JPS63279489A - 半導体メモリ集積回路 - Google Patents

半導体メモリ集積回路

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Publication number
JPS63279489A
JPS63279489A JP62115204A JP11520487A JPS63279489A JP S63279489 A JPS63279489 A JP S63279489A JP 62115204 A JP62115204 A JP 62115204A JP 11520487 A JP11520487 A JP 11520487A JP S63279489 A JPS63279489 A JP S63279489A
Authority
JP
Japan
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circuit
output
read
memory cell
write
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Pending
Application number
JP62115204A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumio Ikegami
池上 文雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体メモリ集積回路に関する。
〔従来の技術〕
従来の半導体メモリ集積回路においては、その内部の電
位を測定するなめに、内部配線に金属探針(プローブ)
を接触させて電位を測定する触針法や電子ビームをプロ
ーブとして使用するEBテスタが用いられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来技術のうち前者は、■配線幅が数μm以下
となっている今日では、測定が困難であり、LSIを破
壊してしまうおそれがある。■通常、最上層の配線のみ
しか測定できない。■電位を測定するために、金属探針
などの測定装置が必要である。
という問題点があり、また後者は、 ■絶体電圧測定誤差は、0.5 以上と大きい。
■最上層の配線のみしか測定不可能である。
■走査形遠視顕微鏡(SEM)などの測定装置が必要と
なる。
という問題点がある。
上述した従来の方法に対し、本発明は、LSIの外部端
子からLSI内部の電位をLSIテスタにより手軽に測
定できるという独創性をもっている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体メモリセル回路は、メモリセル回路、ワ
ード選択回路、デジット選択回路、読出し書込み制御回
路、読出し書込み回路のそれぞれの出力やメモリセル回
路の内部と導体で接続された外部端子を少なくとも一つ
有する。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例であり、1ビツトのメモリセ
ルに対する回路図を示す。
1はLSIの外部端子、2a、2bはそれぞれ読出し書
込み制御回路出力、3はワード線、4はメモリセルトラ
ンジスタQlのベースである。本実施例では、書込み制
御回路の出力2b、ワード線3およびメモリセルトラン
ジスタQ+のベース4をそれぞれLSIの外部端子1a
、lbおよび1cに金属配線で接続することにより、上
記3個所の内部レベルをLSIテスタにて測定可能にす
ることかできるようにしている。
上記3個所の内部レベルを測定することにより、メモリ
の書込み、読出しが正常に機能していることを確認する
ことができる。
従来、開発段階のLSIメモリにおいては、機能不良が
発生した場合、LSIテスタにおいて、ワード選択回路
の不良、デジット選択回路の不良、読出し書込み制御回
路の論理不良、メモリセルの複数ビット不良は、故障個
所の固定が可能であるが、読出し、書込みが正常に機能
しているかどうかの判断はできなかった。
本発明の機能を有するLSIメモリは、開発段階で機能
不良が発生した場合や、フィールド不良が発生した場合
にもLSIテスタを用いて内部レベルを簡単に測定でき
るので、読出し書込み機能が正常に動作しているかなど
、不良個所を検出するのに有用である。
第2図は、この発明における第2の実施例である。
100はLSIチップである。この例では、ワード選択
回路20の出力、デジット選択回路30の出力、読出し
書込み制御回路40の出力をそれぞれ外部端子10に接
続することにより、上記3つの回路が正常に機能してい
ることをLSIテスタにて確認できる。
第2の実施例は、フェイルビットマツプ機能がないロジ
ックLSIテスタまなはLSIチップ100の出力ビン
数が多すぎるなどの理由でフエイルビットマ・イブ機能
が利用できない場合に有用である。
〔発明の効果〕
本発明のよれば、以上のような構成により、LSIを破
壊することなく、精度よ<(LSIテスタの測定精度)
かつ手軽に(L’SIテスタさえあれば測定できる)に
内部レベルを測定することができ、機能不良の場所を短
時間で同定できるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明の第1の実施例、第2の実・施
例である。 l a 、 1 b 、 1 c 、 10−外部端子
、2a。 2b・・・読出し書込み制御回路出力、3・・・ワード
線、20・・・ワード選択回路、30・・・ディジット
選択回路、40・・・読出し書込み制御回路、100・
・・LSIチップ。 $ l 阿 辛 2[

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 メモリセル回路、ワード線選択回路、デジット選択回路
    、読出し書込み制御回路、読出し書込み回路、出力回路
    の各ブロックよりなる半導体メモリ集積回路において、 前記出力回路を除く前記各回路の出力や前記メモリセル
    回路の内部と導体で接続された外部端子を少なくとも一
    つ有することを特徴とする半導体メモリ集積回路。
JP62115204A 1987-05-11 1987-05-11 半導体メモリ集積回路 Pending JPS63279489A (ja)

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