JPS63275937A - 光学式形状検査装置 - Google Patents

光学式形状検査装置

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JPS63275937A
JPS63275937A JP62112051A JP11205187A JPS63275937A JP S63275937 A JPS63275937 A JP S63275937A JP 62112051 A JP62112051 A JP 62112051A JP 11205187 A JP11205187 A JP 11205187A JP S63275937 A JPS63275937 A JP S63275937A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 この発明は、部品の突出部の突出量を光学的に検出する
のに、突出部の画像が不鮮明であり検出処理の遅いのに
対処するために、部品と直交する方向の光源からの光を
部品面方向に変更し、突出部の背面より照射してカメラ
にw人する光学手段と、部品面の傾きを検出して突出量
を検出する画像処理装置とを設けである。
〔産業上の利用分野〕
この発明は、突出部を有する部品、特にスモール・アウ
トライン・パンケージ(SOP)型タイプのICのリー
ド部分の形状を検査する光学式形状検査に関するもので
ある。
近年、情報3通信の分野で使用されるプリント板は高密
度化が促進されている。これに伴って、実装される電子
部品のリード部の高精度な成形が要求され、プリント板
への実装前のリード部の外観検査が重要な課題となって
いる。したがって、2C:、− 正確なしかも迅速なリード部の形状検査の行える光学式
形状検査装置が必要とされている。
〔従来の技術〕
従来、光源からの光をICのり一トに照射し、その反射
光によって生ずる映像を画像処理装置で処理を行い、リ
ード位置を検出する装置がある。
従来の装置は、第9図に示すように構成されている。即
ち、第9図(a)のように光源20をカメラ50の方向
に設け、リード1−1〜1−nからの反射光を撮影レン
ズ5−3を介してカメラ50で受光し、この画像データ
を画像処理装置60にて処理する。この場合の画像デー
タは、リードのみでなく部品その他からの乱反射による
データも含み、正常なリード形状の撮像が困難であると
いう欠点がある。
又第9図(b)に示すように、前記反射光のために生ず
る欠点を解決するため、光m、20をリード部の背面に
設け、リードの背面から照射する方法が考えられるが、
グラソトリーF型のICIのリードの形状を検出しよう
とすると、リードの突出部が少な(且つ光源が撮像系の
光軸上に配置することが困難である。
第9図(C1のように、撮影レンズ5−3と反対側に光
源20を配置すると、反対側のリード例えば1−nの影
を撮像し不正確となる。
反対側のリードの影像を排除するため、第9図(d)の
ように光源20をICIの底面に密着させる場合が考え
られる。しかしこの場合、光源20を形成するランプの
上部にあるガラス厚のためランプ中心がリード位置から
はずれ、リード背面に十分な光計かえられず、さらにI
Cへの熱伝導によってICが損傷するという問題も生じ
る。
また撮影レンズ5−3に高倍率のものを用いれば高精度
の計測が可能となるが、反面ICIの全体を同一視野に
入れることが出来ないという不都合がある。
したがって、倍率を高くすれば視野が狭くなり、視野を
広くすると低倍率となると云う問題がある。
カメラ50で得られた画像データは、画像処理装置60
に入力される。画像処理装置60は、画像データをA/
D変換してフレームメモリに格納し、この格納値を2値
化する。この2値化の方法は、−7’fQに、対象物と
背景の割合から累積ヒストグラムによって「しきい値」
即ちスライスレベルを決定するpタイル法、対象物と背
景とがヒストグラム上でそれぞれ大きなピークを示すと
きは、このピーク間の谷を見付けるモード法を用いてス
ライスレベルを決定し、2値化し画像処理をしてリード
位置を検出している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の装置は、リードを照射する光学系に問題があり、
適切にして正確なリード形状が得られず且つリードを拡
大しようとするとカメラの視野が狭くなると云う問題と
、画像処理装置はpタイル法、モード法を用いて画像デ
ータの処理を行い、その処理が遅いと云う問題があった
この発明は、上記した従来の状況から、鮮明な画像デー
タが得られ高速処理が可能な光学的形状検査装置を提供
することを目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は、第1図の原理図に示すように、光a2をI
CIに直交する方向に設け、先端がICIの底面に当接
する光学手段4を設け、光学手段4でn’l乱した光が
リードを透光しシリンドリカルレンズ5−2 と撮影レ
ンズ5−3 と絞り機構即ち絞り5−1を介してカメラ
5に入射する。カメラ5が画像データを作成し、この画
像データを画像処理装置6に入力するように構成しであ
る。
〔作用〕
光学手段4は、例えば光拡散板4−1と三角プリズム4
−2とで構成されており、光源2からの光は光拡散板4
−1で散乱されて三角プリズム4〜2でIC底面に平行
方向に進行するようにしである。一方カメラ5には、絞
り5−1 とシリンドリカルレンズ5−2が設けてあり
、シリンドリカルレンズ5−2によりリードの長さ方向
に対してのみ倍率を上げ、絞り5−1の開口部を狭くす
ることにより焦点深度を大きくし、リードに対して縦横
の両方向同時に焦点合わせを行う。
画像処理装置6では、第5図(blに示す入力画像の輝
度分布をフレームメモリ6−3上を検索して、視野内の
右下或いは左下め輝度をスライスレベルとして2値化す
番。又、リード長さを測定するための基準となるIC底
面を第6図に示すように、第6図(a)の2値化画像デ
ータの第6図(b)に示す水平輝度分布から求める。
即ち、水平輝度分布の任意の位置Aoの水平方向の白レ
ベルの画素数を累計し、その値が目標値より小さいなら
ば、Aoより所定距離りだけ下方向に、逆にもし累計値
が目標より大きいならば、Aoより距離したけ上方向に
移動してA1を求め、次ぎにA1位置から上記したと同
じ方法でL/2の移動してA2位置を求める。このよう
に順次1/2になるように移動を繰り換えしてIC底面
を検出する。このようにすることによって画像処理の時
間短縮が可能になるとともに、高精度の計測が可能とな
る。
〔実施例〕
第2図は本発明の一実施例を示す模式図である。
この図はSOP (SMOLL−OUTL INE−P
ACKAGE)タイプのICのリードの上下方向の曲が
り (以後浮き量と記す)を検出する場合を示している
光a2はICIの底面に直交する方向に設けである。こ
の光源2からの光は集光レンズ3を通り、光学手段4を
形成する光拡散板4−1と三角プリズム4−2を照射す
る。従って、光源光は光拡j1(仮4−1で散乱されて
三角プリズム4−2を照射し、散乱光が三角プリズム4
−2から照射される。但しこの光学手段4は第3図に示
すものでもよい。即ら、IC底面に当接した光拡散板4
−3を屋根型に構成し、光源2を遠方に設は光源光を光
ファイバー2−1を介して光拡散板4−3を照射するよ
うにしである。
一方、IcIの上面は真空吸着ヘッド7によって、その
底面が三角プリズム4−2の頂点に当接するように保持
される。
三角プリズム4−2を出射したjl&乱光はリード1−
11−nの背面を照射しリード間隙を通過した光は、シ
リンドリカルレンズ5−2 と撮影レンズ5−3と絞り
機構、即ち絞り5−1を介してカメラ5に入射する。
第2図ではカメラ5の位置をICの水平面に設けである
が、三角プリズム4−2の出射光を受光する位置であれ
ばよい。
従って、リード1−1〜1−nの背面からの散乱光で生
ずるリードの映像はシリンドリカルレンズ5−2で上下
方向に拡大される。又絞り5−1の開口面積を小さくし
焦点深度を大きくし縦横方向同時に焦点合わせを行い、
リードの映像をカメラ5で画像データとする。
この画像データはカメラコントロールユニット(以後C
CUと記す)8−1と8−2に入力される。CCU3−
1.8−2は入力される画像データをビデオセパレータ
9とカメラ制御部10に入力する。このビデオセパレー
タ9は、画像モニタ11の表示画面の上半分に例えば、
右側のカメラ映像を、表示画面の下半分に左側のカメラ
の映像を表示し、1台の画像モニタで両面の映像の観察
を可能としている。
カメラ制?111部10は、画像処理装置6の画像処理
部6−1によって制御されており、画像処理部6−1の
要求によって画像データをA/Dコンバータ6−2に送
る。A/Dコンバータ6−2は、画像データをデジタル
信号に変換してフレームメモリ6−3に格納する。この
フレームメモリ6−3の処理状態は処理画像モニタ12
にて観察される。
このフレームメモリ6−3から、画像処理部6−1が後
述する処理を行い、ICのリード右側カメラで得られた
画像データの良否を判定する。この判定を終了すると、
画像処理部6−1はカメラ制御部10を制御して左側カ
メラからの画像データの判定をする。左右カメラの画像
データの判定が終了すると、真空吸着ヘッド7の制御部
?−1に信号を送り、このICを別のICと取替えて検
査をする。
画像処理部6−1の動作を第4図に示すフローチャート
によって説明する。画像データが格納されたフレームメ
モリ6−3の画像データは、(第4図(イ)で示す状態
)何等かの方法で2値化する必要がある。この発明の2
値化の方法を第5図に基づいて説明する。画像データは
、第5図(alに示すiQ度ヒストグラムをもっている
。このヒストグラムは、ぼぼ完全な双峰型を示し、最適
な2値化スライスレベルは2.つの山の間の谷であるこ
とは明itであり、頻度の高い山の最も低い輝度レベル
の分布(G点)よりやや低いレベルを2値化のレベルと
すればよいことは周知のことである。
一方、フレームメモリ6−3内の画像データの輝度分布
は、第5図(b)に示すようになっている。即ち、第5
図(a)に示すA、B・・トIの輝度は、第5図(b)
の点線で示す位置にそれぞれ該当する。これは、光源の
光束分布がランプ光軸付近が最も密であり、光軸からは
なれるほど疎となっているためであり、ランプの光軸上
にある入力画像中のAの部分が最も明るくフレームメモ
リの右下及び左下にゆく程暗くなるからである。
従って、フレームメモリ上で入力画像データの右下或い
は左下部分の明るさ、即ちG点よりやや低い輝度を2値
化スライスレベルとすればよい。
従って2値化が簡単で然も高速で決定可能となる。
上記したように第4図(ロ)の2値画像化がされる。
次にリードの形状を検出するために、リードの長さ方向
の曲がり、即ちリードの浮き量は、リードの長さを計測
すると判るので各リードの長さく浮き量)を計測するた
めの基fs <この場合ICの底面)即ち、測長開始位
置を求める必要がある。
これが、第4図(ハ)の処理である。即ち、第6図(a
)に示す2値化画像は、画面の約半分はICの影である
から白レベルの画素はなく、逆に画面の約下半分は背景
部分(三角プリズム)であり輝度が高く白レベルが大半
であるので、この水平方向の投影分布は第6図(b)に
示すようになる。
この投影分布上の任意の位置Aoの水平方向の白レベル
の画素数を累計し、その値が目標値より小さい(大きい
)と、位置Aoより画面の下方(上方)位置に所要距離
り移動しA1とする。次に位置A1から上記したことを
移動距離L/2として行い、順次A2.A、  ・・と
移動距離を半分にして行う。この操作を(Log2L+
1)回繰り換えずことによって、累計画素数が目標値T
1に最も近い位置即ちICの底面位置が得られる。
例えば、フレームメモリ6−3が縦512画素で形成さ
れた容量であると、開始位置Aoを256とししを12
8とすれば、探索範囲がA±2L即ち0〜512となり
、(Log 2128 + 1 )回、即ち8回水平方
向の画素数を累計することにより底面が求められる。
上記したようにして、IC底面の位置の検出を行うが、
此のICは、真空吸着ヘッド7の吸着面と三角プリズム
4−2の位置、カメラレンズ5−3の回転、シリンドリ
カルレンズ5−2の歪等によって多少傾いたり湾曲して
いる。したがってこの補正をする必要がある。
この場合、第7図に示すようにフレームメモリの2値画
像を縦にn(例えば16)等分して、その各々のICの
底面位置を上記の方法で求め、隣接する領域の底面位置
からその領域内のすべての地点の底面を算出する。上記
処理によって底面の位置検出をして底面の補正をする。
これが第4図(ハ)の処理である。
次にリードの位置をまず求める。これは底面の補正され
た仮想底面に対して行われ、第8図に示すように、2値
化画像を上記した仮想底面位置から例えば下方5画素の
位置でサーチして最初の白黒反転位置をリードl−1の
位置とし、リードピッチ分スキップしてサーチを行いリ
ード1−2〜1− mの位置を検出する。これが第4図
(ニ)の処理である。
次ぎに、各リードの浮き量(単位:画素)を求める。こ
れは上記のn等分したIC底面位置検出と同様な方法を
用いて求める。但し目標値は上記したICの底面位置検
出時の目標値と違い、リードの先端部に対応した値であ
り、例えば第6図(blの目標値T2である。この検出
位置と底面位置とからリードの浮き量を求める。第4図
(ホ)の処理である。
上記した処理により各リードの浮き世(単位:画素)が
計測できる。したがって、予め実験によって実際の長さ
は何画素に相当することを知っておけば、実際の浮き量
は求めることができる。
片面のリード計測が終了すると画像処理部6−1は、カ
メラ制御部10に信号を送り反対側のリードの同様に行
い計測をする。第4図(へ)、(ニ)。
(ホ)の処理である。全部のリードの計測が終了すると
、予め入力しておいた浮き量の規格値と比較し良否の判
定(第4図(ト))をして、不良であると、取り外し信
号を吸着ヘッド制御部7−1に送り、ICを排除する(
チ)。
上記処理をICを取替えて繰り返し行い計測を行う。な
お、上記説明はS叶型のICを例として説明を行ったが
、以外の電子部品でもよ(、また不透明物体により形成
されたパターンの変形度チェ・ンクに適用しても何等支
障されるものはない。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、この発明によれば各種
の電子部品のリード部及び不透明物体で形成されるパタ
ーンの計測が行え、精度向上、信頼性の向上及び能率向
上の而できわめて有効な効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理図、 第2図は本発明の一実施例を示す模式図第3図は本発明
の光学手段の他の実施例を示す斜視図、 第4図は本発明の画像処理装置の動作を示すフローチャ
ート、 第5図は本発明のスライスレベルを説明するための模式
図、 第6図は本発明のIC底面位置を求める方法を説明する
ための模式図、 第7図は本発明のIC底面の傾きを求める方法を示す模
式図、 第8図は本発明のリード位置検索方法を説明するための
模式図、 第9図は従来の光学式形状検査装置の要部を示す模式図
である。 図において、1はIC,2は光源、4は光学手段、5は
カメラ、5−1 は絞り、5−2はシリンドリカルレン
ズ、6は画像処理装置を示す。 本発明の原理g 第1図 屏I纏ゴ千iえ−叱6r麺例綜1軒視X第3図 滞完9胎→儲σJ9ネ1蹟弐口 第2図 2トミ丙≦gりのh(J陀唖さア【シ<Vめ1町iイ乍
9)件1゛70〜+1−−ト第4図 (C1l                     
     (e’ン/¥発ロ月めス:フイ又し六゛ルを
8を岨7さしの撰改図第5図 、4;調錫ンq6すr−リJCλEffiゴのイ立(瀞
=(=A−シーへシシ)−タ匙;フ;Tコζ1ヒ弐回第
6図 シト3乙d町、QIC万にめ04やを裳/13方渋乞方
iT石釘5ぐの第7図 /149Fトnリート・°イブ1不史梁δ)乏9瀝明す
注め纜戎蔓σ第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 複数の不透明突出部(1−1〜1−n)を有する部品(
    1)の前記突出部(1−1〜1−n)に投光を行い、前
    記突出部(1−1〜1−n)の映像をカメラ(5)にて
    撮像をし画像処理を行い形状検査を行う装置において、 前記部品(1)と直交する方向に設けられた光源(2)
    からの光を部品面方向に変更し突出部(1−1〜1−n
    )の背面から照射して前記カメラ(5)に導入する光学
    手段(4)と、 前記透光を受光する絞り機構(5−1)を有するととも
    に該絞り機構(5−1)の通過光を前記部品の両側で受
    光するカメラ(5)とを備え、 前記カメラ(5)の画像から前記部品面の傾きを検出し
    前記突出部(1−1〜1−n)の突出量を検出する画像
    処理装置(6)を設けたことを特徴とする光学式形状検
    査装置。
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