JPH04242011A - 無機絶縁部材 - Google Patents
無機絶縁部材Info
- Publication number
- JPH04242011A JPH04242011A JP3001645A JP164591A JPH04242011A JP H04242011 A JPH04242011 A JP H04242011A JP 3001645 A JP3001645 A JP 3001645A JP 164591 A JP164591 A JP 164591A JP H04242011 A JPH04242011 A JP H04242011A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- conductor
- layer
- inorganic compound
- insulating member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical class [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 229920001795 coordination polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910007277 Si3 N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLDSOYXADOWAKB-UHFFFAOYSA-N aluminium nitrate Chemical compound [Al+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O JLDSOYXADOWAKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920003257 polycarbosilane Polymers 0.000 description 2
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- -1 Si3N4 Chemical class 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-silylsilane Chemical compound C[SiH]([SiH3])Cl KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/10—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances metallic oxides
- H01B3/105—Wires with oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B7/00—Insulated conductors or cables characterised by their form
- H01B7/17—Protection against damage caused by external factors, e.g. sheaths or armouring
- H01B7/29—Protection against damage caused by extremes of temperature or by flame
- H01B7/292—Protection against damage caused by extremes of temperature or by flame using material resistant to heat
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Insulated Conductors (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、たとえば高温用電線
および絶縁リード線などのような絶縁部材に関するもの
である。
および絶縁リード線などのような絶縁部材に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】絶縁電線のような絶縁部材は、加熱設備
や火災報知機などの高温下における安全性が要求される
ような設備に使用されることが多い。また絶縁電線は、
自動車内の高温度に加熱される環境下においても用いら
れる。このような絶縁電線としては、従来から、導体に
ポリイミドやフッ素樹脂等の耐熱性有機樹脂が被覆され
た絶縁電線が使用されている。
や火災報知機などの高温下における安全性が要求される
ような設備に使用されることが多い。また絶縁電線は、
自動車内の高温度に加熱される環境下においても用いら
れる。このような絶縁電線としては、従来から、導体に
ポリイミドやフッ素樹脂等の耐熱性有機樹脂が被覆され
た絶縁電線が使用されている。
【０００３】しかしながら、このような樹脂被覆の電線
の耐熱性は、高々３００℃である。また、高真空機器内
で用いる電線の場合には、ベーキング処理等の加熱に耐
え得る耐熱性が要求され、さらに高真空度を達成し維持
するために吸収したガスや水分等の放出が少なく、また
熱分解によるガス放出の少ない電線が要求される。従来
の有機材料を被覆した電線では、このような耐熱性や非
ガス放出性の要求を満足することができない。
の耐熱性は、高々３００℃である。また、高真空機器内
で用いる電線の場合には、ベーキング処理等の加熱に耐
え得る耐熱性が要求され、さらに高真空度を達成し維持
するために吸収したガスや水分等の放出が少なく、また
熱分解によるガス放出の少ない電線が要求される。従来
の有機材料を被覆した電線では、このような耐熱性や非
ガス放出性の要求を満足することができない。
【０００４】高い耐熱性が要求される用途および高い真
空度が要求される環境下で使用される場合には、有機物
被覆だけでは、耐熱性やガス放出性の点で不十分である
。そこで、セラミックス性ガイシ管に導体が通された形
式の絶縁電線および酸化マグネシウムなどの金属酸化物
微粒子が詰められた、ステンレス合金などからなる耐熱
合金製の管に導体が通された形式のＭＩケーブルなどが
、そのような用途に使用されてきた。
空度が要求される環境下で使用される場合には、有機物
被覆だけでは、耐熱性やガス放出性の点で不十分である
。そこで、セラミックス性ガイシ管に導体が通された形
式の絶縁電線および酸化マグネシウムなどの金属酸化物
微粒子が詰められた、ステンレス合金などからなる耐熱
合金製の管に導体が通された形式のＭＩケーブルなどが
、そのような用途に使用されてきた。
【０００５】耐熱性とともに可撓性が要求される絶縁電
線としては、ガラス繊維が紡織されたものを絶縁部材と
して使用するガラス編組絶縁電線などが挙げられる。
線としては、ガラス繊維が紡織されたものを絶縁部材と
して使用するガラス編組絶縁電線などが挙げられる。
【０００６】また、無機材料により被覆した電線が検討
されており、たとえば、アルミニウム導体の表面をアル
マイト加工して、表面にＡｌ２ Ｏ３ 膜を形成したア
ルマイト被覆電線、および電析法による電線がある。
されており、たとえば、アルミニウム導体の表面をアル
マイト加工して、表面にＡｌ２ Ｏ３ 膜を形成したア
ルマイト被覆電線、および電析法による電線がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】アルマイト電線および
電析法による電線では、導体がアルミニウムに限定され
るため、耐熱性がＣｕ等の金属を用いるものに比べて劣
る。またこのような従来の電線は、皮膜が多孔質である
ため、絶縁破壊電圧が低く、ガス放出が多いという問題
もあった。
電析法による電線では、導体がアルミニウムに限定され
るため、耐熱性がＣｕ等の金属を用いるものに比べて劣
る。またこのような従来の電線は、皮膜が多孔質である
ため、絶縁破壊電圧が低く、ガス放出が多いという問題
もあった。
【０００８】ＭＩケーブルは、導体径に比べ、電線全体
の径が大きくなり、占積率が悪くなり、大きな電流を流
せないという問題があった。
の径が大きくなり、占積率が悪くなり、大きな電流を流
せないという問題があった。
【０００９】ガラス編組絶縁電線の場合には、微小なガ
ラス粉を発生したり、編み目がずれて導体が露出してし
まうという問題があった。
ラス粉を発生したり、編み目がずれて導体が露出してし
まうという問題があった。
【００１０】この発明の目的は、耐熱性および絶縁性に
優れた無機絶縁部材を提供することにある。
優れた無機絶縁部材を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明に従う無機絶縁
部材は、ＮｉまたはＮｉ合金を少なくとも外表面に有す
る導体と、導体の外表面を酸化処理して形成されるＮｉ
またはＮｉ合金の酸化物層と、ＮｉまたはＮｉ合金の酸
化物層の外方に形成される絶縁性無機化合物層とを備え
ている。
部材は、ＮｉまたはＮｉ合金を少なくとも外表面に有す
る導体と、導体の外表面を酸化処理して形成されるＮｉ
またはＮｉ合金の酸化物層と、ＮｉまたはＮｉ合金の酸
化物層の外方に形成される絶縁性無機化合物層とを備え
ている。
【００１２】この発明において、導体の外表面に形成さ
れるＮｉまたはＮｉ合金の酸化物層は、導体外表面のＮ
ｉまたはＮｉ合金を酸化処理して形成されるものである
。この酸化処理は、好ましくは、酸素を含む気相中での
酸化処理である。
れるＮｉまたはＮｉ合金の酸化物層は、導体外表面のＮ
ｉまたはＮｉ合金を酸化処理して形成されるものである
。この酸化処理は、好ましくは、酸素を含む気相中での
酸化処理である。
【００１３】この発明に従いＮｉまたはＮｉ合金の酸化
物層の外方に形成される絶縁性無機化合物層は、たとえ
ば、金属アルコキシドまたは金属カルボン酸エステルを
加水分解および縮重合して形成することができる。
物層の外方に形成される絶縁性無機化合物層は、たとえ
ば、金属アルコキシドまたは金属カルボン酸エステルを
加水分解および縮重合して形成することができる。
【００１４】絶縁無機化合物層を形成する他の方法とし
ては、有機金属ポリマーを熱分解することにより形成す
ることができる。この方法によれば、金属酸化物、金属
炭化物、金属窒化物またはこれらの複合物を形成させる
ことができる。
ては、有機金属ポリマーを熱分解することにより形成す
ることができる。この方法によれば、金属酸化物、金属
炭化物、金属窒化物またはこれらの複合物を形成させる
ことができる。
【００１５】この発明において、絶縁性無機化合物層は
、セラミックス微粒子を含んでいてもよい。
、セラミックス微粒子を含んでいてもよい。
【００１６】この発明の無機絶縁部材は、たとえば、高
温用電線および絶縁リード線などである。しかしながら
、このようなものに限定されるものではなく、たとえば
熱電対などのようなその他の絶縁部材も含まれる。
温用電線および絶縁リード線などである。しかしながら
、このようなものに限定されるものではなく、たとえば
熱電対などのようなその他の絶縁部材も含まれる。
【００１７】図１は、この発明に従う第１の実施例を示
す断面図である。図１を参照して、Ｎｉ導体１のまわり
にはＮｉ酸化物層２が形成されており、このＮｉ酸化物
層２のまわりに絶縁性無機化合物層３が形成されている
。
す断面図である。図１を参照して、Ｎｉ導体１のまわり
にはＮｉ酸化物層２が形成されており、このＮｉ酸化物
層２のまわりに絶縁性無機化合物層３が形成されている
。
【００１８】図２は、この発明に従う第２の実施例を示
す断面図である。図２を参照して、Ｎｉ合金導体１１の
まわりには、Ｎｉ合金酸化物層１２が形成されている。 Ｎｉ合金酸化物層１２のまわりには、絶縁性無機化合物
層１３が形成されている。
す断面図である。図２を参照して、Ｎｉ合金導体１１の
まわりには、Ｎｉ合金酸化物層１２が形成されている。 Ｎｉ合金酸化物層１２のまわりには、絶縁性無機化合物
層１３が形成されている。
【００１９】図３は、この発明に従う第３の実施例を示
す断面図である。図３を参照して、Ｃｕ導体２０のまわ
りには、たとえばカーボンなどからなる拡散防止層２４
が設けられている。この拡散防止層２４のまわりにＮｉ
層２１が形成されている。Ｎｉ層２１のまわりにはＮｉ
酸化物層２２が形成されけており、このまわりに絶縁性
無機化合物層２３が形成されている。
す断面図である。図３を参照して、Ｃｕ導体２０のまわ
りには、たとえばカーボンなどからなる拡散防止層２４
が設けられている。この拡散防止層２４のまわりにＮｉ
層２１が形成されている。Ｎｉ層２１のまわりにはＮｉ
酸化物層２２が形成されけており、このまわりに絶縁性
無機化合物層２３が形成されている。
【００２０】
【作用】この発明では、従来導体として用いられている
Ａｌよりも耐熱性の高い金属を用いることができる。こ
の発明で用いる導体の少なくとも外表面はＮｉまたはＮ
ｉ合金から形成されている。導体全体をＮｉまたはＮｉ
合金で形成させてもよいが、ＮｉまたはＮｉ合金は導電
率が低い。Ａｌは６０％ＩＡＣＳであるのに対し、Ｎｉ
は２５％ＩＡＣＳであり、Ｎｉ合金は２５％ＩＡＣＳ以
下である。このため、導電率を高めることを目的に、Ｃ
ｕの外表面にＮｉをメッキしたり、あるいはＮｉをクラ
ッドさせてもよい。しかしながら、このようなＮｉメッ
キＣｕやＮｉクラッドＣｕを高温で長時間使用すると、
ＮｉとＣｕの間で相互に拡散が起こり、合金層が形成さ
れて導電率が低下する。このような拡散を防止するため
に、図３に示す第３実施例のように、ＮｉとＣｕの界面
にＢＮなどからなる拡散防止層を設けてもよい。
Ａｌよりも耐熱性の高い金属を用いることができる。こ
の発明で用いる導体の少なくとも外表面はＮｉまたはＮ
ｉ合金から形成されている。導体全体をＮｉまたはＮｉ
合金で形成させてもよいが、ＮｉまたはＮｉ合金は導電
率が低い。Ａｌは６０％ＩＡＣＳであるのに対し、Ｎｉ
は２５％ＩＡＣＳであり、Ｎｉ合金は２５％ＩＡＣＳ以
下である。このため、導電率を高めることを目的に、Ｃ
ｕの外表面にＮｉをメッキしたり、あるいはＮｉをクラ
ッドさせてもよい。しかしながら、このようなＮｉメッ
キＣｕやＮｉクラッドＣｕを高温で長時間使用すると、
ＮｉとＣｕの間で相互に拡散が起こり、合金層が形成さ
れて導電率が低下する。このような拡散を防止するため
に、図３に示す第３実施例のように、ＮｉとＣｕの界面
にＢＮなどからなる拡散防止層を設けてもよい。
【００２１】上述のように、この発明において形成され
る絶縁性無機化合物層は、金属アルコキシドまたは金属
カルボン酸エステルを加水分解および縮重合して得られ
る金属酸化物から形成させることができる。このような
金属酸化物としては、たとえばＳｉＯ２ 、Ａｌ２ Ｏ
３ 、ＭｇＯ、およびＺｒＯ２ ならびにこれらの複合
体がある。これらの金属酸化物は、非常に緻密でかつ表
面が平滑であるため、高い絶縁性を有し、かつガス放出
が少ない。
る絶縁性無機化合物層は、金属アルコキシドまたは金属
カルボン酸エステルを加水分解および縮重合して得られ
る金属酸化物から形成させることができる。このような
金属酸化物としては、たとえばＳｉＯ２ 、Ａｌ２ Ｏ
３ 、ＭｇＯ、およびＺｒＯ２ ならびにこれらの複合
体がある。これらの金属酸化物は、非常に緻密でかつ表
面が平滑であるため、高い絶縁性を有し、かつガス放出
が少ない。
【００２２】また、有機金属ポリマーを熱分解して得ら
れる、ＳｉＯ２ などの金属酸化物、ＳｉＣなどの金属
炭化物、Ｓｉ３ Ｎ４ 、ＡｌＮ、およびＢＮなどの金
属窒化物またはこれらの複合物も同様に高い絶縁性を有
し、かつガス放出が少ない。
れる、ＳｉＯ２ などの金属酸化物、ＳｉＣなどの金属
炭化物、Ｓｉ３ Ｎ４ 、ＡｌＮ、およびＢＮなどの金
属窒化物またはこれらの複合物も同様に高い絶縁性を有
し、かつガス放出が少ない。
【００２３】これらの絶縁性無機化合物層は、導体外表
面のＮｉまたはＮｉ合金と親和性が少なく、直接コーテ
ィングすると高い密着力が得られず、すぐに剥離してし
まい、曲げ加工することができない。
面のＮｉまたはＮｉ合金と親和性が少なく、直接コーテ
ィングすると高い密着力が得られず、すぐに剥離してし
まい、曲げ加工することができない。
【００２４】この発明では、導体外表面のＮｉまたはＮ
ｉ合金を酸化処理してＮｉまたはＮｉ合金の酸化物層を
形成し、この酸化物層の上に絶縁性無機化合物層を形成
している。この酸化物層は、導体表面に非常によく密着
しており、また絶縁性無機化合物層との密着力も優れて
いる。このため、この発明に従えば、絶縁性無機化合物
層は剥離しにくく、たとえば電線にした場合、優れた可
撓性を得ることができる。
ｉ合金を酸化処理してＮｉまたはＮｉ合金の酸化物層を
形成し、この酸化物層の上に絶縁性無機化合物層を形成
している。この酸化物層は、導体表面に非常によく密着
しており、また絶縁性無機化合物層との密着力も優れて
いる。このため、この発明に従えば、絶縁性無機化合物
層は剥離しにくく、たとえば電線にした場合、優れた可
撓性を得ることができる。
【００２５】
【実施例】導体として、■Ｎｉ線（線径０．５ｍｍ）、
■Ｎｉ−１５ｗｔ％Ｃｒ合金線（線径０．３２ｍｍ）、
および■Ｎｉ／ＢＮ／Ｃｕクラッド線（Ｃｕ線に拡散防
止層としてのカーボン層を介してＮｉ層をクラッドした
線；Ｃｕ径０．３８ｍｍ，カーボン層厚み１０μｍ，Ｎ
ｉ層厚み５０μｍ）を用いてこのようにして、この発明
に従う無機絶縁部材を作製した。
■Ｎｉ−１５ｗｔ％Ｃｒ合金線（線径０．３２ｍｍ）、
および■Ｎｉ／ＢＮ／Ｃｕクラッド線（Ｃｕ線に拡散防
止層としてのカーボン層を介してＮｉ層をクラッドした
線；Ｃｕ径０．３８ｍｍ，カーボン層厚み１０μｍ，Ｎ
ｉ層厚み５０μｍ）を用いてこのようにして、この発明
に従う無機絶縁部材を作製した。
【００２６】導体■および■は、大気中８００℃で３０
分熱処理して表面を酸化させ、酸化物層を形成した。導
体■については、１０ｍＴｏｒｒのＡｒ−１０％Ｏ２
中で、プラズマ酸化処理を３０分行ない酸化物層を形成
させた。
分熱処理して表面を酸化させ、酸化物層を形成した。導
体■については、１０ｍＴｏｒｒのＡｒ−１０％Ｏ２
中で、プラズマ酸化処理を３０分行ない酸化物層を形成
させた。
【００２７】このようにして酸化処理した導体■ないし
■を用い、以下に述べる実施例１〜５のようにして線材
を作製した。
■を用い、以下に述べる実施例１〜５のようにして線材
を作製した。
【００２８】実施例１
テトラブチルオルトシリケートをイソプロピルアルコー
ルの溶媒中で加水分解および縮重合させてコーティング
液（以下Ａ液という）を作製した。このＡ液を用い、酸
化処理した導体■に塗布し、大気中５００℃で加熱して
、絶縁性無機化合物層として、ＳｉＯ２ 絶縁層を形成
した。ＳｉＯ２ 絶縁層の厚みは約５μｍであった。
ルの溶媒中で加水分解および縮重合させてコーティング
液（以下Ａ液という）を作製した。このＡ液を用い、酸
化処理した導体■に塗布し、大気中５００℃で加熱して
、絶縁性無機化合物層として、ＳｉＯ２ 絶縁層を形成
した。ＳｉＯ２ 絶縁層の厚みは約５μｍであった。
【００２９】実施例２
ポリシランをオートクレイブ中で４６０℃で熱分解縮重
合反応させ、ポリカルボシランを得た。このポリカルボ
シランからコーティング液（以下Ｂ液という）を調製し
、このＢ液を酸化処理した導体■に塗布し、Ｎ２ ガス
中、６００℃で加熱し、ＳｉＣ層（厚み５μｍ）を形成
した。
合反応させ、ポリカルボシランを得た。このポリカルボ
シランからコーティング液（以下Ｂ液という）を調製し
、このＢ液を酸化処理した導体■に塗布し、Ｎ２ ガス
中、６００℃で加熱し、ＳｉＣ層（厚み５μｍ）を形成
した。
【００３０】実施例３
メチルクロロジシランとヘキサメチレンジシラザンを２
７５℃で反応させて、ポリシラザンを得た。このポリシ
ラザンからコーティング液（以下Ｃ液という）を調製し
、このＣ液を導体■に塗布し、ＮＨ３ ガス中７００℃
で加熱して、Ｓｉ３ Ｎ４ 層（厚み７μｍ）を形成し
た。
７５℃で反応させて、ポリシラザンを得た。このポリシ
ラザンからコーティング液（以下Ｃ液という）を調製し
、このＣ液を導体■に塗布し、ＮＨ３ ガス中７００℃
で加熱して、Ｓｉ３ Ｎ４ 層（厚み７μｍ）を形成し
た。
【００３１】実施例４
上記のＡ液に８％のＡｌ（ＮＯ３ ）３ を添加し、こ
れを導体■上に塗布した後、５００℃で加熱してＳｉＯ
２ ・Ａｌ２ Ｏ３ 複合物層（厚み６μｍ）を形成し
た。
れを導体■上に塗布した後、５００℃で加熱してＳｉＯ
２ ・Ａｌ２ Ｏ３ 複合物層（厚み６μｍ）を形成し
た。
【００３２】実施例５
Ｂ液に２０ｗｔ％のＳｉＯ２ 粒子（粒径１μｍ）を分
散させ、これを導体■上に塗布した後、Ｎ２ −０．３
ｖｏｌ％Ｏ２ ガス中、６００℃で加熱した。さらにこ
の上に上記のＣ液を塗布し、ＮＨ３ ガス中、７００℃
で加熱して絶縁性無機化合物を形成した。Ｓｉ３ Ｎ４
層、およびＳｉＯ２ 粒子を含み、一部酸化されたＳ
ｉＣ層からなる無機化合物層の厚みは、全体として約１
０μｍであった。
散させ、これを導体■上に塗布した後、Ｎ２ −０．３
ｖｏｌ％Ｏ２ ガス中、６００℃で加熱した。さらにこ
の上に上記のＣ液を塗布し、ＮＨ３ ガス中、７００℃
で加熱して絶縁性無機化合物を形成した。Ｓｉ３ Ｎ４
層、およびＳｉＯ２ 粒子を含み、一部酸化されたＳ
ｉＣ層からなる無機化合物層の厚みは、全体として約１
０μｍであった。
【００３３】以上のようにして得られた実施例１〜５の
電線について、絶縁破壊電圧および可撓性を評価し表１
に示した。可撓性は、所定の直径を有した円柱に電線を
巻付け絶縁性無機化合物層に剥離が生じない最小の直径
をそれぞれの電線について求め、直径比として表わした
。
電線について、絶縁破壊電圧および可撓性を評価し表１
に示した。可撓性は、所定の直径を有した円柱に電線を
巻付け絶縁性無機化合物層に剥離が生じない最小の直径
をそれぞれの電線について求め、直径比として表わした
。
【００３４】なお、比較例として、従来のアルミ線のま
わりにＡｌ２ Ｏ３ 層（厚み１０μｍ）層を形成した
アルマイト電線を同様に評価した。 表１から明らかなように、この発明に従う実施例１
〜５の電線は、比較例のアルマイト電線に比べ、絶縁破
壊電圧が高く、しかも可撓性に優れている。
わりにＡｌ２ Ｏ３ 層（厚み１０μｍ）層を形成した
アルマイト電線を同様に評価した。 表１から明らかなように、この発明に従う実施例１
〜５の電線は、比較例のアルマイト電線に比べ、絶縁破
壊電圧が高く、しかも可撓性に優れている。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、この発明に従う無
機絶縁部材は、絶縁性無機化合物層の剥離が少なく、耐
熱性および絶縁性において優れている。
機絶縁部材は、絶縁性無機化合物層の剥離が少なく、耐
熱性および絶縁性において優れている。
【図１】この発明に従う第１の実施例を示す断面図であ
る。
る。
【図２】この発明に従う第２の実施例を示す断面図であ
る。
る。
【図３】この発明に従う第３の実施例を示す断面図であ
る。
る。
１ Ｎｉ導体
２ Ｎｉ酸化物層
３ 絶縁性無機化合物層
１１ Ｎｉ合金導体
１２ Ｎｉ合金酸化物層
１３ 絶縁性無機化合物層
２０ Ｃｕ導体
２１ Ｎｉ層
２２ Ｎｉ酸化物層
２３ 絶縁性無機化合物層
２４ 拡散防止層
Claims (6)
- 【請求項１】 ＮｉまたはＮｉ合金を少なくとも外表
面に有する導体と、前記導体の外表面を酸化処理して形
成されるＮｉまたはＮｉ合金の酸化物層と、前記Ｎｉま
たはＮｉ合金の酸化物層の外方に形成される絶縁性無機
化合物層とを備える、無機絶縁部材。 - 【請求項２】 前記ＮｉまたはＮｉ合金の酸化物層は
、酸素を含む気相中で酸化して形成されたものである、
請求項１に記載の無機絶縁部材。 - 【請求項３】 前記絶縁性無機化合物層が、金属アル
コキシドまたは金属カルボン酸エステルを加水分解およ
び縮重合して得られる金属酸化物からなる、請求項１に
記載の無機絶縁部材。 - 【請求項４】 前記絶縁性無機化合物層が、有機金属
ポリマーの熱分解により得られる金属酸化物、金属炭化
物、金属窒化物またはこれらの複合物からなる、請求項
１に記載の無機絶縁部材。 - 【請求項５】 前記絶縁性無機化合物層が、セラミッ
クス微粒子を含む、請求項１に記載の無機絶縁部材。 - 【請求項６】 無機絶縁部材が、高温用電線または絶
縁リード線である、請求項１に記載の無機絶縁部材。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3001645A JPH04242011A (ja) | 1991-01-10 | 1991-01-10 | 無機絶縁部材 |
| CA 2058137 CA2058137C (en) | 1991-01-10 | 1991-12-19 | Inorganic insulating member |
| EP91121858A EP0494424B1 (en) | 1991-01-10 | 1991-12-19 | Method for the production of an electrical conductor having an inorganic insulation |
| DE1991631710 DE69131710T2 (de) | 1991-01-10 | 1991-12-19 | Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Leiters mit anorganischer Isolierung |
| US08/093,315 US5436409A (en) | 1991-01-10 | 1993-07-16 | Electrical conductor member such as a wire with an inorganic insulating coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3001645A JPH04242011A (ja) | 1991-01-10 | 1991-01-10 | 無機絶縁部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04242011A true JPH04242011A (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=11507258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3001645A Pending JPH04242011A (ja) | 1991-01-10 | 1991-01-10 | 無機絶縁部材 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0494424B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04242011A (ja) |
| CA (1) | CA2058137C (ja) |
| DE (1) | DE69131710T2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69502270T2 (de) * | 1995-02-24 | 1999-01-07 | Sumitomo Electric Industries | Elektrisches Leiterelement wie ein Draht mit anorganischen Isolierbeschichtung |
| DE102009022714B4 (de) * | 2008-05-27 | 2014-01-02 | Alstom Technology Ltd. | Verfahren zum Oxidieren eines Thermoelementschutzrohrs |
| DE102008039326A1 (de) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | IWT Stiftung Institut für Werkstofftechnik | Verfahren zum elektrischen Isolieren von Elektroblech, elektrisch isoliertes Elektroblech, lamellierter magnetischer Kern mit dem Elektroblech und Verfahren zum Herstellen eines lamellierten magnetischen Kerns |
| US8802230B2 (en) | 2009-12-18 | 2014-08-12 | GM Global Technology Operations LLC | Electrically-insulative coating, coating system and method |
| CN110010296A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-12 | 金杯电工衡阳电缆有限公司 | 一种含有缓冲结构的中压阻燃耐火电力电缆 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2975078A (en) * | 1957-10-21 | 1961-03-14 | Cons Electrodynamics Corp | Ceramic coated wire |
| US4342814A (en) * | 1978-12-12 | 1982-08-03 | The Fujikura Cable Works, Ltd. | Heat-resistant electrically insulated wires and a method for preparing the same |
| JPS63281313A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 耐熱電線 |
| US4990491A (en) * | 1988-06-29 | 1991-02-05 | Westinghouse Electric Corp. | Insulation for superconductors |
| JPH02301909A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 無機絶縁電線およびその製造方法 |
-
1991
- 1991-01-10 JP JP3001645A patent/JPH04242011A/ja active Pending
- 1991-12-19 DE DE1991631710 patent/DE69131710T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-19 CA CA 2058137 patent/CA2058137C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-19 EP EP91121858A patent/EP0494424B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0494424B1 (en) | 1999-10-13 |
| CA2058137C (en) | 1996-09-24 |
| EP0494424A1 (en) | 1992-07-15 |
| DE69131710T2 (de) | 2000-06-08 |
| CA2058137A1 (en) | 1992-07-11 |
| DE69131710D1 (de) | 1999-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5436409A (en) | Electrical conductor member such as a wire with an inorganic insulating coating | |
| EP0410003B1 (en) | Insulated electric wire | |
| JPH04242011A (ja) | 無機絶縁部材 | |
| CA2050339C (en) | Insulated wire for high temperature use | |
| JPH02301909A (ja) | 無機絶縁電線およびその製造方法 | |
| EP0729157B1 (en) | Electrical conductor member such as a wire with an inorganic insulating coating | |
| JPH03105803A (ja) | 無機絶縁電線およびその製造方法 | |
| CA2142765C (en) | Inorganic insulating member | |
| JPH0349109A (ja) | 無機絶縁導体 | |
| JPH08264028A (ja) | 絶縁被覆電気導体およびその製造方法 | |
| JP3336735B2 (ja) | 絶縁電線 | |
| JP3261249B2 (ja) | 超耐熱高圧絶縁電線及びその製造方法 | |
| JPH04303517A (ja) | 絶縁電線 | |
| WO1990011603A1 (fr) | Fil electrique isole | |
| JP3074741B2 (ja) | 絶縁電線 | |
| JP2709592B2 (ja) | 耐熱絶縁電線 | |
| JPH04282509A (ja) | 真空用電線 | |
| JPH02270217A (ja) | 絶縁電線 | |
| JPH02183909A (ja) | 絶縁電線 | |
| JPH04303516A (ja) | 絶縁電線 | |
| JPH04303515A (ja) | 絶縁電線 | |
| JPH04301317A (ja) | 絶縁電線 | |
| JPH06309946A (ja) | 耐熱電線 | |
| JP2677831B2 (ja) | 真空用耐熱性導体 | |
| JPH0279309A (ja) | セラミックス絶縁電線 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000627 |