JPS63291899A - 酸化物系超電導体素子の製造方法 - Google Patents
酸化物系超電導体素子の製造方法Info
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- JPS63291899A JPS63291899A JP62127335A JP12733587A JPS63291899A JP S63291899 A JPS63291899 A JP S63291899A JP 62127335 A JP62127335 A JP 62127335A JP 12733587 A JP12733587 A JP 12733587A JP S63291899 A JPS63291899 A JP S63291899A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0884—Treatment of superconductor layers by irradiation, e.g. ion-beam, electron-beam, laser beam or X-rays
-
- H—ELECTRICITY
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- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
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- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0661—Processes performed after copper oxide formation, e.g. patterning
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
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- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、超電導体を用いた素子、量子干渉計ゲート
、メモリ等の超電導集積回路、および5QUIP(It
子干渉計)センサ等のセンサに用いる酸化物系超電導体
素子の製造方法の関するものである。
、メモリ等の超電導集積回路、および5QUIP(It
子干渉計)センサ等のセンサに用いる酸化物系超電導体
素子の製造方法の関するものである。
「従来の技術」
従来、半導体製造方法において、基板上に形成された多
結晶のシリコン薄膜にレーザビームを照射することによ
り、このシリコン薄膜を単結晶化するものが提供されて
いる。
結晶のシリコン薄膜にレーザビームを照射することによ
り、このシリコン薄膜を単結晶化するものが提供されて
いる。
そこで、酸化物系超電導体素子の製造方法において、多
結晶の酸化物系超電導体を、その臨界温度、臨界電流を
高くするために単結晶化させる方法の一つとして、レー
ザビームを多結晶の酸化物系超電導体に照射する方法が
考えられている。
結晶の酸化物系超電導体を、その臨界温度、臨界電流を
高くするために単結晶化させる方法の一つとして、レー
ザビームを多結晶の酸化物系超電導体に照射する方法が
考えられている。
「発明が解決しようとする問題点」
ところで、レーザビームは通常中心部の温度が周辺部の
温度より高い。このため、このレーザビームを多結晶の
酸化物系超電導体に照射して、この酸化物系超電導体を
溶融させると、この溶融部の中心部の温度が周辺部より
高くなる。従って、この溶融部が固化する際に、周辺部
より固化するので、中央部にブレーンが集まり、この結
果結晶の品質を低下させてしまう可能性があるという問
題点があった。
温度より高い。このため、このレーザビームを多結晶の
酸化物系超電導体に照射して、この酸化物系超電導体を
溶融させると、この溶融部の中心部の温度が周辺部より
高くなる。従って、この溶融部が固化する際に、周辺部
より固化するので、中央部にブレーンが集まり、この結
果結晶の品質を低下させてしまう可能性があるという問
題点があった。
「発明の目的」
この発明は上記問題点に鑑みてなされてものであり、優
れた品質の単結晶からなる酸化物系超電導体素子の製造
方法を提供することを目的としている。
れた品質の単結晶からなる酸化物系超電導体素子の製造
方法を提供することを目的としている。
「問題点を解決するための手段」
この発明の酸化物系超電導体素子の製造方法は、基板上
に形成された酸化物系超電導体材料に、中心部の温度が
周辺部より低く保たれたレーザビームを照射することに
より、酸化物系超電導体材料を単結晶化することを特徴
としている。
に形成された酸化物系超電導体材料に、中心部の温度が
周辺部より低く保たれたレーザビームを照射することに
より、酸化物系超電導体材料を単結晶化することを特徴
としている。
「実施例」
第1図ないし第3図はこの発明の酸化物系超電導体素子
の製造方法をB a−Y −Cu−0系のものについて
適用した第一実施例を示すものであり、この系の超電導
体素子を製造するには以下のようにして行う。
の製造方法をB a−Y −Cu−0系のものについて
適用した第一実施例を示すものであり、この系の超電導
体素子を製造するには以下のようにして行う。
まず、第1図に示すように、400℃に加熱されたTi
5rOsからなる基板上1に、酸素を含むアルゴン雰囲
気中で、B a−Y −Cu−0系の薄膜状をなす酸化
物系超電導体材料(以下薄膜という)2をスパッタリン
グにより形成する。
5rOsからなる基板上1に、酸素を含むアルゴン雰囲
気中で、B a−Y −Cu−0系の薄膜状をなす酸化
物系超電導体材料(以下薄膜という)2をスパッタリン
グにより形成する。
そして、この薄膜2の厚さが3μlになったところでス
パッタリングを中止して、この薄膜2上に、第2図に示
すような中心部の温度が周辺部より低く保たれたレーザ
ビーム3をXYステージ4を第1図中左方に移動させつ
つ照射する。
パッタリングを中止して、この薄膜2上に、第2図に示
すような中心部の温度が周辺部より低く保たれたレーザ
ビーム3をXYステージ4を第1図中左方に移動させつ
つ照射する。
このレーザビーム3は以下のようにして作られる。すな
わち、第3図に示すように、20WのCO,レーザ発光
源5から発せられたレーザビームの出力を出力調整部6
で調整し、この出力が調整されたレーザビームのビーム
径を、内部に凸レンズ7 a、 7 bが設けられたビ
ーム拡大部7により30xxに拡大する。そして、この
ビーム径が拡大されたレーザビームを吸収板8に通す。
わち、第3図に示すように、20WのCO,レーザ発光
源5から発せられたレーザビームの出力を出力調整部6
で調整し、この出力が調整されたレーザビームのビーム
径を、内部に凸レンズ7 a、 7 bが設けられたビ
ーム拡大部7により30xxに拡大する。そして、この
ビーム径が拡大されたレーザビームを吸収板8に通す。
ここで、この吸収板8は、中央部のメツシュが周辺部よ
り細かい金網からなっており、この中央部を通過したレ
ーザビームのビーム密度を周辺部を通過したレーザビー
ムのビーム密度より低くするようになっている。そして
、この吸収板8を通過したレーザビームを再び凸レンズ
9によりビーム径30μ贋に集束する。このようにして
、中央部の温度が周辺部より低いレーザビーム3を作る
。
り細かい金網からなっており、この中央部を通過したレ
ーザビームのビーム密度を周辺部を通過したレーザビー
ムのビーム密度より低くするようになっている。そして
、この吸収板8を通過したレーザビームを再び凸レンズ
9によりビーム径30μ贋に集束する。このようにして
、中央部の温度が周辺部より低いレーザビーム3を作る
。
そして、薄膜2のレーザビーム3が照射されて溶融した
部分が、その中央部の温度が周辺部の温度より低いので
、中央部から周辺部に向けて固化して単結晶化する。
部分が、その中央部の温度が周辺部の温度より低いので
、中央部から周辺部に向けて固化して単結晶化する。
このようにして得られた単結晶からなる酸化物系超電導
体素子の臨界温度、臨界電流は、それぞれ93K、20
00 A/CI”であった。
体素子の臨界温度、臨界電流は、それぞれ93K、20
00 A/CI”であった。
上記酸化物系超電導体素子の製造方法によれば、中心部
の温度が周辺部より低いレーザビームを酸化物系超電導
体材料(薄膜)2に照射したので、レーザビームが照射
されて溶融した部分の中央部の温度が周辺部の温度より
低い。よって、この溶融部が固化する際には、中央部か
ら周辺部に向けて固化するので、ブレーンが中央部に集
まることがなく、このため結晶の品質を低下させてしま
うことがない。
の温度が周辺部より低いレーザビームを酸化物系超電導
体材料(薄膜)2に照射したので、レーザビームが照射
されて溶融した部分の中央部の温度が周辺部の温度より
低い。よって、この溶融部が固化する際には、中央部か
ら周辺部に向けて固化するので、ブレーンが中央部に集
まることがなく、このため結晶の品質を低下させてしま
うことがない。
次に、この発明の第二実施例を第4図および第5図を参
照した説明する。この第二実施例が上記第一実施例と異
なる点は、中心部の温度が周辺部より低いレーザビーム
を作る手段である。
照した説明する。この第二実施例が上記第一実施例と異
なる点は、中心部の温度が周辺部より低いレーザビーム
を作る手段である。
すなわち、この実施例のレーザビームは、第4図に示す
ように、2本のYAGレーザ10a、10bの一部分を
互いに重ね合わせたダブルビームlOであり、この重ね
合わせた部分がダブルビームの中心部11とされている
。
ように、2本のYAGレーザ10a、10bの一部分を
互いに重ね合わせたダブルビームlOであり、この重ね
合わせた部分がダブルビームの中心部11とされている
。
このようにすることによりダブルビームlOの中心部1
1の温度が周辺部の温度より低くされている。
1の温度が周辺部の温度より低くされている。
そして、このようなダブルビーム10を作るには以下の
ようにして行う。すなわち、第5図に示すように、発光
源!2aから発せられたYAGレーザ10aを、ミラー
13を透過させると共にミラー14により図中下方に反
射させる。また、発光源12bから発仕られたYAGレ
ーザ10bを、ミラー15により図中上方に反射させて
、YAGレーザ10aのミラー14の透過点から所定量
だけずらした位置に投光する。そして、このミラー4に
より反射されたYAGレーザIObをミラー15により
図中下方に反射させる。このようにして、第4図に示す
ダブルビーム10を作る。
ようにして行う。すなわち、第5図に示すように、発光
源!2aから発せられたYAGレーザ10aを、ミラー
13を透過させると共にミラー14により図中下方に反
射させる。また、発光源12bから発仕られたYAGレ
ーザ10bを、ミラー15により図中上方に反射させて
、YAGレーザ10aのミラー14の透過点から所定量
だけずらした位置に投光する。そして、このミラー4に
より反射されたYAGレーザIObをミラー15により
図中下方に反射させる。このようにして、第4図に示す
ダブルビーム10を作る。
そして、このようにして作られたダブルビームlOを上
記酸化物系超電体導材料(薄膜)2上に、XYステージ
4を図中左方に移動させつつ照射する。すると、このダ
ブルビームlOが照射されて溶融した部分の中央部の温
度が周辺部の温度より低いので、この溶融部が中央部か
ら周辺部に向けて固化して単結晶化する。
記酸化物系超電体導材料(薄膜)2上に、XYステージ
4を図中左方に移動させつつ照射する。すると、このダ
ブルビームlOが照射されて溶融した部分の中央部の温
度が周辺部の温度より低いので、この溶融部が中央部か
ら周辺部に向けて固化して単結晶化する。
このようにして得られた単結晶からなる酸化物系超電導
体素子の臨界温度、臨界電流は、それぞれ94に、25
00A/cm2であった。
体素子の臨界温度、臨界電流は、それぞれ94に、25
00A/cm2であった。
上記実施例によれば、第一実施例と同様の効果が得られ
る。
る。
なお、上記第二実施例では、2本のYAGビーム10a
、lObを重ね合わせることにより中心部11の温度が
周辺部の温度より低いダブルビームlOを作ったが、こ
れに限ることなく、1本のYAGビームを分離してこれ
ら分離された各ビームをジャリンクミラーにより重ね合
わせて作ってもよい。
、lObを重ね合わせることにより中心部11の温度が
周辺部の温度より低いダブルビームlOを作ったが、こ
れに限ることなく、1本のYAGビームを分離してこれ
ら分離された各ビームをジャリンクミラーにより重ね合
わせて作ってもよい。
また、上記実施例では、CO,レーザ、YAGレーザを
用いたが、この他に、Arレーザ、エキシマ等を用いて
もよい。
用いたが、この他に、Arレーザ、エキシマ等を用いて
もよい。
さらに、上記実施例では、この発明をBa−Y−Ctr
O系の酸化物系超電導素子について適用したが、ABO
3型(B aP bB io 3、S rT io 3
、(S r。
O系の酸化物系超電導素子について適用したが、ABO
3型(B aP bB io 3、S rT io 3
、(S r。
l3a)TiO+、(Ca、 S r)T io s等
)系、あるいはA−B −Cu−0系(AはLa、Y、
Sc、Yb等のIIIa族元素、BはBa、Sr等のア
ルカリ土類金属)等の酸化物系のものなどについて適用
してもよい。
)系、あるいはA−B −Cu−0系(AはLa、Y、
Sc、Yb等のIIIa族元素、BはBa、Sr等のア
ルカリ土類金属)等の酸化物系のものなどについて適用
してもよい。
「発明の効果」
以上説明したように、この発明の酸化物系超電導体素子
の製造方法によれば、中心部の温度が周辺部より低いレ
ーザビームを酸化物系超電導体材料に照射することによ
り酸化物系超電導体材料を単結晶化したので、レーザビ
ームが照射されて溶融した部分の中央部の温度が周辺部
の温度より低い。よって、この溶融部が固化する際には
、中央部から周辺部に向けて固化するので、ブレーンが
中央部に集まることがなく、このため結晶の品質を低下
させてしまうことがないという効果が得られる。
の製造方法によれば、中心部の温度が周辺部より低いレ
ーザビームを酸化物系超電導体材料に照射することによ
り酸化物系超電導体材料を単結晶化したので、レーザビ
ームが照射されて溶融した部分の中央部の温度が周辺部
の温度より低い。よって、この溶融部が固化する際には
、中央部から周辺部に向けて固化するので、ブレーンが
中央部に集まることがなく、このため結晶の品質を低下
させてしまうことがないという効果が得られる。
第1図ないし第3図はこの発明の第一実施例を説明する
ためのものであり、第1図は酸化物系超電導体素子を示
す断面図、第2図はレーザビームのパワー(温度)分布
を示すグラフ、第3図はレーザビームを作る装置の概略
構成図、第4図および第5図はこの発明の第二実施例を
説明するためのものであり、第4図はダブルビームのパ
ターン図、第5図はダブルビームを作る装置の概略構成
図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・超電導体材料、3
・・・・・・レーザビーム、 10・・・・・・ダブルビーム(レーザビーム)。
ためのものであり、第1図は酸化物系超電導体素子を示
す断面図、第2図はレーザビームのパワー(温度)分布
を示すグラフ、第3図はレーザビームを作る装置の概略
構成図、第4図および第5図はこの発明の第二実施例を
説明するためのものであり、第4図はダブルビームのパ
ターン図、第5図はダブルビームを作る装置の概略構成
図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・超電導体材料、3
・・・・・・レーザビーム、 10・・・・・・ダブルビーム(レーザビーム)。
Claims (1)
- 基板上に形成された酸化物系超電導体材料に、中心部の
温度が周辺部より低く保たれたレーザビームを照射する
ことにより、上記酸化物系超電導体材料を単結晶化する
ことを特徴とする酸化物系超電導体素子の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62127335A JPS63291899A (ja) | 1987-05-25 | 1987-05-25 | 酸化物系超電導体素子の製造方法 |
US07/188,937 US5057484A (en) | 1987-05-01 | 1988-05-02 | Single crystal oxide superconductor and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62127335A JPS63291899A (ja) | 1987-05-25 | 1987-05-25 | 酸化物系超電導体素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63291899A true JPS63291899A (ja) | 1988-11-29 |
Family
ID=14957377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62127335A Pending JPS63291899A (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-25 | 酸化物系超電導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63291899A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63292530A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Toshiba Corp | 化合物超電導線の製造方法 |
JPS63292531A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Toshiba Corp | 化合物超電導線の製造方法 |
-
1987
- 1987-05-25 JP JP62127335A patent/JPS63291899A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63292530A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Toshiba Corp | 化合物超電導線の製造方法 |
JPS63292531A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Toshiba Corp | 化合物超電導線の製造方法 |
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