JPS63281313A - 耐熱電線 - Google Patents

耐熱電線

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JPS63281313A
JPS63281313A JP62115576A JP11557687A JPS63281313A JP S63281313 A JPS63281313 A JP S63281313A JP 62115576 A JP62115576 A JP 62115576A JP 11557687 A JP11557687 A JP 11557687A JP S63281313 A JPS63281313 A JP S63281313A
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Japan
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heat
electric wire
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resistant electric
film
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JP62115576A
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Shinji Inasawa
信二 稲澤
Kazuo Sawada
澤田 和夫
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • H01B13/065Insulating conductors with lacquers or enamels
    • HELECTRICITY
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    • H01B7/295Protection against damage caused by extremes of temperature or by flame using material resistant to flame

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] この発明は、電線に関し、特に耐火性、耐熱性を要する
マグネットワイヤ、原子炉周辺用電線等や耐食性を有す
る特殊電線、ケーブルに用いられる耐熱電線に関するも
のである。
[従来の技術] 上述のように耐熱性や耐食性か要求される電線として、
従来から導体に有機物被覆を施した被覆電線が用いられ
ている。しかし、有機物被覆では長期安定性、耐熱性、
化学的耐久性等の点で不充分であった。
そこで、耐熱性、耐食性を付与するために、導体の表面
に導体以外の金属または半金属の化合物からなる膜を被
覆したものが用いられている。たとえば、昭和60年1
0月17日に国内公表されたレイケム社出願の公表特許
公報昭60−501783号公報には、高温下で使用さ
れる電気ワイヤに対して耐熱性を付与するために導体の
表面に酸化物または窒化物などを真空蒸着法によって被
覆したものが開示されている。その被覆を形成する化合
物の例としてはアルミニウム、珪素などの酸化物または
窒化物が挙げられている。これらの酸化物は耐熱性、耐
食性に対して優れた特性を示すので、酸化物を被覆した
電気ワイヤは耐熱性、耐食性に優れたものとなる。
また、近年これらの特性を向上させるためにセラミック
ス被覆を有する電線が検討されてきた。
セラミックス膜を形成する方法としては、(a)  C
VD (化学蒸着法) 、PVD (物理蒸着法)、溶
射等の気相から膜を形成する方法(気相薄膜成長法)。
(b)  めっきなどの溶液中で膜を形成する電気化学
的方法。
(C)  アルコキシドを反応させる化学反応によって
液相から膜を形成するゾル−ゲル法。
(d)  溶融物への浸漬によって膜を形成する方法。
等の方法に分類される。
[発明が解決しようとする問題点] 上述のように示されているとおり、ALOa、5i02
などのセラミックスとしての酸化物は、耐熱性、耐食性
については良好な性質を示すことが知られている。しか
し、真空蒸着法によって形成されるこれらの酸化物は導
体として用いられる銅等に対する密着性があまり良くな
い。そのため、たとえば酸化物を被覆した電気ワイヤを
腐食環境下で長期間使用した場合、酸化物が銅の表面か
ら剥離し、その部分から腐食が進行することがある。
また、これらの酸化物被膜を導体の表面に形成する方法
として真空蒸着法などの気相薄膜成長法が用いられてい
る。ところが真空蒸着法などによって得られる被膜は可
撓性に劣る場合がある。そのため、たとえば真空蒸着法
による酸化物被覆型線を撓んだ状態で使用した場合、導
体表面に応力が加わり導体表面に形成された酸化物被膜
が破壊され、その部分から腐食が進行することがある。
そこで、この発明は、密着性および可撓性に優れた被膜
を形成することによって、長期間にわたって優れた耐熱
性、耐食性を発揮する耐熱電線を提供することを目的と
する。また、この発明は、工業的にも、長尺の電線導体
への被覆工程の容易な手段で得られる耐熱電線を提供す
ることを目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明に従った耐熱電線は、導体の外方に、アルコキ
シドを加水分解および脱水縮合させた溶液を塗布し、そ
の後大気中において放置して形成されたゲル膜の被覆を
有するものである。
[発明の作用効果] 耐熱性に寄与するゲル膜は、本発明においてはゾル−ゲ
ル法によって形成されるが、大気中において放置するの
で完全にはセラミックス化しておらず、ゲルの状態であ
るため、可撓性、密着性に優れている。また、このゲル
膜は、加熱によりセラミックスに変化するため、加熱す
るほどセラミックス化し、耐熱性が向上していく。しか
しながら、セラミックス化が進行すれば可撓性はそれに
反して失われていくことが認められる。本発明では、こ
のような本願発明者等の知見に基づき、ゲル膜を主耐熱
層として形成する。このとき、大気中における放置を温
度400℃以下の雰囲気中で行なうのが、主耐熱層とし
てのゲル膜を形成する上で望ましい。
アルコキシドを加水分解および脱水縮合させた溶液を導
体の外方に塗布し、その後大気中において放置する場合
において、導体表面が熱により酸化されるとその酸化物
は脆く、ゲル膜と導体表面との付着力が失われ、膜が剥
離することがある。
このことを防ぐために、上記のように溶液を塗布し、放
置する前に導体表面上に耐酸化を目的としたNi1また
はCrめっきを施すのが好ましい。
また、このゲル膜は加熱されると、かなりの収縮か起こ
り、膜厚が小さくなる。膜が収縮すると耐絶縁性に支障
をきたす場合が考えられる。導体にかかる電圧が低い場
合は単なるゲル膜だけでもよいが、高圧ケーブルとして
この耐熱電線を用いる場合、耐絶縁性に支障をきたす。
そこで、ゲル膜の収縮を抑えるためにこのゲル膜に金属
酸化物微粒子、金属窒化物微粒子、金属硼化物微粒子な
どをセラミックスのフィラーとして分散混合しておくこ
とが望ましい。
上記のようにゲル膜はそのままではかなりの可撓性を示
すが、加熱されセラミックス化してしまうと可撓性を失
う可能性がある。この耐熱電線が振動の激しい部所に使
用される場合でも、セラミックス化した後に強振動によ
り膜に亀裂が走っても導体から剥がれ落ちてはならない
。そのため、ゲル膜と導体との間に特に大きな付着力が
必要となる場合がある。その場合には、ゲル膜と導体と
の間、もしくは上記のようにめっき層を表面に有する導
体ではゲル膜とめっき層との間に、密着層を設けてもよ
い。この密着層としては、アルコキシドを加水分解およ
び脱水縮合させた溶液を塗布し、その後加熱することに
より完全にセラミックス化した膜を用いることができる
。この密着層としてCVD法により形成されるセラミッ
クス膜を用いてもよい。これは、CVD法により形成さ
れる層はゲル膜に比べて下地との付着力が大きいという
、本願発明者等の知見に基づくものである。
また、最外層として樹脂層を被覆することにより、巻付
は時の滑り性や室温での耐絶縁性を向上させることがで
きる。このとき、上述のように金属酸化物微粒子などの
微粒子を樹脂層中に分散混合させて耐絶縁性を高めても
よい。さらに、耐熱性を高めるために、樹脂層を、アル
コキシドを加水分解および脱水縮合させた溶液にテトラ
アルキルアンモニウムハライドを添加して樹脂溶液に混
合可能としたものを加えた樹脂溶液から形成させてもよ
い。
なお、本発明に従うゲル膜は2層以上の多層膜として形
成し、耐熱性、耐食性、耐絶縁性を高めてもよい。この
発明に従ったゲル膜を形成するとき、アルコキシドの加
水分解を、アルコキシド溶液に直接水を加えることをせ
ずに大気中の水分により行なってもよい。
[実施例] 第1図は、本発明に従った耐熱電線を示す断面図である
。図において、1は銅などからなる導体、2はゲル膜、
3はNiまたはCrからなるめっき層、4はCVD法に
より形成されたセラミックス膜、5は金属アルコキシド
を加水分解および脱水縮合させた溶液を塗布し、その後
加熱して形成されたセラミックス膜、6は最外層を構成
する樹脂被覆層である。第1図(a)は、導体1トに3
層からなるゲル膜2の被覆を有する耐熱電線である。
第1図(b)は、導体1の表面上にめっき層3を有し、
その外方にゲル膜2の被覆を有する耐熱電線で、最外層
には樹脂被覆層6が形成されている。
また、第1図(c)、(d)は、ゲル膜2の下層に、(
C)ではCVD法により形成されたセラミックス膜4が
密着層として形成されており、(d)においてはアルコ
キシドを出発原料とするセラミックス膜5が密着層とし
て形成されている。
上述のように実施例として示される耐熱電線を耐熱試験
用の試料としては、以下のように具体的に作製される。
下記に示される方法で作製された塗布溶液1〜6を用い
て、直径2.0mmφの銅線上に、ディッピング法によ
り引上速度1.0m7分でコーティングを行ない、多層
膜を銅線上に形成した。
塗布溶液1 テトラブチルオルトシリケイトIS i (OC4H9
)4]:イソプロビルアルコール[C3H7OH] :
水[H20] =10 : 50 : 40のモル比で
混合した溶液に硝酸をテトラブチルオルトシリケイトの
1/100モル添加した後、温度80℃で100分間撹
拌し、その後室温まで戻した溶液。
塗布溶液2 テトラエチルオルトシリケイト[5i(OCzHs)*
]:エチルアルコール[C2H,OR3:水[H2O1
−3: 60 : 37のモル比で混合した溶液に硝酸
をテトラエチルオルトシリケイトの1/100モル添加
した後、温度70℃で100分間撹拌し、その後室温ま
で戻した溶液。
塗布溶液3 テトラブチルオルトシリケイト[S i(OC4H9)
4]:イソプロビルアルコール[C,H。
OR3:水[H20] =20 : 60 : 20の
モル比で混合した溶液に硝酸をテトラブチルオルトシリ
ケイトの1/100モル添加した後、温度80℃で20
0分間撹拌し、その後室温まで戻した溶液。
塗布溶液4 テトラブチルオルトシリケイト[S i  (OC4H
9)4]:イソビルアルコール[C,Hl 0H]:水
[H20]−10;50:40のモル比で混合した溶液
100gに予め和光純薬製シリカゲル(WAKOGEL
、CC−100)30を添加しておき、これに硝酸をテ
トラブチルオルトシリケイトの1/100モル添加した
後、温度80℃で100分間撹拌し、その後室温まで戻
した溶液。
塗布溶液5 ポリイミドのp−キシレン30%溶液 塗布溶液6 テトラブチルオルトシリケイト[5i(QC。
H9)、コ :イソプロビルアルコール[C3H7OH
] :水[H20コー10:50:40のモル比で混合
した溶液に硝酸をテトラブチルオルトシリケイトの1/
100モル添加した後、温度80℃で100分間撹拌し
、その後室温まで戻した溶液100gにテトラブチルア
ンモニウムブロマイド[(C4H9) 4 N” B 
r −]を20g添加し、クロロホルム[CHCL ]
を加えて撹拌することにより抽出を行なった。
この抽出溶液をエバポレータを用いて減圧乾燥を行ない
、溶媒を除去して淡黄色の粘稠な溶液[S i 02ポ
リマー]を得た。この5i02ポリマーをポリイミドの
バラキシレン30%溶液100mQ、に混合した後、室
温で30分間撹拌し、塗布溶液6とした。
上記の塗布溶液1〜6を用いてコーティングを行なった
後、各塗布溶液に応じて以下の表に示すような処理を行
ない、各被膜を形成した。このようにして得られた試料
は、以下の第1表〜第6表に示すように少なくともゲル
膜を含む多層膜の被覆を有する銅線で、これらを試料A
、  B、  C,D。
E、Fとした。
(以下余白) ゛ 第 1 表 (試料A) 第 2 表 (試料B) 第 3 表 (試料C) 第 4 表 (試料D) 第 5 表 (試料E) 第 6 表 (試料F) 得られた各試料を以下に示すような方法で耐熱試験を行
なった。
耐熱試験 絶縁試験:第2図に示すように2本の試料7a。
7bを接触させ、50Vの電圧を双方にかけて、ヒータ
12により所定の温度で30分間加熱することにより、
その絶縁性を確認した。
振動試験:絶縁試験中においてモータ15に第2図に示
すような重量5gの重り16をつけて回転させることに
より振動を与えた。
ここで、第2図において7a、7bは試料、8はその上
に試料7a、7bが接触されて置かれる石英板、9は石
英板8上に載せられた試料7a。
7bを格納する石英管であり、一端がシリコンゴムから
なる栓10で密封されており、他端がグラスウール11
で塞がれている。試料7a、7bを加熱するために、石
英管9の周囲に環状炉であるヒータ12が設けられてい
る。試料7a、7bの温度を測定するために熱電対13
が栓10を通して石英管9内に挿入されている。14a
、14bは、試料7a、7bにそれぞれ接続され、絶縁
試験電極につながれるリード線である。また、試料7a
、7bに振動を与えるために、グラスウール11を通じ
て石英管9の外に出ている石英板8の一端の上にモータ
15が設けられている。モータ15の軸に重量5gの重
り16を取付けて凹転させることにより石英板8に振動
を与え、それによって試料?a、7bに振動を伝える。
このとき、石英板8を支持するために支持台17を設け
る。
このように行なわれた耐熱試験の結果は、各試料の室温
での特性とともに第7表に示される。第7表において、
曲げ試験は、xmmの直径の棒に銅線である各試料を巻
付けても被覆層に異常がないときの直径を[xmmdJ
として示す。また、耐圧値(V)もあわせて示す。なお
、耐絶縁温度(’C)および耐振動温度CC)  とし
てその結果を示した。耐絶縁温度とは絶縁性を維持する
ことが可能な上限温度であり、耐振動温度は上述のよう
に与えられる振動に対して絶縁性を維持することが可能
である上限の温度を示すものである。
耐熱試験の結果から、本発明に従った耐熱電線は可撓性
に優れるとともに、高温下においても絶縁性を維持し得
ることがわかる。
(以下余白) = 20− 第7表
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に従った耐熱電線を示す断面図、第2
図は、本発明に従った耐熱電線の試料の耐熱試験を行な
うための装置を示す図である。 図において、lは導体、2はゲル膜である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導体の外方に、アルコキシドを加水分解および脱
    水縮合させた溶液を塗布し、その後大気中において放置
    して形成されたゲル膜の被覆を有する耐熱電線。
  2. (2)前記放置は、温度400℃以下の雰囲気中で行な
    われる、特許請求の範囲第1項記載の耐熱電線。
  3. (3)前記導体は、その表面上にNiおよびCrのうち
    のいずれかからなるめっき層を有し、その外方に前記ゲ
    ル膜の被覆を有する、特許請求の範囲第1項または第2
    項記載の耐熱電線。
  4. (4)前記ゲル膜は、2層以上の多層膜として形成され
    る、特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記
    載の耐熱電線。
  5. (5)前記ゲル膜は、その中に金属酸化物微粒子、金属
    窒化物微粒子および金属硼化物微粒子のうち少なくとも
    1種類の微粒子が分散混合されている、特許請求の範囲
    第1項ないし第4項のいずれかに記載の耐熱電線。
  6. (6)前記ゲル膜の下層は、金属アルコキシドを加水分
    解および脱水縮合させた溶液を塗布し、その後加熱して
    形成されたセラミックス膜の密着層である、特許請求の
    範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の耐熱電線。
  7. (7)前記ゲル膜の下層は、CVD法により形成された
    セラミックス膜の密着層である、特許請求の範囲第1項
    ないし第5項のいずれかに記載の耐熱電線。
  8. (8)当該耐熱電線は、前記ゲル膜の外方に、樹脂被覆
    層を有する、特許請求の範囲第1項ないし第7項のいず
    れかに記載の耐熱電線。
  9. (9)前記樹脂被覆層は、その中に金属酸化物微粒子、
    金属窒化物微粒子および金属硼化物微粒子のうち少なく
    とも1種類の微粒子が分散混合されている、特許請求の
    範囲第8項記載の耐熱電線。
  10. (10)前記樹脂被覆層は、アルコキシドを加水分解お
    よび脱水縮合させた溶液にテトラアルキルアンモニウム
    ハライドを添加して樹脂溶液に混合可能としたものを加
    えた樹脂溶液から形成されたものである、特許請求の範
    囲第8項記載の耐熱電線。
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