JP2002255932A - 3−アルキルアミノアゼチジンの製造方法 - Google Patents
3−アルキルアミノアゼチジンの製造方法Info
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- JP2002255932A JP2002255932A JP2001056588A JP2001056588A JP2002255932A JP 2002255932 A JP2002255932 A JP 2002255932A JP 2001056588 A JP2001056588 A JP 2001056588A JP 2001056588 A JP2001056588 A JP 2001056588A JP 2002255932 A JP2002255932 A JP 2002255932A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、各種医薬品の合成中間体として重
要な3−アルキルアミノ−アゼチジンの新規な製造方法
に関するものであり、この製造方法に用いられる新規な
3−アゼチジノン誘導体および得られる新規な3−アル
キルアミノアゼチジン・2TFAに関する。 【解決手段】 下記の式(1)(式中、R'はアルキル基を
示す)で示される、3−アルキルアミノアゼチジンの製
造方法であって、下記の式(2)(式中、Rは、低級アルコ
キシカルボニル基、アリール低級アルキルオキシカルボ
ニル基、アリール低級アルキル基である)で示される1
−R−3−アゼチジノールを酸化して得られる、下記の
式(3)を経由し、これにN−アルキルアミンを反応させ
ることを特徴とする方法、3−アゼチジノン誘導体およ
び3−アルキルアミノアゼチジン・2TFA。 【化1】
要な3−アルキルアミノ−アゼチジンの新規な製造方法
に関するものであり、この製造方法に用いられる新規な
3−アゼチジノン誘導体および得られる新規な3−アル
キルアミノアゼチジン・2TFAに関する。 【解決手段】 下記の式(1)(式中、R'はアルキル基を
示す)で示される、3−アルキルアミノアゼチジンの製
造方法であって、下記の式(2)(式中、Rは、低級アルコ
キシカルボニル基、アリール低級アルキルオキシカルボ
ニル基、アリール低級アルキル基である)で示される1
−R−3−アゼチジノールを酸化して得られる、下記の
式(3)を経由し、これにN−アルキルアミンを反応させ
ることを特徴とする方法、3−アゼチジノン誘導体およ
び3−アルキルアミノアゼチジン・2TFA。 【化1】
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、各種医薬品の合成
中間体として重要な、3−アルキルアミノ−アゼチジン
の新規な製造方法に関するものであり、この製造方法に
用いられる新規な3−アゼチジノン誘導体およびこの製
造方法によって得られる新規な3−アルキルアミノアゼ
チジンの誘導体に関する。
中間体として重要な、3−アルキルアミノ−アゼチジン
の新規な製造方法に関するものであり、この製造方法に
用いられる新規な3−アゼチジノン誘導体およびこの製
造方法によって得られる新規な3−アルキルアミノアゼ
チジンの誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】最
近、窒素原子含有の4員環構造を有するアゼチジン化合
物が、注目をあびてきており、各種医薬品の側鎖の修飾
基とし用いられ、多くの3−アルキルアミノ−アゼチジ
ン類の製造法が報告されている。その一例として、3−
メチルアミノアゼチジンはニューキノロン系合成抗菌剤
の側鎖の修飾基として利用されている(ニューカレン
ト、9(3), p34(1998))が、この合成法として1
−ベンジル−3−アゼチジノール(1)をメシル化して(2)
とし、メチルアミンを反応させ、(3)を合成してPdで接
触還元しベンジル基を除去し、3−メチルアミノアゼチ
ジン(4)を合成する方法が報告されている(特開平12−
256311)。
近、窒素原子含有の4員環構造を有するアゼチジン化合
物が、注目をあびてきており、各種医薬品の側鎖の修飾
基とし用いられ、多くの3−アルキルアミノ−アゼチジ
ン類の製造法が報告されている。その一例として、3−
メチルアミノアゼチジンはニューキノロン系合成抗菌剤
の側鎖の修飾基として利用されている(ニューカレン
ト、9(3), p34(1998))が、この合成法として1
−ベンジル−3−アゼチジノール(1)をメシル化して(2)
とし、メチルアミンを反応させ、(3)を合成してPdで接
触還元しベンジル基を除去し、3−メチルアミノアゼチ
ジン(4)を合成する方法が報告されている(特開平12−
256311)。
【化16】
【0003】しかし、報告されているこの合成法は、メ
シル体とアミン類との反応が低温では進行しない。反応
温度を150℃まで上げると反応は進行するが副生成物
も多いため、収率も低く、高純度の3−メチルアミノア
ゼチジンを得る事は出来なかった。
シル体とアミン類との反応が低温では進行しない。反応
温度を150℃まで上げると反応は進行するが副生成物
も多いため、収率も低く、高純度の3−メチルアミノア
ゼチジンを得る事は出来なかった。
【0004】本発明者らは各種医薬品の合成中間体、特
にニューキノロン系合成抗菌剤の側鎖の修飾基として利
用されている3−アルキルアミノ−アゼチジンの優れた
製造方法を鋭意研究し、高収率、高純度の3−アルキル
アミノアゼチジンの製造方法を完成させた。
にニューキノロン系合成抗菌剤の側鎖の修飾基として利
用されている3−アルキルアミノ−アゼチジンの優れた
製造方法を鋭意研究し、高収率、高純度の3−アルキル
アミノアゼチジンの製造方法を完成させた。
【0005】
【課題を解決するための手段】従来の技術が3−アゼチ
ジノールをメシル化し、すなわち、OH基の誘導体に、
アルキルアミンを反応させているのに対して、本発明は
OH基を酸化して一旦C=O基とし、この3−アゼチジ
ノン誘導体を経由して、これにアルキルアミンを反応さ
せるものである。
ジノールをメシル化し、すなわち、OH基の誘導体に、
アルキルアミンを反応させているのに対して、本発明は
OH基を酸化して一旦C=O基とし、この3−アゼチジ
ノン誘導体を経由して、これにアルキルアミンを反応さ
せるものである。
【0006】しかし、OHからC=O基への通常の酸化
手段では、3−アゼチジノンを収率良く得ることができ
なかった。1−R−3−アゼチジノン(式中、Rは、Bo
cまたはフェニルエチル基である)が新規化合物であるこ
とはこれを支持するものである。DMSO中でN−クロ
ロスクシンイミド(NCS)、N,N'−ジシクロヘキシル
カルボジイミド(DCC)、無水トリフルオロ酢酸(TF
A)等の酸化手段を検討したが、驚くべきことにDMS
O中三酸化硫黄−ピリジン錯体を用いると効率よく3−
アゼチジノンを得ることができた。
手段では、3−アゼチジノンを収率良く得ることができ
なかった。1−R−3−アゼチジノン(式中、Rは、Bo
cまたはフェニルエチル基である)が新規化合物であるこ
とはこれを支持するものである。DMSO中でN−クロ
ロスクシンイミド(NCS)、N,N'−ジシクロヘキシル
カルボジイミド(DCC)、無水トリフルオロ酢酸(TF
A)等の酸化手段を検討したが、驚くべきことにDMS
O中三酸化硫黄−ピリジン錯体を用いると効率よく3−
アゼチジノンを得ることができた。
【0007】従って、本発明の第1は、下記の式(1):
【化17】 (式中、R'はアルキル基を示す)で示される、3−アル
キルアミノアゼチジンの製造方法であって、下記の式
(2):
キルアミノアゼチジンの製造方法であって、下記の式
(2):
【化18】 (式中、Rは、低級アルコキシカルボニル基、アリール
低級アルキルオキシカルボニル基またはアリール低級ア
ルキル基である)で示される1−R−3−アゼチジノー
ルを酸化して得られる、下記の式(3):
低級アルキルオキシカルボニル基またはアリール低級ア
ルキル基である)で示される1−R−3−アゼチジノー
ルを酸化して得られる、下記の式(3):
【化19】 (式中、Rは上記と同じ)を経由し、これにN−アルキル
アミンを反応させ、下記の式(4):
アミンを反応させ、下記の式(4):
【化20】 (式中、RおよびR'は、上記と同じ)で示される1−R−
3−アルキルアミノアゼチジンを得、ついでR基を脱離
させることを特徴とする方法である。
3−アルキルアミノアゼチジンを得、ついでR基を脱離
させることを特徴とする方法である。
【0008】本発明の第2は、上記反応式において、式
(2)で示される1−R−3−アゼチジノールを、酸化し
て得られる、式(3)で示される1−R−3−アゼチジノ
ンを経由し、これにN−アルキルアミンを反応させて、
式(4)で示される1−R−3−アルキルアミノアゼチジ
ンを製造する工程からなる1−R−3−アルキルアミノ
アゼチジンの製造方法である。
(2)で示される1−R−3−アゼチジノールを、酸化し
て得られる、式(3)で示される1−R−3−アゼチジノ
ンを経由し、これにN−アルキルアミンを反応させて、
式(4)で示される1−R−3−アルキルアミノアゼチジ
ンを製造する工程からなる1−R−3−アルキルアミノ
アゼチジンの製造方法である。
【0009】本発明にかかるR基において、上記低級ア
ルコキシカルボニル基はメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、Boc(第3級ブトキシカルボニル基)等を挙
げることができ、好ましくはBoc(第3級ブトキシカル
ボニル基)であり、アリール低級アルキルオキシカルボ
ニル基は、好ましくはベンジルオキシカルボニル基であ
り、アリール低級アルキル基としてはベンジル、トリチ
ル、フェニルエチルを挙げることができ、好ましくはフ
ェニルエチル基である。
ルコキシカルボニル基はメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、Boc(第3級ブトキシカルボニル基)等を挙
げることができ、好ましくはBoc(第3級ブトキシカル
ボニル基)であり、アリール低級アルキルオキシカルボ
ニル基は、好ましくはベンジルオキシカルボニル基であ
り、アリール低級アルキル基としてはベンジル、トリチ
ル、フェニルエチルを挙げることができ、好ましくはフ
ェニルエチル基である。
【0010】本発明にかかるR'基は、アルキル基、好
ましくは、低級アルキル基であり、低級アルキルには飽
和の直鎖または分枝状の、炭素原子1〜6個、好ましく
は1〜5個、より好ましくは1〜4個を含む炭化水素残
基をいう。例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチルな
どが含まれる。
ましくは、低級アルキル基であり、低級アルキルには飽
和の直鎖または分枝状の、炭素原子1〜6個、好ましく
は1〜5個、より好ましくは1〜4個を含む炭化水素残
基をいう。例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチルな
どが含まれる。
【0011】上記酸化は、DMSO中でN−クロロスク
シンイミド(NCS)、N,N'−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド(DCC)、無水トリフルオロ酢酸(TFA)、三
酸化硫黄−ピリジン錯体等で行うことができるが、好ま
しくはDMSO中で三酸化硫黄−ピリジン錯体との反応
によって行う。
シンイミド(NCS)、N,N'−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド(DCC)、無水トリフルオロ酢酸(TFA)、三
酸化硫黄−ピリジン錯体等で行うことができるが、好ま
しくはDMSO中で三酸化硫黄−ピリジン錯体との反応
によって行う。
【0012】上記R基がBoc基である場合の脱離は好ま
しくはトリフルオロ酢酸を作用させて行い、2トリフル
オロ酢酸塩として高収率で3−アルキルアミノアゼチジ
ンを得ることができる。フェニルチル基の脱離は水素雰
囲気下接触還元し、トリフルオロ酢酸塩として3−アル
キルアミノアゼチジンを得ることができる。
しくはトリフルオロ酢酸を作用させて行い、2トリフル
オロ酢酸塩として高収率で3−アルキルアミノアゼチジ
ンを得ることができる。フェニルチル基の脱離は水素雰
囲気下接触還元し、トリフルオロ酢酸塩として3−アル
キルアミノアゼチジンを得ることができる。
【0013】本発明の第3は、式(2)で示される1−R
−3−アゼチジノール(Rは、Bocまたはフェニルエチ
ル基である)を、DMSO中で三酸化硫黄−ピリジン錯
体と反応させて得られる、式(3)で示される1−R−3
−アゼチジノンを製造する工程からなる1−R−3−ア
ゼチジノンの製造方法である。
−3−アゼチジノール(Rは、Bocまたはフェニルエチ
ル基である)を、DMSO中で三酸化硫黄−ピリジン錯
体と反応させて得られる、式(3)で示される1−R−3
−アゼチジノンを製造する工程からなる1−R−3−ア
ゼチジノンの製造方法である。
【0014】本発明の第4は、式(3)で示される1−R
−3−アゼチジノン(Rは、Bocまたはフェニルエチル
基である)にN−アルキルアミンを反応させて、式(4)で
示される1−R−3−アルキルアミノアゼチジンを製造
する工程からなる1−R−3−アルキルアミノアゼチジ
ンの製造方法である。
−3−アゼチジノン(Rは、Bocまたはフェニルエチル
基である)にN−アルキルアミンを反応させて、式(4)で
示される1−R−3−アルキルアミノアゼチジンを製造
する工程からなる1−R−3−アルキルアミノアゼチジ
ンの製造方法である。
【0015】本発明の第5は、式(5)で示される1−Bo
c−3−アルキルアミノアゼチジンにトリフルオロ酢酸
を作用させてBoc基を脱離させ、2トリフルオロ酢酸塩
として高収率で式(1)で示される3−アルキルアミノア
ゼチジンを得る工程からなる3−アルキルアミノアゼチ
ジン・2TFAとして3−アルキルアミノアゼチジンを
得る製造方法である。
c−3−アルキルアミノアゼチジンにトリフルオロ酢酸
を作用させてBoc基を脱離させ、2トリフルオロ酢酸塩
として高収率で式(1)で示される3−アルキルアミノア
ゼチジンを得る工程からなる3−アルキルアミノアゼチ
ジン・2TFAとして3−アルキルアミノアゼチジンを
得る製造方法である。
【0016】本発明の第6は、式(6)で示される1−フ
ェニルエチル−3−アルキルアミノアゼチジンを接触還
元させてフェニルエチル基を脱離させた後、トリフルオ
ロ酢酸を添加し、3−アルキルアミノアゼチジン・2T
FAとして3−アルキルアミノアゼチジンを得る製造方
法である。
ェニルエチル−3−アルキルアミノアゼチジンを接触還
元させてフェニルエチル基を脱離させた後、トリフルオ
ロ酢酸を添加し、3−アルキルアミノアゼチジン・2T
FAとして3−アルキルアミノアゼチジンを得る製造方
法である。
【0017】本発明は3−アゼチジノールを出発物質と
して、1−Boc−3−アゼチジノンまたは1−フェニル
エチル−3−アゼチジノンを経由して、3−アルキルア
ミノアゼチジンを製造する方法を含むが、中間体である
1−Boc−3−アゼチジノン、1−フェニルエチル−3
−アゼチジノンおよび、本発明の製造方法によって高収
率で得られる脱Boc化または脱フェニルエチル化された
3−メチルアミノアゼチジン・2トリフルオロ酢酸塩お
よび3−エチルアミノアゼチジン・2トリフルオロ酢酸
塩は新規化合物である。
して、1−Boc−3−アゼチジノンまたは1−フェニル
エチル−3−アゼチジノンを経由して、3−アルキルア
ミノアゼチジンを製造する方法を含むが、中間体である
1−Boc−3−アゼチジノン、1−フェニルエチル−3
−アゼチジノンおよび、本発明の製造方法によって高収
率で得られる脱Boc化または脱フェニルエチル化された
3−メチルアミノアゼチジン・2トリフルオロ酢酸塩お
よび3−エチルアミノアゼチジン・2トリフルオロ酢酸
塩は新規化合物である。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明による3−アルキルアミノ
アゼチジンの製造方法についてさらに説明を行う。
アゼチジンの製造方法についてさらに説明を行う。
【化21】
【0019】1)1−R−3−アゼチジノールの製造(1
−R化) Rが低級アルコキシカルボニル基、アリール低級アルコ
キシカルボニル基の場合は、通常当分野で用いられる方
法を用いて、3−アゼチジノールと炭酸ナトリウム等の
塩基の存在下に低級アルコキシカルボニルクロライド、
アリール低級アルコキシカルボニルクロライドと反応さ
せて製造することができる。出発物質である3−アゼチ
ジノールは、例えば、本発明者らが開発した3−アゼチ
ジノールの製法に従って得ることができる(特開200
0−143622号)。また、Rがアリール低級アルキ
ル基の場合は、アリール低級アルキルアミンとエピクロ
ルヒドリンと反応させる本発明者らが開発した方法(特
開2000−143622号)に従って製造することが
できる。
−R化) Rが低級アルコキシカルボニル基、アリール低級アルコ
キシカルボニル基の場合は、通常当分野で用いられる方
法を用いて、3−アゼチジノールと炭酸ナトリウム等の
塩基の存在下に低級アルコキシカルボニルクロライド、
アリール低級アルコキシカルボニルクロライドと反応さ
せて製造することができる。出発物質である3−アゼチ
ジノールは、例えば、本発明者らが開発した3−アゼチ
ジノールの製法に従って得ることができる(特開200
0−143622号)。また、Rがアリール低級アルキ
ル基の場合は、アリール低級アルキルアミンとエピクロ
ルヒドリンと反応させる本発明者らが開発した方法(特
開2000−143622号)に従って製造することが
できる。
【0020】2)1−R−3−アゼチジノンの製造(酸
化) 上記で得られた1−R−3−アゼチジノールの酸化は、
DMSO中でN−クロロスクシンイミド(NCS)、N,
N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、無水
トリフルオロ酢酸(TFA)、三酸化硫黄−ピリジン錯体
等で行うことができるが、好ましくはDMSO中で三酸
化硫黄−ピリジン錯体との反応によって行うことができ
る。DMSO中SO3−ピリジン複合体を、1−R−3
−アゼチジノールに対して、3〜10当量、好ましくは
3〜5当量、より好ましくは4〜5当量で、温度−10
〜30℃、好ましくは−10〜10℃、より好ましくは
−10〜0℃にて、反応時間1〜20時間、好ましくは
3〜10時間、より好ましくは2〜4時間反応させる。
化) 上記で得られた1−R−3−アゼチジノールの酸化は、
DMSO中でN−クロロスクシンイミド(NCS)、N,
N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、無水
トリフルオロ酢酸(TFA)、三酸化硫黄−ピリジン錯体
等で行うことができるが、好ましくはDMSO中で三酸
化硫黄−ピリジン錯体との反応によって行うことができ
る。DMSO中SO3−ピリジン複合体を、1−R−3
−アゼチジノールに対して、3〜10当量、好ましくは
3〜5当量、より好ましくは4〜5当量で、温度−10
〜30℃、好ましくは−10〜10℃、より好ましくは
−10〜0℃にて、反応時間1〜20時間、好ましくは
3〜10時間、より好ましくは2〜4時間反応させる。
【0021】3)1−R−3−アルキルアミノアゼチジ
ンの製造(アルキルアミノ化) 上記で得られた1−R−3−アゼチジノンにアルキルア
ミンを、1−R−3−アゼチジノンに対して、10〜3
0当量、好ましくは10〜20当量、より好ましくは1
0〜15当量で、温度10〜40℃、好ましくは20〜
40℃、より好ましくは25〜30℃にて、反応時間2
5〜100時間、好ましくは30〜50時間、より好ま
しくは30〜40時間反応させる。
ンの製造(アルキルアミノ化) 上記で得られた1−R−3−アゼチジノンにアルキルア
ミンを、1−R−3−アゼチジノンに対して、10〜3
0当量、好ましくは10〜20当量、より好ましくは1
0〜15当量で、温度10〜40℃、好ましくは20〜
40℃、より好ましくは25〜30℃にて、反応時間2
5〜100時間、好ましくは30〜50時間、より好ま
しくは30〜40時間反応させる。
【0022】4)3−アルキルアミノアゼチジンの製造
(R基の脱離) 1−R−3−アルキルアミノアゼチジンのR基を当分野
の通常の方法で脱離させることができる。例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、第3級ブトキシ
カルボニル等の低級アルコキシカルボニル基については
HBrまたはHCl/AcOH、トリフルオロ酢酸(TF
A)で脱離することができ、好ましくはTFAを用い
る;アリール低級アルキルオキシカルボニル基であるベ
ンジルオキシカルボニルについてはH2/Pd、HIま
たはHBrまたはHCl/AcOH等で脱離させ;ベンジ
ルについてはH2/Pd、Na/NH3で脱離、フェニル
エチルについてH2/PdまたはH2で脱離させること
ができる。
(R基の脱離) 1−R−3−アルキルアミノアゼチジンのR基を当分野
の通常の方法で脱離させることができる。例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、第3級ブトキシ
カルボニル等の低級アルコキシカルボニル基については
HBrまたはHCl/AcOH、トリフルオロ酢酸(TF
A)で脱離することができ、好ましくはTFAを用い
る;アリール低級アルキルオキシカルボニル基であるベ
ンジルオキシカルボニルについてはH2/Pd、HIま
たはHBrまたはHCl/AcOH等で脱離させ;ベンジ
ルについてはH2/Pd、Na/NH3で脱離、フェニル
エチルについてH2/PdまたはH2で脱離させること
ができる。
【0023】1−Boc−3−アルキルアミノアゼチジン
のBoc基は、HCl、HBr、トリフルオロ酢酸などの酸
によって脱離させることができるか、トリフルオロ酢酸
がこのましい。トリフルオロ酢酸を用いると、安定な3
−アルキルアミノアゼチジン・2トリフルオロ酢酸塩が
形成され、収率が極めてよい。トリフルオロ酢酸を1−
Boc−3−アルキルアミノアゼチジンに対して、5〜2
0当量、好ましくは10〜20当量、より好ましくは1
0〜15当量で、温度−20〜20℃、好ましくは−1
0〜10℃、より好ましくは−10〜5℃にて、反応時
間0.5〜5時間、好ましくは0.5〜3時間、より好ま
しくは0.5〜1時間反応させる。
のBoc基は、HCl、HBr、トリフルオロ酢酸などの酸
によって脱離させることができるか、トリフルオロ酢酸
がこのましい。トリフルオロ酢酸を用いると、安定な3
−アルキルアミノアゼチジン・2トリフルオロ酢酸塩が
形成され、収率が極めてよい。トリフルオロ酢酸を1−
Boc−3−アルキルアミノアゼチジンに対して、5〜2
0当量、好ましくは10〜20当量、より好ましくは1
0〜15当量で、温度−20〜20℃、好ましくは−1
0〜10℃、より好ましくは−10〜5℃にて、反応時
間0.5〜5時間、好ましくは0.5〜3時間、より好ま
しくは0.5〜1時間反応させる。
【0024】なお、例えば3−メチルアミノアゼチジン
・2塩酸塩は吸湿性が強く、極めて取り扱いにくい化合
物である。3−アルキルアミノアゼチジンの2トリフル
オロ酢酸塩は、吸湿性がほとんどなく安定しており、製
造工程中の取り扱いにも極めて優れている。
・2塩酸塩は吸湿性が強く、極めて取り扱いにくい化合
物である。3−アルキルアミノアゼチジンの2トリフル
オロ酢酸塩は、吸湿性がほとんどなく安定しており、製
造工程中の取り扱いにも極めて優れている。
【0025】
【実施例】実施例1〜4までは下記の反応式に従って、
出発物質3−アゼチジノールを用いて目的物質である3
−メチルアミノアゼチジンを得る。
出発物質3−アゼチジノールを用いて目的物質である3
−メチルアミノアゼチジンを得る。
【化22】
【0026】実施例1 1−Boc−3−アゼチジノール
の合成(3−アゼチジノールのBoc化) コルベンに、炭酸水素カリウム37.4g(0.17×2.
2モル)、水140ml、ジオキサン57mlを仕込み、3
−アゼチジノール酒石酸塩(C7H13NO7、Mol.W
t.:223.18)37.9g(0.17モル)を少しずつ
加え溶解する。(発泡しながら25℃で溶解)10℃まで
冷却後(Boc)2O 40.8g(0.17×1.1モル)の
ジオキサン20ml溶液を2時間で滴下し、さらに一夜撹
拌する。反応液は、酢酸エチル100ml、60mlで2回
抽出し合わせて10%食塩水60ml+酢酸2ml、10%
食塩水60mlで洗浄し減圧濃縮する。ヘプタン20mlを
加え再度減圧濃縮し酢酸エチルを除去する。酢酸エチル
5ml、ヘプタン170mlを加え冷却析晶させる(−10
℃まで)。結晶は手早く濾取し、26.74g(収率90.
8%)の1−Boc−3−アゼチジノール(C8H15NO3、
Mol.Wt.:173.2)を得る。
の合成(3−アゼチジノールのBoc化) コルベンに、炭酸水素カリウム37.4g(0.17×2.
2モル)、水140ml、ジオキサン57mlを仕込み、3
−アゼチジノール酒石酸塩(C7H13NO7、Mol.W
t.:223.18)37.9g(0.17モル)を少しずつ
加え溶解する。(発泡しながら25℃で溶解)10℃まで
冷却後(Boc)2O 40.8g(0.17×1.1モル)の
ジオキサン20ml溶液を2時間で滴下し、さらに一夜撹
拌する。反応液は、酢酸エチル100ml、60mlで2回
抽出し合わせて10%食塩水60ml+酢酸2ml、10%
食塩水60mlで洗浄し減圧濃縮する。ヘプタン20mlを
加え再度減圧濃縮し酢酸エチルを除去する。酢酸エチル
5ml、ヘプタン170mlを加え冷却析晶させる(−10
℃まで)。結晶は手早く濾取し、26.74g(収率90.
8%)の1−Boc−3−アゼチジノール(C8H15NO3、
Mol.Wt.:173.2)を得る。
【0027】粗1−Boc−3−アゼチジノール20gは
酢酸エチル5mlを加えたヘプタン100mlに加熱溶解し
(50℃)、−10℃まで冷却析晶させ、濾取し、19.
16gの精製1−Boc−3−アゼチジノールを得る。
(再結収率95.8%)1H−NMR(60MHz, CDCl3):δ1.
43(9H, s),3.67〜4.26(5H, m),4.53(1H, bs)
酢酸エチル5mlを加えたヘプタン100mlに加熱溶解し
(50℃)、−10℃まで冷却析晶させ、濾取し、19.
16gの精製1−Boc−3−アゼチジノールを得る。
(再結収率95.8%)1H−NMR(60MHz, CDCl3):δ1.
43(9H, s),3.67〜4.26(5H, m),4.53(1H, bs)
【0028】実施例2 1−Boc−3−アゼチジノンの
合成(1−Boc−アゼチジノールのDMSO中酸化) 1L三口コルベンに、1−Boc−3−アゼチジノール5
2.0g(0.3mol),DMSO 120ml,トリエチル
アミン210ml(1.5mol)、塩化メチレン10mlを仕込
み、0℃まで冷却する。SO3−Py錯体200g(1.
25mol:0.3×4.2mol)を10℃以下で少しずつ添
加する。添加後30分10℃以下で撹拌後20℃で1時
間撹拌する。反応液は冷却し、水1000mlに加え、酢
酸エチル900ml×2回で抽出し、酢酸エチル層は合わ
せて3%クエン酸添加の10%食塩水450mlで2回洗
浄し、活性炭9gを加え濾過、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後濃縮し、オイルを得る。これに、ヘプタン240
mlを加え冷却析晶する。Wet粗結晶51.0gを更にヘ
プタン300mlで再結し43.6g(収率84.4%)の1
−Boc−3−アゼチジノン(C8H13NO3、Mol.Wt.:
171.19)を得た。融点 52〜54℃1 H−NMR(60MHz,CDCl3):δ 1.49(9H,s),3.83
(4H,s)
合成(1−Boc−アゼチジノールのDMSO中酸化) 1L三口コルベンに、1−Boc−3−アゼチジノール5
2.0g(0.3mol),DMSO 120ml,トリエチル
アミン210ml(1.5mol)、塩化メチレン10mlを仕込
み、0℃まで冷却する。SO3−Py錯体200g(1.
25mol:0.3×4.2mol)を10℃以下で少しずつ添
加する。添加後30分10℃以下で撹拌後20℃で1時
間撹拌する。反応液は冷却し、水1000mlに加え、酢
酸エチル900ml×2回で抽出し、酢酸エチル層は合わ
せて3%クエン酸添加の10%食塩水450mlで2回洗
浄し、活性炭9gを加え濾過、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後濃縮し、オイルを得る。これに、ヘプタン240
mlを加え冷却析晶する。Wet粗結晶51.0gを更にヘ
プタン300mlで再結し43.6g(収率84.4%)の1
−Boc−3−アゼチジノン(C8H13NO3、Mol.Wt.:
171.19)を得た。融点 52〜54℃1 H−NMR(60MHz,CDCl3):δ 1.49(9H,s),3.83
(4H,s)
【0029】実施例3 Boc−3−メチルアミノアゼチ
ジンの合成(還元的メチルアミノ化) Boc−アゼチジノン20g(0.116モル)をメタノー
ル270mlに溶解し、活性炭6.3gを加え30分撹拌
後、濾過する。1L3ツ口コルベンにメタノール100
ml、酢酸63g(1.05モル)を仕込、これに40%メ
チルアミンメタノール溶液77.7g(1モル)を氷冷下
滴下する。これに、1−Boc−3−アゼチジノンメタノ
ール溶液を加え、さらにWet5%Pd−C 5gを加
え、メタノール50mlで洗浄し、常圧下水添した(24
℃、40時間)。
ジンの合成(還元的メチルアミノ化) Boc−アゼチジノン20g(0.116モル)をメタノー
ル270mlに溶解し、活性炭6.3gを加え30分撹拌
後、濾過する。1L3ツ口コルベンにメタノール100
ml、酢酸63g(1.05モル)を仕込、これに40%メ
チルアミンメタノール溶液77.7g(1モル)を氷冷下
滴下する。これに、1−Boc−3−アゼチジノンメタノ
ール溶液を加え、さらにWet5%Pd−C 5gを加
え、メタノール50mlで洗浄し、常圧下水添した(24
℃、40時間)。
【0030】原料がなくなったことをTLC(酢酸エチ
ル:塩メチレン=3:7)で確認後、触媒を濾去後減圧
濃縮し163gのオイルを得る。これに、炭酸カリウム
82.9g(0.6モル)、水400mlを加え、酢酸エチル
100ml×2回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧濃縮し、21.3g(収率98.6%)のオイル状粗1
−Boc−3−メチルアミノアゼチジン(C9H18N
2O2、Mol.Wt.:186.25)を得た。1 H−NMR(60MHz, CDCl3):δ1.43(9H, s),1.74(1H,
bs),2.38(3H, s),3.56〜4.10(5H, m)
ル:塩メチレン=3:7)で確認後、触媒を濾去後減圧
濃縮し163gのオイルを得る。これに、炭酸カリウム
82.9g(0.6モル)、水400mlを加え、酢酸エチル
100ml×2回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧濃縮し、21.3g(収率98.6%)のオイル状粗1
−Boc−3−メチルアミノアゼチジン(C9H18N
2O2、Mol.Wt.:186.25)を得た。1 H−NMR(60MHz, CDCl3):δ1.43(9H, s),1.74(1H,
bs),2.38(3H, s),3.56〜4.10(5H, m)
【0031】実施例4 3−メチルアミノアゼチジン
(脱Boc化) 粗1−Boc−3−メチルアミノアゼチジン18.6g
(0.1モル)を酢酸エチル36mlに希釈し、トリフルオ
ロ酢酸90ml(135g)を氷冷下滴下する。氷冷下3時
間撹拌後、室温で一夜静置する。TLCで原料がないこ
とを確認後、減圧濃縮し38.9gのオイルを得る。こ
れをソルミックスAP−1(商品名、イソプロピルアル
コール変性アルコール、日本化成社製)50ml+メタノ
ール30mlを加え希釈、これに活性炭0.2gを加え3
0分撹拌し、濾過する。減圧濃縮後、イソプロピルアル
コール(IPA)100mlを加えゆっくり冷却し(氷冷)、
析晶する。結晶は濾取し、冷イソプロピルアルコールを
振り掛け洗浄し、減圧乾燥する。粗結晶Wet25.9g
Dry24.1g(収率76.8%)
(脱Boc化) 粗1−Boc−3−メチルアミノアゼチジン18.6g
(0.1モル)を酢酸エチル36mlに希釈し、トリフルオ
ロ酢酸90ml(135g)を氷冷下滴下する。氷冷下3時
間撹拌後、室温で一夜静置する。TLCで原料がないこ
とを確認後、減圧濃縮し38.9gのオイルを得る。こ
れをソルミックスAP−1(商品名、イソプロピルアル
コール変性アルコール、日本化成社製)50ml+メタノ
ール30mlを加え希釈、これに活性炭0.2gを加え3
0分撹拌し、濾過する。減圧濃縮後、イソプロピルアル
コール(IPA)100mlを加えゆっくり冷却し(氷冷)、
析晶する。結晶は濾取し、冷イソプロピルアルコールを
振り掛け洗浄し、減圧乾燥する。粗結晶Wet25.9g
Dry24.1g(収率76.8%)
【0032】得られた粗結晶23gをIPA150mlに
加熱溶解(70℃)し、濾過後ゆっくり冷却析晶させる。
結晶は濾取し、ロート上IPAで振り掛け洗浄し、減圧
乾燥して3−メチルアミノアゼチジン・2TFA塩(C8
H12F6N2O4、Mol.Wt.:314.18gを得る。(収
率67.6%) 再結母液回収品(IPA−IPE析晶)
1.89g(収率6.3%)1 H−NMR(60MHz, d6-DMSO):δ2.78(3H, s),4.67(5
H, s),5.22(4H, s)
加熱溶解(70℃)し、濾過後ゆっくり冷却析晶させる。
結晶は濾取し、ロート上IPAで振り掛け洗浄し、減圧
乾燥して3−メチルアミノアゼチジン・2TFA塩(C8
H12F6N2O4、Mol.Wt.:314.18gを得る。(収
率67.6%) 再結母液回収品(IPA−IPE析晶)
1.89g(収率6.3%)1 H−NMR(60MHz, d6-DMSO):δ2.78(3H, s),4.67(5
H, s),5.22(4H, s)
【0033】実施例5 3−エチルアミノアゼチジンの
合成(還元的エチルアミノ化)
合成(還元的エチルアミノ化)
【化23】 1−Boc−3−アゼチジノン(C8H13NO3、Mol.W
t.:171.19)17.1g(0.1モル)をメタノール6
6mlに溶解し、活性炭1.7gを加え30分撹拌後、さ
らに活性炭1.7gを加え1時間撹拌後濾過する。10
00ml3ツ口コルベンにメタノール83ml、酢酸52.
3g(0.1×1.05mM)を仕込み、これに70%エチ
ルアミン水溶液53.3g(0.1モル)を氷冷下滴下す
る。これに、1−Boc−3−アゼチジノンメタノール溶
液を加え、さらにWet 5%3.3Pd−C1gを加え、
メタノール20mlで洗浄し、常圧下20〜30℃で還元
した。一夜反応後、原料が残っていたため、触媒を濾過
し、再度触媒を仕込み還元した。
t.:171.19)17.1g(0.1モル)をメタノール6
6mlに溶解し、活性炭1.7gを加え30分撹拌後、さ
らに活性炭1.7gを加え1時間撹拌後濾過する。10
00ml3ツ口コルベンにメタノール83ml、酢酸52.
3g(0.1×1.05mM)を仕込み、これに70%エチ
ルアミン水溶液53.3g(0.1モル)を氷冷下滴下す
る。これに、1−Boc−3−アゼチジノンメタノール溶
液を加え、さらにWet 5%3.3Pd−C1gを加え、
メタノール20mlで洗浄し、常圧下20〜30℃で還元
した。一夜反応後、原料が残っていたため、触媒を濾過
し、再度触媒を仕込み還元した。
【0034】原料がなくなったことをTLC(クロロホ
ルム:メタノール=9:1)で確認後、触媒を濾去後減
圧濃縮し117gのオイルを得る。これに、炭酸カリウ
ム73g(0.53モル)、水330mlを加え、酢酸エチ
ル200ml×2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
減圧濃縮し、20.4gオイル状粗1−Boc−3−エチ
ルアミノアゼチジン(C10H20N2O2、Mol.Wt.:20
0.28)を得た。収率101.9%1 H−NMR(300MHz, CDCl3):δ1.19(3H, t),1.43(9H,
q),2.61(2H, q),3.57〜4.11(5H, m)
ルム:メタノール=9:1)で確認後、触媒を濾去後減
圧濃縮し117gのオイルを得る。これに、炭酸カリウ
ム73g(0.53モル)、水330mlを加え、酢酸エチ
ル200ml×2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
減圧濃縮し、20.4gオイル状粗1−Boc−3−エチ
ルアミノアゼチジン(C10H20N2O2、Mol.Wt.:20
0.28)を得た。収率101.9%1 H−NMR(300MHz, CDCl3):δ1.19(3H, t),1.43(9H,
q),2.61(2H, q),3.57〜4.11(5H, m)
【0035】脱Boc化 粗1−Boc−3−エチルアミノアゼチジン15.0g(7
4.9mmol)を酢酸エチル60mLに溶解し、氷冷下トリ
フルオロ酢酸75mLを加え(添加と同時に結晶化してく
る)、1.5時間撹拌しTLCで原料の消失を確認後、減
圧濃縮する。メタノール150mlに溶解後ろ過し、少し
減圧濃縮しIPA約600mlを加え結晶化、さらに減圧
濃縮し、メタノールを除去する。結晶は濾取し、減圧乾
燥し、3−エチルアミノアゼチジン・2TFA(C9H
14F6N2O4、Mol.Wt.:328.18)を得る。D
ry 18.4g 収率75%(2TFA塩として) TLCモノスポット(n−プロパノール:濃アンモニア
水=2:1)1 H−NMR(300MHz, d6-DMSO):δ1.19(3H, t),2.89(2
H, q),4.06〜4.33(5H, m),5.20(4H, s)
4.9mmol)を酢酸エチル60mLに溶解し、氷冷下トリ
フルオロ酢酸75mLを加え(添加と同時に結晶化してく
る)、1.5時間撹拌しTLCで原料の消失を確認後、減
圧濃縮する。メタノール150mlに溶解後ろ過し、少し
減圧濃縮しIPA約600mlを加え結晶化、さらに減圧
濃縮し、メタノールを除去する。結晶は濾取し、減圧乾
燥し、3−エチルアミノアゼチジン・2TFA(C9H
14F6N2O4、Mol.Wt.:328.18)を得る。D
ry 18.4g 収率75%(2TFA塩として) TLCモノスポット(n−プロパノール:濃アンモニア
水=2:1)1 H−NMR(300MHz, d6-DMSO):δ1.19(3H, t),2.89(2
H, q),4.06〜4.33(5H, m),5.20(4H, s)
【0036】実施例6 1−フェニルエチル−3−メチ
ルアミノアゼチジン・2TFA塩の製造
ルアミノアゼチジン・2TFA塩の製造
【化24】
【0037】(1)1−フェニルエチル−3−アゼチジノ
ール()から1−フェニルエチル−アゼチジノン()の
製造 1−フェニルエチル3−アゼチジノール(Mol.Wt.:
177.25)(509.2mg、2.873mmol)をジメチル
スルホキシド5.1mLに溶解し、トリエチルアミン2.0
0mL(14.4mmol)を加えた。この溶液に三酸化硫黄−
ピリジン錯体922.2mg(5.795mmol)のジメチルス
ルホキシド溶液1.0mLを5分間かけて加えた。25分
間室温で撹拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液1
0mLを加え、酢酸エチル30mLで抽出した。有機層を飽
和食塩水で洗滌した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下濃縮した。得られた残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィー(BW820MH 50g、ヘキサン:酢酸エチル
3:1→2:1)で分離精製し、淡黄油状物の1−フェ
ニルエチル−3−アゼチジノン(Mol.Wt.:175.
23)201.4mg(収率:40%)を得た。1 H−NMR(600MHz,CDCl3):δ1.37(3H,d,
J=6.0Hz),3.54(1H,q,J=6.0Hz),3.96(2H,d,
J=16.0Hz),4.03(2H,d,J=16.0Hz),7.26〜7.37(5
H,m)
ール()から1−フェニルエチル−アゼチジノン()の
製造 1−フェニルエチル3−アゼチジノール(Mol.Wt.:
177.25)(509.2mg、2.873mmol)をジメチル
スルホキシド5.1mLに溶解し、トリエチルアミン2.0
0mL(14.4mmol)を加えた。この溶液に三酸化硫黄−
ピリジン錯体922.2mg(5.795mmol)のジメチルス
ルホキシド溶液1.0mLを5分間かけて加えた。25分
間室温で撹拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液1
0mLを加え、酢酸エチル30mLで抽出した。有機層を飽
和食塩水で洗滌した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下濃縮した。得られた残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィー(BW820MH 50g、ヘキサン:酢酸エチル
3:1→2:1)で分離精製し、淡黄油状物の1−フェ
ニルエチル−3−アゼチジノン(Mol.Wt.:175.
23)201.4mg(収率:40%)を得た。1 H−NMR(600MHz,CDCl3):δ1.37(3H,d,
J=6.0Hz),3.54(1H,q,J=6.0Hz),3.96(2H,d,
J=16.0Hz),4.03(2H,d,J=16.0Hz),7.26〜7.37(5
H,m)
【0038】(2) 1−フェニルエチル−3−アゼチジ
ノン()から1−フェニルエチル−3−メチルアミノア
ゼチジン()の合成 1−フェニルエチル−3−アゼチジノン()36.4mg
(0.208mmol)、メタノール2.0mlに溶解した後、2
5%メチルアミン水溶液139μL(1.04mmol)、10
%パラジウム炭素28mgを順次加え、水素加圧(約3気
圧)下室温で36時間撹拌した。反応物を濾過し、濾去
物をメタノールで洗滌して合わせた濾液を濃縮した後、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで5
回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、減圧下に濃縮乾固し、淡黄油状物の1−フェニル
エチル−3−メチルアゼチジン(、Mol.Wt.:19
0.29)39.3mg(収率:99%)を得た。 Rf値:0.31(n−BuOH:AcOH:H2O=4:1:2) 1H−NMR(600MHz,CDCl3):δ1.15(3H,d,
J=7Hz, C-Me),2.27(H,s,N-Me),2.60(1H,m,H-2
または3または4),2.67(1H,dd,J=5および7Hz,H-
2または3または4),3.18(1H,q,J=7Hz,Me-CH),3.
25〜3.30(2H,m,H-2または3または4),3.58(1H,m,H-
2または3または4),7.13〜7.28(5H,m,Ar-H)
ノン()から1−フェニルエチル−3−メチルアミノア
ゼチジン()の合成 1−フェニルエチル−3−アゼチジノン()36.4mg
(0.208mmol)、メタノール2.0mlに溶解した後、2
5%メチルアミン水溶液139μL(1.04mmol)、10
%パラジウム炭素28mgを順次加え、水素加圧(約3気
圧)下室温で36時間撹拌した。反応物を濾過し、濾去
物をメタノールで洗滌して合わせた濾液を濃縮した後、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで5
回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、減圧下に濃縮乾固し、淡黄油状物の1−フェニル
エチル−3−メチルアゼチジン(、Mol.Wt.:19
0.29)39.3mg(収率:99%)を得た。 Rf値:0.31(n−BuOH:AcOH:H2O=4:1:2) 1H−NMR(600MHz,CDCl3):δ1.15(3H,d,
J=7Hz, C-Me),2.27(H,s,N-Me),2.60(1H,m,H-2
または3または4),2.67(1H,dd,J=5および7Hz,H-
2または3または4),3.18(1H,q,J=7Hz,Me-CH),3.
25〜3.30(2H,m,H-2または3または4),3.58(1H,m,H-
2または3または4),7.13〜7.28(5H,m,Ar-H)
【0039】(3)1−フェニルエチル−3−メチルアミ
ノアゼチジン()から3−メチル−アミノアゼチジン・
2TFA塩()の合成 1−フェニルエチル−3−メチルアミノアゼチジン()
39.3mg(0.207mmol)にメタノール0.83ml、
酢酸0.18mlを加え溶解し、水素雰囲気下(1気圧)下
50℃にて激しく撹拌した。反応物を濾過し、濾去物を
メタノールで洗滌し、合わせた濾液を10%メタノール
−TFAでpH4に調整した後、2回トルエンと共沸さ
せた後、減圧乾固して、無色油状物の化合物3−メチル
アミノアゼチジン・2TFA塩(Mol.Wt.:314.
18)61.8mgを得た。(収率:96%) Rf値:0.10(n−BuOH:AcOH:H2O=4:1:2)1 H−NMR(600MHz,OD3OD):δ2.72(3H,s,N-M
e),4.34〜4.50(5H,m,H-2、3または4)
ノアゼチジン()から3−メチル−アミノアゼチジン・
2TFA塩()の合成 1−フェニルエチル−3−メチルアミノアゼチジン()
39.3mg(0.207mmol)にメタノール0.83ml、
酢酸0.18mlを加え溶解し、水素雰囲気下(1気圧)下
50℃にて激しく撹拌した。反応物を濾過し、濾去物を
メタノールで洗滌し、合わせた濾液を10%メタノール
−TFAでpH4に調整した後、2回トルエンと共沸さ
せた後、減圧乾固して、無色油状物の化合物3−メチル
アミノアゼチジン・2TFA塩(Mol.Wt.:314.
18)61.8mgを得た。(収率:96%) Rf値:0.10(n−BuOH:AcOH:H2O=4:1:2)1 H−NMR(600MHz,OD3OD):δ2.72(3H,s,N-M
e),4.34〜4.50(5H,m,H-2、3または4)
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
Claims (12)
- 【請求項1】 下記の式(1): 【化1】 (式中、R'はアルキル基を示す)で示される、3−アル
キルアミノアゼチジンの製造方法であって、下記の式
(2): 【化2】 (式中、Rは、低級アルコキシカルボニル基、アリール
低級アルキルオキシカルボニル基またはアリール低級ア
ルキル基である)で示される1−R−3−アゼチジノー
ルを酸化して得られる、下記の式(3): 【化3】 (式中、Rは上記と同じ)を経由し、これにN−アルキル
アミンを反応させ、下記の式(4): 【化4】 (式中、RおよびR'は、上記と同じ)で示される1−R−
3−アルキルアミノアゼチジンを得、ついでR基を脱離
させることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 下記の式(4): 【化5】 (式中、Rは、低級アルコキシカルボニル基、アリール
低級アルキルオキシカルボニル基またはアリール低級ア
ルキル基であり、R'は、アルキル基である)で示される
1−R−3−アルキルアミノアゼチジンの製造方法であ
って、下記の式(2): 【化6】 で示される1−R−3−アゼチジノール(式中、Rは、
上記と同じ)を、酸化して得られる、下記の式(3): 【化7】 (式中、Rは上記と同じ)を経由し、これにN−アルキル
アミンを反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項3】 上記低級アルコキシカルボニル基が、B
oc(第3級ブトキシカルボニル基)であり、アリール低級
アルキルオキシカルボニル基が、ベンジルオキシカルボ
ニル基であり、アリール低級アルキル基が、フェニルエ
チル基である、請求項1または2記載の方法。 - 【請求項4】 上記酸化が、DMSO中で三酸化硫黄−
ピリジン錯体との反応によって行われるものである、請
求項1〜3のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項5】 上記R基がBoc基であるときの脱離が、
トリフルオロ酢酸を作用させて行われ、2トリフルオロ
酢酸塩として高収率で3−アルキルアミノアゼチジンを
得るものである、請求項1、3および4のいずれか1項
記載の方法。 - 【請求項6】 下記の式(3): 【化8】 (式中、Rは、Bocまたはフェニルエチル基である)で示
される1−R−3−アゼチジノンの製造方法であって、
下記の式(2): 【化9】 で示される1−R−3−アゼチジノール(式中、Rは、
Bocまたはフェニルエチル基である)を、DMSO中で
三酸化硫黄−ピリジン錯体と反応させて、1−R−3−
アゼチジノンを得ることを特徴とする方法。 - 【請求項7】 下記の式(4): 【化10】 (式中、Rは、Bocまたはフェニルエチル基であり、R'
は、アルキル基である)で示される1−R−3−アルキ
ルアミノアゼチジンの製造方法であって、下記の式
(3): 【化11】 (式中、Rは、Bocまたはフェニルエチル基である)で示
される1−R−3−アゼチジノンと、N−アルキルアミ
ンを反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項8】 下記の式(1): 【化12】 (式中、R'はアルキル基を示す)で示される、3−アル
キルアミノアゼチジンの製造方法であって、下記の式
(5): 【化13】 で示される1−Boc−3−アルキルアミノアゼチジン
に、トリフルオロ酢酸を作用させてBoc基を脱離させ、
2トリフルオロ酢酸塩として高収率で3−アルキルアミ
ノアゼチジンを得ることを特徴とする方法。 - 【請求項9】 下記の式(1): 【化14】 (式中、R'はアルキル基を示す)で示される、3−アル
キルアミノアゼチジンの製造方法であって、下記の式
(6): 【化15】 で示される1−フェニルエチル−3−アルキルアミノア
ゼチジンを接触還元した後、3−R'−アミノアゼチジ
ン・2トリフルオロ酢酸塩として3−アルキルアミノア
ゼチジンを得ることを特徴とする方法。 - 【請求項10】 1−Boc−3−アゼチジノン
- 【請求項11】 1−フェニルエチル−3−アゼチジノ
ン - 【請求項12】 3−R'−アミノアゼチジン・2TF
A(式中、R'は、メチルまたはエチル)。
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---|---|---|---|
JP2001056588A JP2002255932A (ja) | 2001-03-01 | 2001-03-01 | 3−アルキルアミノアゼチジンの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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Country | Link |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7262192B2 (en) | 2003-04-29 | 2007-08-28 | Pfizer Inc. | Substituted pyrazolo[4,3-d]pyrimidines and their use as PDE-5 inhibitors |
US7569572B2 (en) | 2004-04-07 | 2009-08-04 | Pfizer Inc | Pyrazolo[4,3-D]pyrimidines |
US7572799B2 (en) | 2003-11-24 | 2009-08-11 | Pfizer Inc | Pyrazolo[4,3-d]pyrimidines as Phosphodiesterase Inhibitors |
-
2001
- 2001-03-01 JP JP2001056588A patent/JP2002255932A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7262192B2 (en) | 2003-04-29 | 2007-08-28 | Pfizer Inc. | Substituted pyrazolo[4,3-d]pyrimidines and their use as PDE-5 inhibitors |
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US8097621B2 (en) | 2003-11-24 | 2012-01-17 | Pfizer Inc. | Pyrazolo[4,3-d]pyrimidines as phosphodiesterase inhibitors |
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