベースフイルム表面の不均一性が原因となつ
てこの上に蒸着等によつて被着形成される強磁性
金属薄膜層が不均一になり易く、このためノイズ
が高くなり、又出力変動も大きくなつて所望の磁
気特性を有する強磁性金属薄膜層が得られにくい
難点がある。又ベースフイルムが無極性高分子で
ある場合や低分子量の汚染物質がベースフイルム
表面に吸着されている場合ベースフイルムと強磁
性金属薄膜層との接着力が弱く、このため強磁性
金属薄膜層が高分子成形物からなるベースフイル
ムから剥離し易く、耐擦傷性等の機械的性質も劣
る。 そこで、このような欠点を克服する手段として
強磁性金属薄膜層の下に非磁性金属又はその酸化
物からなる一層の下地膜層を介在させることが提
案されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、金属からなる下地膜層では磁気特性
が改善されるもの高分子成形物からなる基体との
接着性を充分に改善し得ず、金属酸化物からなる
下地膜層では基体との接着性に優れる反面下地膜
層表面が荒れ易く、充分に満足できる磁気特性が
得られない。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明はかかる問題を解決するため種々検討
を行つた結果なされたもので、高分子成形物から
なる基体と強磁性金属薄膜層との間に介在させる
下地膜層を二層構造にし、下層となる第１の下地
膜層を酸化アルミニウムもしくは酸化ケイ素或い
は両者の混合物で形成し、上層となる第２の下地
膜層をクロム、タンタル、ニツケルから選ばれる
１種又は２種以上の金属で形成することにより所
期の目的を達成したものである。 この発明によれば、下地膜層を二層構造にし、
高分子成形物からなる基体と接する第１の下地膜
層を活性で比較的緻密な被膜を形成する前記酸化
物で形成しているため、酸化によつて活性化され
たこれらの酸化物がたとえばポリエステルベース
フイルムのOH基等と反応して高分子成形物から
なる基体に対して良好な接着性を示し、また、強
磁性金属薄膜層と接する第２の下地膜層は結晶成
長が均一な前記金属で形成されているため、平滑
性のよい緻密な第２の下地膜層が形成される。こ
のためこの第２の下地膜層上には均一でかつ平滑
性に優れた強磁性金属薄膜層が形成されて磁気特
性も改善され、また耐擦傷性も改善される。この
ようにこの発明によれば、これら二層の下地膜層
によつて高分子成形物からなる基体との接着性が
改善され、かつ磁気特性および耐擦傷性に優れた
強磁性金属薄膜層を有する磁気記録媒体が得られ
る。 この発明において、高分子成形物からなる基体
への各下地膜層および強磁性金属薄膜層の形成
は、真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタ
リング、メツキ等の手段によつて行なわれ、基体
としてはポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等一般に使用されている高分子成形物からなるベ
ースフイルムが使用される。 下層となる第１の下地膜層の成形材料として
は、酸化アルミニウム（Al2O3）およびSiO、
SiO2などの酸化ケイ素が好適なものとして使用
され、これらは単独で又は併用して使用される。
特にこの酸化アルミニウムおよび二酸化ケイ素は
他の金属酸化物等に比し比較的緻密な被膜を形成
するためその表面は滑らかで磁気特性の劣化も少
ない。またこれら酸化物は酸化によつて活性化さ
れ、基体とも反応するため基体との接着性に優
れ、この下地膜層の直上に形成される金属からな
る第２の下地膜層に対しても良好な接着性を示
す。 上層となる第２の下地膜層の形成材料として
は、クロム、タンタル、ニツケル等の金属が好適
なものとして使用され、これらは単独であるいは
併用として使用される。これらの金属は結晶成長
が均一であるため平滑性のよい緻密な下地膜層が
形成され、従つてこの上に形成される強磁性金属
薄膜層は均一かつ平滑性に優れたものとなり、磁
気特性が改善される。第１の下地膜層および第２
の下地膜層の全層厚は、充分な下地膜効果を発揮
し、かつ基体と下地膜層との熱膨張係数の相違に
もとづく下地膜層の微細な割れや熱変形を防止す
るため200〜2000Åの範囲にするのが適当で400〜
700Åの範囲にするのがより好ましい。 強磁性金属薄膜層を形成する磁性材としては、
コバルト、ニツケル、鉄などの金属単体の他、コ
バルト―ニツケル、コバルト―鉄、コバルト―ク
ロム、コバルト―ニツケル―クロムなどの合金あ
るいは酸化物、およびCo―Ｐ、Co―Ni―Ｐなど
が好適なもとして使用される。 〔実施例〕 次に、この発明の実施例について説明する。 実施例 １〜６ 約6μ厚のポリエステルベースフイルムに表面
処理（Arガス、ボンバード処理）を施した後、
これを真空蒸着装置に装填し、下記第１表に示す
第１蒸着物をそれぞれの条件で蒸発させて第１の
下地膜層を形成し、次いで同表に示す第２蒸着物
をそれぞれの条件で蒸発させて第２の下地膜層を
形成した。
し、さらに詳しくは、磁気特性および耐擦傷性に
優れ、かつ強磁性金属薄膜層の高分子成形物から
なる基体に対する接着性が改善された強磁性金属
薄膜型磁気記録媒体に関する。 〔従来の技術〕 近年、磁気記録の高密度化に対応して、ポリエ
ステル、ポリイミド、ポリアミド等の高分子成形
物からなるベースフイルム上に、強磁性金属また
はその合金あるいはこれらの金属を含む化合物か
らなる強磁性金属薄膜層を蒸着等によつて被着形
成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒体が開発され
ている。この種の磁気記録媒体は、従来の磁性粉
末を有機バインダー中に分散して塗布する塗布型
磁気記録媒体に比べ高密度記録に適した特性を有
するが、高分子成形物からなるベースフイルムが
結晶質部分と無定形部分とからなる微細な結晶性
組織を有し本質的に不均一である上に、延伸など
の機械的処理による配向組織や、表面の平滑性を
調節するための充填粒子の存在、さらに汚染物質
の吸着などによつて表面がさらに不均一になり、
このベースフイルム表面の不均一性が原因となつ
てこの上に蒸着等によつて被着形成される強磁性
金属薄膜層が不均一になり易く、このためノイズ
が高くなり、又出力変動も大きくなつて所望の磁
気特性を有する強磁性金属薄膜層が得られにくい
難点がある。又ベースフイルムが無極性高分子で
ある場合や低分子量の汚染物質がベースフイルム
表面に吸着されている場合ベースフイルムと強磁
性金属薄膜層との接着力が弱く、このため強磁性
金属薄膜層が高分子成形物からなるベースフイル
ムから剥離し易く、耐擦傷性等の機械的性質も劣
る。 そこで、このような欠点を克服する手段として
強磁性金属薄膜層の下に非磁性金属又はその酸化
物からなる一層の下地膜層を介在させることが提
案されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、金属からなる下地膜層では磁気特性
が改善されるもの高分子成形物からなる基体との
接着性を充分に改善し得ず、金属酸化物からなる
下地膜層では基体との接着性に優れる反面下地膜
層表面が荒れ易く、充分に満足できる磁気特性が
得られない。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明はかかる問題を解決するため種々検討
を行つた結果なされたもので、高分子成形物から
なる基体と強磁性金属薄膜層との間に介在させる
下地膜層を二層構造にし、下層となる第１の下地
膜層を酸化アルミニウムもしくは酸化ケイ素或い
は両者の混合物で形成し、上層となる第２の下地
膜層をクロム、タンタル、ニツケルから選ばれる
１種又は２種以上の金属で形成することにより所
期の目的を達成したものである。 この発明によれば、下地膜層を二層構造にし、
高分子成形物からなる基体と接する第１の下地膜
層を活性で比較的緻密な被膜を形成する前記酸化
物で形成しているため、酸化によつて活性化され
たこれらの酸化物がたとえばポリエステルベース
フイルムのOH基等と反応して高分子成形物から
なる基体に対して良好な接着性を示し、また、強
磁性金属薄膜層と接する第２の下地膜層は結晶成
長が均一な前記金属で形成されているため、平滑
性のよい緻密な第２の下地膜層が形成される。こ
のためこの第２の下地膜層上には均一でかつ平滑
性に優れた強磁性金属薄膜層が形成されて磁気特
性も改善され、また耐擦傷性も改善される。この
ようにこの発明によれば、これら二層の下地膜層
によつて高分子成形物からなる基体との接着性が
改善され、かつ磁気特性および耐擦傷性に優れた
強磁性金属薄膜層を有する磁気記録媒体が得られ
る。 この発明において、高分子成形物からなる基体
への各下地膜層および強磁性金属薄膜層の形成
は、真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタ
リング、メツキ等の手段によつて行なわれ、基体
としてはポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等一般に使用されている高分子成形物からなるベ
ースフイルムが使用される。 下層となる第１の下地膜層の成形材料として
は、酸化アルミニウム（Al2O3）およびSiO、
SiO2などの酸化ケイ素が好適なものとして使用
され、これらは単独で又は併用して使用される。
特にこの酸化アルミニウムおよび二酸化ケイ素は
他の金属酸化物等に比し比較的緻密な被膜を形成
するためその表面は滑らかで磁気特性の劣化も少
ない。またこれら酸化物は酸化によつて活性化さ
れ、基体とも反応するため基体との接着性に優
れ、この下地膜層の直上に形成される金属からな
る第２の下地膜層に対しても良好な接着性を示
す。 上層となる第２の下地膜層の形成材料として
は、クロム、タンタル、ニツケル等の金属が好適
なものとして使用され、これらは単独であるいは
併用として使用される。これらの金属は結晶成長
が均一であるため平滑性のよい緻密な下地膜層が
形成され、従つてこの上に形成される強磁性金属
薄膜層は均一かつ平滑性に優れたものとなり、磁
気特性が改善される。第１の下地膜層および第２
の下地膜層の全層厚は、充分な下地膜効果を発揮
し、かつ基体と下地膜層との熱膨張係数の相違に
もとづく下地膜層の微細な割れや熱変形を防止す
るため200〜2000Åの範囲にするのが適当で400〜
700Åの範囲にするのがより好ましい。 強磁性金属薄膜層を形成する磁性材としては、
コバルト、ニツケル、鉄などの金属単体の他、コ
バルト―ニツケル、コバルト―鉄、コバルト―ク
ロム、コバルト―ニツケル―クロムなどの合金あ
るいは酸化物、およびCo―Ｐ、Co―Ni―Ｐなど
が好適なもとして使用される。 〔実施例〕 次に、この発明の実施例について説明する。 実施例 １〜６ 約6μ厚のポリエステルベースフイルムに表面
処理（Arガス、ボンバード処理）を施した後、
これを真空蒸着装置に装填し、下記第１表に示す
第１蒸着物をそれぞれの条件で蒸発させて第１の
下地膜層を形成し、次いで同表に示す第２蒸着物
をそれぞれの条件で蒸発させて第２の下地膜層を
形成した。
【表】
【表】
次に、この二層構造の下地膜層を形成したベー
スフイルム上に酸素圧５×10-4トールの残留ガス
圧の下で、コバルト金属を2000Åの膜厚になるよ
うに蒸着して強磁性金属薄膜層を形成した。コバ
ルト金属の蒸着はコバルト金属の蒸気の入射方向
とベースフイルムの法線方向とのなす角（入射
角）が45℃以上となるように蒸着装置内に防着板
を設けて連続斜め入射蒸着を行つた。これを所定
の巾に裁断して磁気テープをつくつた。 比較例 １ 実施例において、第２蒸着物の蒸着を省いて下
地膜層を一層にし、第１蒸着物としてAl2O3を使
用し、膜厚が500Åとなるように蒸着して第１の
下地膜層を形成した以外は実施例と同様にして磁
気テープをつくつた。 比較例 ２ 比較例１において、第１蒸着物としてAl2O3に
替えてSiO2を使用した以外は比較例１と同様に
して磁気テープをつくつた。 各実施例および各比較例で得られた磁気テープ
について保磁力（Hc）および角型（Br／Bm）
を測定し、接着力および耐擦傷性を試験した。接
着力はセロテープ剥離試験及びダイヤモンド描画
試験方法で行ない、耐擦傷性は脱脂綿による擦傷
試験方法で行なつた。下記第２表はその結果であ
る。
スフイルム上に酸素圧５×10-4トールの残留ガス
圧の下で、コバルト金属を2000Åの膜厚になるよ
うに蒸着して強磁性金属薄膜層を形成した。コバ
ルト金属の蒸着はコバルト金属の蒸気の入射方向
とベースフイルムの法線方向とのなす角（入射
角）が45℃以上となるように蒸着装置内に防着板
を設けて連続斜め入射蒸着を行つた。これを所定
の巾に裁断して磁気テープをつくつた。 比較例 １ 実施例において、第２蒸着物の蒸着を省いて下
地膜層を一層にし、第１蒸着物としてAl2O3を使
用し、膜厚が500Åとなるように蒸着して第１の
下地膜層を形成した以外は実施例と同様にして磁
気テープをつくつた。 比較例 ２ 比較例１において、第１蒸着物としてAl2O3に
替えてSiO2を使用した以外は比較例１と同様に
して磁気テープをつくつた。 各実施例および各比較例で得られた磁気テープ
について保磁力（Hc）および角型（Br／Bm）
を測定し、接着力および耐擦傷性を試験した。接
着力はセロテープ剥離試験及びダイヤモンド描画
試験方法で行ない、耐擦傷性は脱脂綿による擦傷
試験方法で行なつた。下記第２表はその結果であ
る。
上記第２表らか明らかなように、この発明によ
つて得られた磁気テープ（実施例１〜６）は
Al2O3からなる一層の下地層を形成して得られた
磁気テープ（比較例１）およびSiO2からなる一
層の下地膜層を形成して得られた磁気テープ（比
較例２）に比し、いずれも保磁力が大きく、角型
も比較的高くて磁気特性に優れていることがわか
る。又接着力は接着性に優れるAl2O3およびSiO2
を使用して下地膜層を形成したもの（比較例１、
２）と同様に良好で特に第２下地膜層をCrで形
成したもの（実施例１および４）は接着力に優れ
ている。さらにこの発明によつて得られた磁気テ
ープ（実施例１〜６）は比較例１および２に比し
いずれも耐擦傷性が良好で耐擦傷性も改善されて
いることがわかる。
つて得られた磁気テープ（実施例１〜６）は
Al2O3からなる一層の下地層を形成して得られた
磁気テープ（比較例１）およびSiO2からなる一
層の下地膜層を形成して得られた磁気テープ（比
較例２）に比し、いずれも保磁力が大きく、角型
も比較的高くて磁気特性に優れていることがわか
る。又接着力は接着性に優れるAl2O3およびSiO2
を使用して下地膜層を形成したもの（比較例１、
２）と同様に良好で特に第２下地膜層をCrで形
成したもの（実施例１および４）は接着力に優れ
ている。さらにこの発明によつて得られた磁気テ
ープ（実施例１〜６）は比較例１および２に比し
いずれも耐擦傷性が良好で耐擦傷性も改善されて
いることがわかる。
Claims (1)
- １ 高分子成形物からなる基体の表面に、酸化ア
ルミニウムもしくは酸化ケイ素あるいは両者の混
合物からなる第１の下地膜層と、クロム、タンタ
ル、ニツケルから選ばれる１種又は２種以上の金
属からなる第２の下地膜層を順次積層形成し、上
層となる第２の下地膜層上に強磁性金属薄膜層を
形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10830579A JPS5634141A (en) | 1979-08-25 | 1979-08-25 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10830579A JPS5634141A (en) | 1979-08-25 | 1979-08-25 | Magnetic recording medium |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19782086A Division JPS6292116A (ja) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5634141A JPS5634141A (en) | 1981-04-06 |
| JPS6329332B2 true JPS6329332B2 (ja) | 1988-06-13 |
Family
ID=14481321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10830579A Granted JPS5634141A (en) | 1979-08-25 | 1979-08-25 | Magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5634141A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58176224U (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-25 | 大日本印刷株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS6035332A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-02-23 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| JPS61222021A (ja) * | 1985-03-28 | 1986-10-02 | Hoya Corp | 磁気記録媒体 |
| US4632883A (en) * | 1985-04-22 | 1986-12-30 | International Business Machines Corporation | Vertical recording medium with improved perpendicular magnetic anisotropy due to influence of beta-tantalum underlayer |
| JPS63313322A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| CN110483071A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-11-22 | 江门江益磁材有限公司 | 一种干压永磁铁氧体及其制造方法 |
-
1979
- 1979-08-25 JP JP10830579A patent/JPS5634141A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5634141A (en) | 1981-04-06 |
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