JP2003073348A - アシルオキシベンゼンスルホネート類の製造方法 - Google Patents

アシルオキシベンゼンスルホネート類の製造方法

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JP2003073348A
JP2003073348A JP2002233143A JP2002233143A JP2003073348A JP 2003073348 A JP2003073348 A JP 2003073348A JP 2002233143 A JP2002233143 A JP 2002233143A JP 2002233143 A JP2002233143 A JP 2002233143A JP 2003073348 A JP2003073348 A JP 2003073348A
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Gerd Dr Reinhardt
ゲルト・ラインハルト
Peter Naumann
ペーター・ナウマン
Miriam Ladwig
ミリアム・ラトヴィク
Ina Golla
イナ・ゴラ
Torsten Pilz
トールステン・ピルツ
Retro Wieduwilt
レトロ・ヴードヴイルト
Henri Jourdan
アンリ・ジョルダン
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/32Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of salts of sulfonic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
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    • C07C303/22Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups

Abstract

(57)【要約】 【課題】 工業的にかつ連続的に行うことができ、そし
て組成、品質及び色に関してランドリー洗剤及び清浄剤
中に使用するのに適した出来るだけ最も均質な生成物を
非常に良好な収率で与える方法を開発すること。 【解決手段】含水量が0.5重量%未満、好ましくは
0.2重量%未満のフェノールスルホネート類を、脂肪
族または芳香族炭化水素中でアルカンカルボン酸誘導体
と反応させることによってアシルオキシベンゼンスルホ
ネート類を製造する方法であって、出発材料として使用
されるフェノールスルホネート類の量に対して0.01
〜10重量%の量の塩基性の含窒素有機化合物の形の触
媒の存在下に上記反応を行うことを含む、上記方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、カルボニルハロゲ
ン化物及び含水量の少ないフェノールスルホン酸の塩か
ら出発してアシルオキシベンゼンスルホネート類を製造
する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アシルオキシベンゼンスルホン酸及びそ
の塩は、昔から知られている化合物である。そのアシル
基の鎖長に依存して、それらは界面活性剤や、漂白活性
化剤または他の用途に使用されている。これらの化合物
は、フェノールスルホン酸ナトリウム(SPS)を有機
カルボン酸の塩化物と反応させることによって得ること
ができる。使用される反応媒体は、塩化メチレン(米国
特許第35 03 888 号)、高沸点炭化水素(欧州特許出願
公開第220 826 号)、キシレンまたはトルエン(欧州特
許出願公開第164 786 号)などの有機溶媒である。米国
特許第5 069 828号では、この反応は、相間移動触媒の
存在下に非プロトン性有機溶媒中で行われる。
【0003】国際特許出願公開第01/19 771 号は、溶媒
としてのトリフルオロ酢酸(TFA)中での塩化アシル
とSPSとの反応を開示している。その実施例において
は、使用されるTFA:SPSの比率は0.5:1〜
3:1である。しかし、TFAが高価であること、TF
Aを反応混合物から完全に除去すること、及びエステル
交換反応が生じ得ることまたは副生成物が生ずることな
どが、工業的規模でのこの方法の利用を妨げる。
【0004】これらの方法はいずれも、実質的に無水の
SPSを反応に使用しなければならないという問題を有
する。すなわち、そのようにしないと、ハロゲン化アシ
ルまたは最終生成物であるエステルが水の存在下に加水
分解してしまい、かなりの収量損失を招くからである。
SPSは、商業的には、約15%の含水量を有する二水
和物として入手できる。慣用の乾燥方法は含水量を約2
%まで低くすることができる。米国特許第5,069,828 号
によれば、キシレン等の添加溶剤の存在下に共沸蒸留す
ることによって水の残留量を除去することができる。し
かし、時間に対する要求が高いため、連続的に操業され
るプラントでは利用価値がない。また、それ相応の装置
中で特殊な乾燥を行うことによって1%未満の量まで含
水量を低減することができる。しかしながら、米国特許
第4,666,636 号から公知なように、一連の二次反応にお
いてSPSが析出する恐れがあり、その結果、次のアシ
ル化の転化率及び最終生成物の色が双方とも著しく悪影
響を受けるため、或る一定の乾燥条件を厳守しなければ
ならない。SPSの過度の乾燥は、次のアシル化反応に
おいて50%未満の転化率を招く。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】それゆえ、本発明の課
題の一つは、工業的にかつ連続的に行うことができ、そ
して組成、品質及び色に関してランドリー洗剤及び清浄
剤中に使用するのに適した出来るだけ最も均質な生成物
を非常に良好な収率で与える方法を開発することであ
る。これに関連して、この方法は、使用するフェノール
スルホン酸ナトリウムの品質及びその前処理に左右され
ないべきである。驚くべきことに、SPSとアルカンカ
ルボン酸誘導体との反応を、塩基性の含窒素有機化合物
の触媒量の存在下に脂肪族または芳香族溶媒中で行う
と、使用するSPSの品質とは関わりなくアシルオキシ
ベンゼンスルホネート類を高収率及び高品質に製造でき
ることがここに見出された。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、含水量が0.
5重量%未満、好ましくは0.2重量%未満のフェノー
ルスルホネート類を、脂肪族または芳香族炭化水素中で
アルカンカルボン酸誘導体と反応させることによるアシ
ルオキシベンゼンスルホネート類の製造方法であって、
出発材料として使用されるフェノールスルホネート類の
量に対して0.01〜10重量%の量の塩基性の含窒素
有機化合物の形の触媒の存在下に上記反応を行うことを
含む上記方法を提供する。
【0007】出発化合物として使用されるフェノールス
ルホネート類は、好ましくは、以下の式で表される化合
物である。
【0008】
【化2】
【0009】上記式中、Xは水素、ハロゲンまたはC1
〜C4-アルキルであり、そしてMはアルカリ金属イオン
またはアルカリ土類金属イオンである。
【0010】好ましいものは、オルト- またはパラ- フ
ェノールスルホン酸ナトリウム、特に製造由来の対応す
るオルト異性体を0〜20%の割合で含んでいてもよい
パラ- フェノールスルホン酸ナトリウム(SPS)であ
る。
【0011】SPSは、商業的には、二水和物として、
すなわち15%の含水量を有する製品として入手でき
る。アルカンカルボン酸誘導体との本発明による反応に
おいては、フェノールスルホネートは先ず多くとも0.
5重量%、好ましくは多くとも0.2重量%の残留含水
量まで乾燥しなければならない。これは、0.1重量%
未満の残留含水量までの乾燥を可能にする、それ自体公
知の慣用の方法、例えばディスクドライヤー中で行うこ
とができる。
【0012】乾燥時間は、使用する装置に依存して1分
〜18時間であることができ、そして温度は80℃〜2
50℃であることができる。本発明の方法においては、
乾燥したSPSの品質はアシル化反応の収率に影響を与
えず、そして平均で、95%を超える転化率を達成する
ことができる。特に、米国特許第4,666,636 号で規定さ
れる最適な乾燥条件を外れる乾燥条件、すなわち“過度
に乾燥された”生成物を与える条件を使用することもで
きる。従来技術によれば、このような生成物は、反応性
が十分でないためアシル化反応には使用できないとされ
ている。
【0013】使用し得るアルカンカルボン酸誘導体は、
ハロゲン化物または無水物のいずれかである。特に、塩
化カルボニルまたは臭化カルボニルが好適であり、好ま
しくは塩化物である。これらは、対応するカルボン酸か
ら製造することができ、例えば対応するカルボン酸を、
ホスゲン、塩化チオニル、三塩化リン、オキシ塩化リ
ン、五塩化リンまたは三臭化リンと反応させることによ
って製造することができる。無水物の場合は、対称的な
または非対称的な化合物を使用することができる。これ
の例は、無水ノナン酸、無水オクタン酸または無水アセ
チルノナン酸である。
【0014】使用し得るカルボン酸は、6〜22個の炭
素原子を有する線状または分枝状で飽和または不飽和の
アルカンカルボン酸である。これの例は、ヘキサン酸、
ヘプタン酸、オクタン酸、メチルオクタン酸、ノナン
酸、3,3,5-イソノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ウ
ンデセン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、水素化獣脂肪
酸及びステアリン酸である。特に好ましいものは、オク
タン酸、ノナン酸、イソノナン酸、デカン酸及びラウリ
ン酸である。アルカンカルボン酸は、更に別の置換基、
例えばハロゲン、ニトロ基またはアミノ基を有すること
ができる。
【0015】本発明では、カルボン酸誘導体及びフェノ
ールスルホネートは、好ましくは、0.9:1〜2:
1、特に1:1〜1.5:1のモル比で反応させる。
【0016】使用される反応媒体は、80〜220℃、
特に100〜180℃の沸点を有する脂肪族または芳香
族炭化水素、例えばトルエン、キシレン、8〜22個の
炭素原子を有するパラフィン、例えばデカン、ウンデカ
ン、ドデカン、ヘキサデカンまたはオクタデカン、ある
いはこれらの混合物である。特に好ましい媒体は、例え
ばShellsol(シェルゾル)[ シェル社] 、ISOPAR G(ア
イソパー G)及びISOPAR 4[ エッソ社] などとして商
業的に入手ができる、脂肪族炭化水素混合物である。こ
の反応媒体に対するSPSの溶解度はしばしば1%を下
回る。
【0017】触媒は、塩基性の含窒素有機化合物であ
る。好ましいものは、開鎖状または環状第三アミンまた
はカルボキサミドである。トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿素、置換
されたピロリドン、例えばN−メチルピロリドン、N−
エチルピロリドン、N−ブチルピロリドン、N−オクチ
ルピロリドン、N−メチルカプロラクタム、N−オクチ
ルカプロラクタムを使用することが好ましい。特に好ま
しいものは、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン及びN−オクチルピロリドン
である。使用する触媒とフェノールスルホネートとのモ
ル比は、0.0001:1〜0.02:1、好ましくは
0.005:1〜0.012:1である。
【0018】アシル化反応は60〜200℃、特に10
0〜150℃の温度で行われる。反応中に生ずるガスは
抜き取り、そして反応は、場合によっては、窒素または
アルゴンからなる不活性ガスの流れ中で行う。フェノー
ルスルホネートも生成するアシルオキシベンゼンスルホ
ネートも反応媒体に対しそれほどの溶解性を持たないた
め、反応は不均一系反応(スラリー)として行われる。
反応時間は反応条件に依存し、そして10分〜5時間、
好ましくは30〜120分であることができる。
【0019】具体的な態様の一つでは、本発明の反応は
連続的に行うことができる。この目的のためには、当業
者に公知の反応器カスケードまたは管状反応器が特に好
適である。
【0020】反応が完了したら、反応生成物を慣用の分
離方法によって単離する。この目的に好適な物は、遠心
分離器、濾過装置である。触媒を完全に除去するために
は、固形の反応生成物を反応媒体で一回またはそれ以上
洗浄するのが得策である。母液は、特に精製することな
く次の反応に使用または循環することができる。生成し
たアシルオキシベンゼンスルホネートは、慣用の乾燥方
法で単離できる白色の粉末の形で高収率で生産される。
【0021】このようにして得られるアシルオキシベン
ゼンスルホネートは、ランドリー洗剤及び清浄剤、例え
ば粉末状の重質洗剤、シミ抜き剤(stain-removal salt
s)または粉末状食器洗い機用洗剤中で界面活性剤または
過酸塩活性化剤として使用できる。これらの調合物中で
の貯蔵安定性を向上させるためには、当業者に公知なよ
うに、顆粒物の形に変えることもできる。
【0022】
【実施例】例1a:無水4−フェノールスルホン酸ナト
リウムの製造(高品質品) 含水量2.6%の4−フェノールスルホン酸ナトリウム
1kgを米国特許第4,666,636 号の例1と同様にして乾
燥した。これにより、含水量が0.1%未満の4−フェ
ノールスルホン酸ナトリウム975gが得られた。 例1b:無水4−フェノールスルホン酸ナトリウムの製
造(貧品質品) 含水量が2.6%の4−フェノールスルホン酸ナトリウ
ム1kgを、180℃で12時間乾燥した。これによ
り、含水量が0.1%未満の4−フェノールスルホン酸
ナトリウム975gが得られた。比較例A:例1aで乾
燥したSPSの使用 例1aに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
中に入れそして120℃に加熱した。塩化ノナノイル1
14.8g(0.65モル)を30分かけて滴下し、そ
してこの混合物を130℃で後攪拌した。反応中に生じ
たHClガスを引き抜いた。この反応混合物を2時間後
に80℃まで冷却しそしてフィルターを用いて濾過し
た。次いで、生じた白色の反応生成物を、少量のアイソ
パーGで二度洗浄し、そして乾燥室中で110〜130
℃の温度下に一晩乾燥した。 粗収量(raw yield): ノナノイルオキシベンゼンスル
ホン酸ナトリウム(NOBS)を98%の割合で含む白
色粉末164.8g(収率98%)。NOBSの収率:
96% 比較例B:例1bの過剰乾燥したSPSの使用 例1bに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
に入れそして120℃に加熱した。次いで塩化ノナノイ
ル114.8g(0.65モル)を30分かけて滴下
し、そしてこの混合物を120℃で後攪拌した。反応の
間に生じたHClガスは引き抜いた。この混合物を2時
間後に80℃まで冷却し、そしてフィルターを用いて濾
過した。次いで、生じた灰色の反応生成物を少量のアイ
ソパーGで二度洗浄し、そして乾燥室中で110〜13
0℃の温度において一晩乾燥した。 粗収量: ノナノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム(NOBS)を59%の割合で含むベージュ乃至褐
色の粉末129.5g(収率77%)。NOBSの収
率:45%。 比較例C: 過剰乾燥及び粉砕したSPSの使用 手順は比較例Bと同様であるが、但し、反応の開始直前
に窒素雰囲気下に乳鉢を用いてSPSを粉砕して非常に
微細な粉末とした。 粗収量:ノナノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム(NOBS)を58%の割合で含むベージュ乃至褐色
の粉末132.8g(79%)。NOBSの収率:46
%。 例2:NOPの添加 例1bに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
中に入れ、そして120℃に加熱した。N−オクチルピ
ロリドン0.7g(3.7ミリモル)を加えた。次い
で、塩化ノナノイル114.8g(0.65モル)を3
0分かけて滴下し、そしてこの混合物を120℃で後攪
拌した。反応中に生じたHClガスは引き抜いた。この
反応混合物を2時間後に80℃まで冷却しそしてフィル
ターを用いて濾過した。次いで、生じた白色の反応生成
物を少量のアイソパーGで二度洗浄し、そして乾燥室中
で110〜130℃の温度下に一晩乾燥した。 粗収量:ノナノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム(NOBS)を97%の割合で含む白色の粉末16
5.6g(収率:98.4%)。NOBSの収率:95
%。母液は、特に精製することなく次のバッチに使用す
ることができた。 例3:NMPの添加 例1bに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
に入れそして130℃に加熱した。N−メチルピロリド
ン0.4g(4ミリモル)を加えた。次いで、塩化ノナ
ノイル114.8g(0.65モル)を30分かけて滴
下し、そしてこの混合物を130℃で後攪拌した。反応
中に生じたHClガスは引き抜いた。この反応混合物を
2時間後に80℃まで冷却しそしてフィルターを用いて
濾過した。次いで、生じた白色の反応生成物を少量のア
イソパーGで二度洗浄し、そして乾燥室中で110〜1
30℃の温度において一晩乾燥した。 粗収量:ノナノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム(NOBS)を97%の割合で含む白色の粉末164
g(収率:97.5%)。NOBSの収率:95%。 例4:DMFの添加 例1bに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
に入れ、そして120℃に加熱した。ジメチルホルムア
ミド0.2g(2.7ミルモル)を加えた。次いで、塩
化ノナノイル114.8g(0.65モル)を30分か
けて加え、そしてこの混合物を120℃で後攪拌した。
反応中に生じたHClガスは引き抜いた。この反応混合
物を2時間後に80℃まで冷却しそしてフィルターを用
いて濾過した。次いで、生じた白色の反応生成物を少量
のアイソパーGで二度洗浄し、そして乾燥室中で110
〜130℃の温度下に一晩乾燥した。 収量:ノナノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム
(NOBS)を98%の割合で含む白色の粉末165.
7g(収率:99%)。NOBSの収率:97%。 例5:トリエチルアミンの添加 例1bに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
中に入れ、そしてこの混合物を110℃に加熱した。ト
リエチルアミン0.2g(2ミリモル)を加えた。次い
で、塩化ノナノイル114.8g(0.65モル)を3
0分かけて滴下し、そしてこの混合物を130℃で後攪
拌した。反応中に生じたHClガスは引き抜いた。この
反応混合物を2時間後に80℃まで冷却し、そしてフィ
ルターを用いて濾過した。次いで、生じた白色の反応生
成物を少量のアイソパーGで二度洗浄し、そして乾燥室
中で110〜130℃の温度下に一晩乾燥した。 粗収量:ノナノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム(NOBS)を97%の割合で含む白色の粉末16
1.14g(収率:96.2%)。NOBSの収率:9
3%。 例6:ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム
の合成 例1bに従い用意された乾燥フェノールスルホン酸ナト
リウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150
g中に入れ、そしてこの混合物を120℃に加熱した。
N−オクチルピロリドン0.7g(3.7ミリモル)を
加えた。次いで、塩化ラウロイル142g(0.65モ
ル)を30分かけて滴下し、そしてこの混合物を130
℃で後攪拌した。反応中に生じたHClガスは引き抜い
た。この反応混合物を2時間後に80℃まで冷却しそし
てフィルターを用いて濾過した。次いで、生じた白色の
反応生成物を少量のアイソパーGで二度洗浄し、そして
乾燥室中で110〜130℃の温度下に一晩乾燥した。 粗収量:ラウロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム(LOBS)を98%の割合で含む白色の粉末18
5.4g(収率:98%)。LOBSの収率:96%。 例7:2−メチルオクタノイルオキシベンゼンスルホン
酸ナトリウムの製造 例1bに従い用意した乾燥フェノールスルホン酸ナトリ
ウム98.1g(0.5モル)をアイソパーG150g
中に入れ、そしてこの混合物を120℃に加熱した。N
−オクチルピロリドン0.7g(3.7ミルモル)を加
えた。次いで、塩化2−メチルオクタノイル114.7
g(0.65モル)を30分かけて滴下し、そしてこの
混合物を120℃で後攪拌した。反応中に生じたHCl
ガスは引き抜いた。この反応混合物を2時間後に80℃
まで冷却しそしてフィルターを用いて濾過した。次い
で、生じた白色の反応生成物を少量のアイソパーGで二
度洗浄し、そして乾燥室中で110〜130℃の温度下
に一晩乾燥した。 粗収量:2−メチルオクタノイルオキシベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムを95%の割合で含む白色の粉末16
0.6g(収率:95.6%)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペーター・ナウマン ドイツ連邦共和国、タウヌスシュタイン、 アイヒエンドルフストラーセ、7 (72)発明者 ミリアム・ラトヴィク ドイツ連邦共和国、デイートツエンバッ ハ、リンデンストラーセ、35 (72)発明者 イナ・ゴラ ドイツ連邦共和国、リュッセルスハイム、 ルークバイリング、71 (72)発明者 トールステン・ピルツ ドイツ連邦共和国、オーバーライフエンベ ルク、ザンクフエルトストラーセ、5 (72)発明者 レトロ・ヴードヴイルト スイス国、カイザーアウグスト、アウフ・ デア・シャンツ、61 (72)発明者 アンリ・ジョルダン スイス国、バーゼル、ゲラートストラー セ、86 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC61 BA51 BB11 BC10 BC19 BC30 BC31 BC34 BD10 4H039 CA62 CD20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 含水量が0.5重量%未満、好ましくは
    0.2重量%未満のフェノールスルホネート類を、脂肪
    族または芳香族炭化水素中でアルカンカルボン酸誘導体
    と反応させることによってアシルオキシベンゼンスルホ
    ネート類を製造する方法であって、出発材料として使用
    されるフェノールスルホネート類の量に対して0.01
    〜10重量%の量の塩基性の含窒素有機化合物の形の触
    媒の存在下に上記反応を行うことを含む、上記方法。
  2. 【請求項2】 使用するフェノールスルホネートが、以
    下の式 【化1】 [式中、Xは水素、ハロゲンまたはC1 〜C4 −アルキ
    ルであり、そしてMはアルカリ金属イオンまたはアルカ
    リ土類金属イオンである]で表される化合物である、請
    求項1の方法。
  3. 【請求項3】 使用するフェノールスルホネートがフェ
    ノールスルホン酸ナトリウムである、請求項1の方法。
  4. 【請求項4】 使用するアルカンカルボン酸誘導体が塩
    化C6 〜C22−カルボニルである、請求項1の方法。
  5. 【請求項5】 アルカンカルボン酸誘導体及びフェノー
    ルスルホネートを、0.9:1〜2:1のモル比で反応
    させる、請求項1の方法。
  6. 【請求項6】 開鎖状または環状第三アミンまたはカル
    ボキサミドを、塩基性の含窒素有機化合物として使用す
    る、請求項1の方法。
JP2002233143A 2001-08-11 2002-08-09 アシルオキシベンゼンスルホネート類の製造方法 Withdrawn JP2003073348A (ja)

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