JPS6327341B2 - - Google Patents

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JPS6327341B2
JPS6327341B2 JP60026638A JP2663885A JPS6327341B2 JP S6327341 B2 JPS6327341 B2 JP S6327341B2 JP 60026638 A JP60026638 A JP 60026638A JP 2663885 A JP2663885 A JP 2663885A JP S6327341 B2 JPS6327341 B2 JP S6327341B2
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JP
Japan
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phenolsulfonate
acid
carbon atoms
anhydride
molar ratio
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JP60026638A
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JPS60202857A (ja
Inventor
Mowanu Joze
Deisudeie Kamiiyu
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ROONU PUURAN SHIMI
Original Assignee
ROONU PUURAN SHIMI
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Publication date
Application filed by ROONU PUURAN SHIMI filed Critical ROONU PUURAN SHIMI
Publication of JPS60202857A publication Critical patent/JPS60202857A/ja
Publication of JPS6327341B2 publication Critical patent/JPS6327341B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、p−アシルオキシベンゼンスルホン
酸塩の製造方法に関する。特に、本発明は、アシ
ルオキシ基が7〜12個の炭素原子を含有するp−
アシルオキシベンゼンスルホン酸塩を塩基触媒に
よつて製造する方法に関する。
仏国特許第2164619号の実施例1によれば、こ
れらの化合物を脂肪酸クロリドとフエノールスル
ホン酸カリウムとから無水媒体中で直接縮合させ
ることによつて製造することが知られている。し
かしながら、酸クロリドとフエノールスルホン酸
塩との縮合速度は極めて遅く(150℃で20時間)、
また生じた生成物は非常に単離しがたい。また、
この方法では除去が全く容易でないHCIが多量に
形成されるという問題がある。
また、Pueschel氏の「Tenside」(5)p.249−
54(1970)によれば、これらの化合物を、仏国特
許第2164619号の方法とほとんど異ならないが、
ただガス状塩酸の除去を回避するための酸受容体
の存在下で製造することが知られている。生じた
生成物は交換ナトリウムで中和されるが、しかし
得られた生成物を中和時に生じた塩化ナトリウム
から分離することが非常に困難である。
フエノールスルホン酸塩に対する酸クロリドの
縮合反応が遅いことが当業者に温度を相当に高く
することを要求したが、しかし強く着色した生成
物が生成するという問題がある。事実、これらの
生成物は大部分が洗剤に用いられるので、商業的
要求に応じるためには完全に白い生成物を用意す
る必要がある。
同様に、仏国特許第2299321号によれば、フエ
ノールスルホン酸塩の粉末を蒸気状の無水酢酸と
縮合させることによつてP−アシルオキシベンゼ
ンスルホン酸塩を製造することが知られている。
この反応は無水酢酸が140℃の沸点を有するので
乾式で実施できるが、例えばノナン酸無水物をフ
エノールスルホン酸塩に縮合させるためにこの方
法のように実施することは予測されないことであ
る。なぜならば、ノナン酸無水物は260℃の沸点
を有するからである。
液状媒体中での酸無水物とフエノールスルホン
酸塩との縮合を記載するどんな刊行物も知られて
いない。
ここに、上記のような不都合の全てを除去でき
る、即ち、液状媒体中での迅速な反応、縮合生成
物の容易な分離及び着色していない生成物の取得
を達成できる方法が見出された。
この方法は、極性の中性溶媒中で触媒量の、7
〜12個の炭素原子を含有する線状又は分岐状脂肪
酸のアルカリ又はアルカリ土金属塩の存在下にフ
エノールスルホン酸アルカリ、アルカリ土金属又
はアンモニウム塩を7〜12個の炭素原子を含有す
る線状又は分岐状の酸の無水物によつてアシル化
することを特徴とする次の一般式 (ここで、R1は6〜11個の炭素原子を含有する
線状又は分岐状脂肪族基であり、 R2は水素、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を
有するアルキル基又はSO3M基よりなる群から選
ばれる基であり、 Mはアルカリ金属、アルカリ土金属又はアンモ
ニウム基である) のp−アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の製造
方法である。
用いることのできる脂肪酸の無水物としては、
ヘプタン酸、オクタン酸、カプリル酸、ノナン
酸、ペラルゴン酸、デカン酸、カプリン酸、ドデ
カン酸、ラウリン酸などの無水物があげられる。
本発明は、特に9個の炭素原子を含有する酸の無
水物に応用される。これらの酸としては、特に、
ペラルゴン酸及び3,3,5−トリメチルヘキサ
ン酸の無水物が関係する。なぜならば、これらは
工業的に入手使用できるからである。
酸の無水物は、多くの方法により知られた態様
で製造することができる。Joho Wiley氏編
「Organic synthe´se Collectine」1955年版、
Vol.3、p.28に記載の第一の実施法によれば、酸
クロリド、酸及び生じた酸を中和する第三級塩基
を接触させることができる、これにより、所望の
無水物及び第三級塩基の塩酸塩が得られる。
「Journal of Chemical Society」1964、
p.755に記載の第二の実施法によれば、水中で酸
クロリドと酸のナトリウム塩とを接触させること
ができる。これにより、所望の無水物と塩化ナト
ウムとが得られる。この反応は水中で行われるの
で、生じた無水物は容易に加水分離されるべきで
ない。
第三の実施法によれば、次の反応式 に従つて、無水酢酸が酸と反応せしめられる。
過剰の無水酢酸の存在下で実施するのが好まし
く、これは反応終了後に蒸留される。
過剰の無水酢酸の存在下で実施するのが好まし
く、これは反応終了後に蒸留される。
本発明の方法によれば、第三の実施法で得られ
た酸の無水物を用いるのが好ましい。
各種のフエノールスルホン酸塩のうちでも、
R2が水素であるフエノールスルホン酸塩、特に
フエノールスルホン酸ナトリウム及びカリウムを
用いるのが好ましい。なぜならば、これらは工業
的に最も容易に入手できるからである。
極性の中性溶媒としては、例えば、 ジメチルホルムアミド N−メチルピロリドン ジメチルアセトアミド ジメチルスルホキシド スルホラン があげられる。
それでも、溶媒は無臭でなければならない。な
ぜならば、洗濯用混合物に悪臭性物質を配合する
ことは商業的観点から不可能であるからである。
容媒は高すぎない沸点を有するべきであり、ま
た得るべき製品価格を不当に上昇させないように
十分に低い原価のものであるべきである。ジメチ
ルホルムアミドがこれらの溶媒のうちで、これら
の条件に最も合致するものである。
縮合反応の触媒として用いられる7〜12個の炭
素原子を有する酸のアルカリ又はアルカリ土金属
塩は、次の一般式 R3COOM () (ここで、Mはアルカリ金属又はアルカリ土金属
であり、 R3は6〜11個の炭素原子を含有する線状又は
分岐状アルキル基である) に相当する。好ましくは、無水物を形成するのに
供される酸と同一の酸のナトリウム塩が用いられ
る。これは反応の化学種と異なる化学種の混入を
回避させるものである。
正確な反応速度を得るためには、フエノールス
ルホン酸塩に対して過剰モル数の無水物を使用す
ることが好ましい。経済的な収率を得るために
は、理論反応量に対して少なくとも0.2モル、好
ましくは0.2〜0.3モルの過剰量を加えることがさ
らに好ましい。
溶媒対フエノールスルホン酸塩のモル比は、好
ましくは5〜50である。これよりも多い量を本発
明の範囲から除外するものではないが、そのよう
な量は方法の経済性に適合させるべきである。
このモル比は、さらに好ましくは5〜10であ
り、特に好ましくはこの比は7〜10である。
式()の化合物対フエノールスルホン酸塩の
モル比は、好ましくは約0.005以上、特に好まし
くは0.01〜0.02である。
反応温度は反応速度に影響し、しかして80℃以
上の温度が有益である。これよりも高い温度は本
発明の方法に対して有害ではない。ただ、方法の
経済性に温度を適合させる必要がある。したがつ
て、好ましい反応温度は90〜100℃である。
反応は、一般に、大気圧下で行われるが、これ
よりも高い圧力は本発明の方法に対して有害では
ない。
本発明の生成物は、90℃以上、好ましくは90〜
100℃の温度において、導入した溶媒とほぼ同一
重量のアセトンを添加してアセトンによる塩析に
よつて反応媒体から抽出することができる。
p−アシルオキシベンゼンスルホン酸塩は、、
界面活性物質として洗剤に用いられる。式()
の化合物の例としては、3,3,5−トリメチル
ヘキサノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム、オクタノイルオキシベンゼンスルホン酸ナト
リウム、ドデカノイルオキシベンゼンスルホン酸
ナトリウムがあげられる。
本発明を下記の実施例によつてさらに詳述す
る。
例 1 3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム (1) 3,5,5−トリメチルヘキサン酸無水物
TMH無水物 蒸留カラムを備えた1000の反応器に583Kg
(3.69kモル)のトリメチルヘキサン酸、282Kg
(2.76kモル)の無水酢酸及び0.1Kgの酢酸ナト
リウムを装入した。この触媒は、TMH無水物
に与える着色が少ないことを考慮して選択され
た。反応媒体は12000Paの真空下に90℃にもた
らして生じた酢酸を蒸留させる。真空は沸騰温
度の上昇に応じて調節する。
3時間後に反応を停止する。
T゜=110℃、p=6660Pa 反応媒体を160℃(1300Paで)にもたらして
過剰の無水酢酸を除去する。
ごくわずかに着色した3,5,5−トリメチ
ルヘキサン酸無水物は蒸留されないが、そのま
ま用いる。
重量(p)=550Kg 収率(R)=100% (2) P−フエノールスルホン酸ナトリウムに対す
るTMH無水物の縮合 小さいカラムを備えた3m3の反応器に794Kg
(10.9kモル)のジメチルホルムアミド、
2600Pa下で160℃に乾燥した301Kg(1.53kモ
ル)のp−フエノールスルホン酸ナトリウム
(H2O<0.5%)及び(0.016kモル)のイソノナ
ン酸ナトリウムを導入する。
反応媒体を90℃にもたらし、550Kg(1.84kモ
ル)のTMH無水物(20%過剰)を半時間〜3/
4時間で導入する。
この温度を3時間保つ。
90〜100℃の温度で794Kgのアセトンを導入し
てDMF中に溶解しているエステルを塩析させ
る。
周囲温度まで冷却する。
エステルを加圧下で作動する表面積6m2のフ
イルターで過する。
過した生成物をアセトンで洗い、2600Pa
下に150℃で乾燥する。
p=500Kg R=96% 溶液は蒸留し、再循環される。
例 2 2−エチルヘキシロキシベンゼンスルホン酸ナ
トリウム (1) 2−エチルヘキサン酸無水物 2−エチルヘキサン酸無水物を上記の例と同
一条件下で製造する。
(2) p−フエノールスルホン酸ナトリウムに対す
る2−エチルヘキサン酸無水物の縮合 250c.c.の反応器に、66g(0.9モル)のDMF、
25g(0.127モル)の脱水したp−フエノール
スルホン酸ナトリウム及び0.35g(0.002モル)
の2−エチルヘキサン酸ナトリウムを導入す
る。
反応媒体を100℃にもたらし、45g(0.160モ
ル)、即ち25%過剰の2−エチルヘキサン酸無
水物を45分間で加える。
反応をこの温度で2時間30分保つ。
次いで100℃の温度で80gのアセトンを加え
る。
周囲温度まで冷却し、次いで生成物を過す
る。
エステルをアセトンで洗い、2600Pa圧下に
150℃で乾燥する。
p=39gの2−エチルヘキシロキシベンゼン
スルホン酸ナトリウム R=95% が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 極性の中性溶媒中で触媒量の、7〜12個の炭
    素原子を含有する線状又は分岐状脂肪酸のアルカ
    リ又はアルカリ土金属塩の存在下にフエノールス
    ルホン酸アルカリ、アルカリ土金属又はアンモニ
    ウム塩を7〜12個の炭素原子を含有する線状又は
    分岐状の酸の無水物によつてアシル化することを
    特徴とする次の一般式 (ここで、R1は6〜11個の炭素原子を含有する
    線状又は分岐状脂肪族基であり、 R2は水素、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を
    有するアルキル基又はSO3M基よりなる群から選
    ばれる基であり、 Mはアルカリ金属、アルカリ土金属又はアンモ
    ニウム基である) のp−アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の製造
    方法。 2 フエノールスルホン酸塩がフエノールスルホ
    ン酸ナトリウム又はカリウムであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 酸の無水物が9個の炭素原子を含有する酸の
    無水物であることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 4 極性の中性溶媒がジメチルホルムアミド、ジ
    メチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジ
    メチルスルホキシド及びスルホランのうちから選
    ばれることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 5 極性の中性溶媒がジメチルホルムアミドであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の
    方法。 6 触媒が無水物を形成するのに用いられる酸と
    同一の酸のナトリウム塩であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の方法。 7 酸の無水物とフエノールスルホン酸塩とのモ
    ル比が少なくとも1.2、好ましくは1.2〜1.3である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方
    法。 8 極性の中性溶媒とフエノールスルホン酸塩と
    のモル比が5〜50であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 9 溶媒とフエノールスルホン酸塩とのモル比が
    5〜10であることを特徴とする特許請求の範囲第
    8項記載の方法。 10 溶媒とフエノールスルホン酸塩とのモル比
    が7〜10であることを特徴とする特許請求の範囲
    第9項記載の方法。 11 触媒とフエノールスルホン酸とのモル比が
    約0.005以上であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の方法。 12 触媒とフエノールスルホン酸塩とのモル比
    が0.01〜0.02であることを特徴とする特許請求の
    範囲第11項記載の方法。 13 反応温度が80℃以上、好ましくは90〜100
    ℃であることを特徴とする特許請求の範囲第1〜
    12項のいずれかに記載の方法。 14 パラアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を
    アセトンによる塩析によつて回収することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 15 塩析が少なくとも90℃、好ましくは90〜
    100℃の温度で行われることを特徴とする特許請
    求の範囲第14項記載の方法。 16 塩析が導入した溶媒の量にほぼ等しい量の
    アセトンによつて行われることを特徴とする特許
    請求の範囲第14項記載の方法。
JP60026638A 1984-02-17 1985-02-15 塩基触媒によるパラ−アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の製造方法 Granted JPS60202857A (ja)

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FR84.02399 1984-02-17

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BR (1) BR8500716A (ja)
DE (1) DE3560033D1 (ja)
DK (1) DK71585A (ja)
ES (1) ES8602629A1 (ja)
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FR (1) FR2559769B1 (ja)
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