KR100315053B1 - 트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로 포름아미디늄 및 그의 제조방법 - Google Patents

트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로 포름아미디늄 및 그의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에는, 하기 일반식(1);
(식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있음)로 표시되는, 안전하고, 취급이 용이하며, 공업상 매우 유용한 트리플루오로아세톡실화제 및 그의 제조방법이 개시되어 있다.

Description

트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로 포름아미디늄 및 그의 제조방법{Tetraalkylfluoroformamidinium trifluoroacetate and preparation process of same}
본 발명은 신규의 불소함유화합물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는, 신규의 불소함유화합물인 트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로포름아미디늄 및 그 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
트리플루오로아세트산 에스테르를 제조하는 종래의 방법에 있어서는, 트리플로오로아세트산, 트리플루오로아세틸클로라이드 및 트리플루오로아세트산 무수물을 주로 사용해 왔다.
트리플루오로아세트산 에스테르는 이들 화합물을 이용한 에스테르화반응에 의해 제조할 수 있다.
트리플루오로아세트산을 이용해서 트리플루오로아세트산 에스테르를 제조하는 방법의 예로서는, 트리플루오로아세트산을 알콜로 축합해서 에스테르를 제조하는 방법을 들 수 있다.
이러한 방법의 일례로서, J. Am. Chem, Soc., 79, 54(1957)에, 황산촉매의존재하에 알콜과 과잉의 트리플루오로아세트산을 반응시킨 후, 얻어진 에스테르를 수세하여 트리플루오로아세트산 에스테르를 얻는 방법이 보고되어 있다. 그러나, 이 방법은, 수세과정중에 에스테르의 부분가수분해를 초래하고, 또한, 과잉의 트리플루오로아세트산을 수성층으로부터 회수하는 것이 곤란하다. 따라서, 공업적인 방법에의 적용은 용이하게 행할 수 없다.
트리플루오로아세틸클로라이드를 이용해서 트리플루오로아세트산 에스테르를 제조하는 방법으로서는, 염기성 촉매의 존재하에 트리플루오로아세틸 클로라이드와 알콜을 반응시키는 방법을 들 수 있다. 이 방법은 상기 트리플루오로아세트산을 이용하는 경우에 비해서 온화한 조건하에 트리플루오로아세트산 에스테르를 고수율로 제조할 수 있으나, 염기의 염화수소를 회수해서 재이용하는 데 복잡한 방법을 필요로 하고, 또 트리플루오로아세틸클라이드의 가수분해성으로 인해 보존에 문제점을 지닌다.
트리플루오로아세트산 무수물을 이용하는 방법은, 트리플루오로아세트산 무수물의 높은 반응성에 의해 온화한 조건하에서 트리플루오로아세트산 에스테르를 제조할 수 있으나, 트리플루오로아세트산 무수물은 값비싸므로 공업적인 방법에의 적용은 경제적인 관점에서 곤란하다.
본 발명의 목적은, 트리플루오로아세톡실화반응에 유용한 신규의 불소함유화합물인 트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로포름아미디늄 및 그 화합물의 제조방법을 제공하는 데 있다.
이들 과제를 해소하기 위하여 예의 검토한 결과, 본 발명자들은, 하기 일반식(1);
(식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있음)로 표시되는 신규의 화합물을 발견하여, 이 신규의 화합물이 신규의 음이온담체(carrier), 즉 트리플루오로아세톡실화제로서 우수하여 트리플루오로아세트산 에스테르의 제조에 유용하다는 것을 발견하였다. 또, 본 발명자들은, 상기 신규의 화합물의 트리플루오로아세톡실화반응에의 적용은, 특수한 장비나 기술을 필요로 하지 않고 안전성 높게 또 용이하게 행할 수 있다는 것도 발견하였다.
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 트리플루오로아세트산의 알칼리금속염과 하기 일반식(4);
(식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있으며, 불소원자중 하나는 음이온으로서 이온쌍을 형성할 수 있음)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
따라서, 상기 방법은, 특수한 장비나 기술을 전혀 필요로 하지 않고, 공업상 안전하게 제조를 행할 수 있다.
또, 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 하기 일반식(5);
(식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있으며, 염소음이온은 염소원자를 지닌 탄소원자와 공유결합할 수 있음)로 표시되는 중간체화합물로부터 제조할 수 있다. 요소는, 상기 일반식(5)의 중간체화합물의 원료이다.
또, 본 발명자들은, 트리플루오로아세톡실화반응의 종료후에, 트리플루오로아세톡실화제를 요소유도체의 형태로 회수해서 경제적으로 재이용할 수 있다는 것도 발견하였다.
즉, 본 발명의 양상은 다음과 같다:
1) 하기 일반식(1);
(식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있음)로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물.
2) 상기 1)항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 일반식(2);
(식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 화합물.
3) 상기 1)항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 식(3);
으로 표시되는 트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디메틸이미다졸리늄인 것을 특징으로 하는 화합물.
4) 하기 일반식(1);
(식중, R1내지 R4는 상기와 동일함)로 표시되는 화합물의 제조방법에 있어서, 하기 일반식(4);
(식중, R1내지 R4는 상기와 동일하며, 불소원자중의 하나는 음이온으로서 이온쌍을 형성할 수 있음)로 표시되는 화합물을 트리플루오로아세트산의 알칼리금속염과 반응시키는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법.
5) 상기 4)항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기일반식(2);
(식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 하기 일반식(4-1);
(식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법.
6) 상기 4)항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 식(3);
으로 표시되는 화합물이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 하기 식(4-2);
로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 일반식(1)로 표시되는 화합물의제조방법.
7) 상기 1)항 내지 3)항중 어느 한 항에 기재된 트리플루오로아세톡실화제.
본 발명에 의하면, 안전하고, 취급이 용이하고, 공업상 매우 유용하며, 또, 트리플루오로아세트산 에스테르의 공업적 제조에 사용가능한 신규의 불소함유화합물인 트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로포름아미디늄을 제공하는 것이 가능하다.
본 발명의 화합물은, 종래의 불소화합물의 제조방법에 있어서의 각종 문제점을 제거할 수 있어, 불소화합물의 공업적 제조에 유효하다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명의 화합물, 즉, 본 발명의 트리플루오로아세톡실화제로서 유용한 화합물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로포름아미디늄이고, 바람직하게는 일반식(2)로 표시되는 화합물, 더욱 바람직하게는 식(3)으로 표시되는 화합물이다.
상기 일반식(1)에 있어서, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 아릴기이다. 알킬기는, 직쇄 또는 분기쇄이어도 되며, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로헥실기, 페닐기, 나프틸기, 메틸페닐기, 에틸페닐기 및 디메틸페닐기를 들 수 있다.
R1과 R2또는 R3과 R4는 개별적으로 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유함과 동시에 탄소원자 3 내지 5개를 지닌 고리를 형성할 수 있다.
이들 고리의 예로서는, 피롤리딘고리 및 피페리딘고리를 들 수 있다.
또한, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 5원 또는 6원고리를 형성할 수 있다. 이러한 고리의 예로서는, 이미다졸리딘고리를 들 수 있다.
상기 일반식(1)로 표시되는 구체적인 화합물로서는, 다음과 같은 화합물을 들 수 있으나, 본 발명은, 이들 예시된 화합물로 제한되는 것은 아니다.
트리플루오로아세트산 테트라메틸-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 테트라에틸-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 테트라-n-프로필-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 테트라이소프로필-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 테트라-n-부틸-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 테트라-n-펜틸-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 테트라-n-헥실-2-플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디메틸이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디에틸이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디(n-프로필)이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디이소프로필이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디(n-부틸)이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디(n-펜틸)이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디(n-헥실)이미다졸리늄,
트리플루오로아세트산 N,N-디메틸-N',N'-메틸페닐플루오로포름아미디늄,
트리플루오로아세트산 플루오로-비스(1-피페리딜)메틸륨.
이들 화합물중에서, 특히 식(3)으로 표시되는 트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디메틸이미다졸리늄이 바람직하다.
본 발명에 있어서 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 상기 일반식(4)로 표시되는 화합물과 트리플루오로아세트산의 금속염과의 반응에 의해 제조할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 화합물의 원료에 사용될 수 있는 상기 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 일반식(5);
(식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있으며, 염소음이온은 염소원자를 지닌 탄소원자와 공유결합할 수 있음)로 표시되는 화합물과 불소의 알칼리금속염을 불활성 용매중에서 할로겐교환반응을 행함으로써 안전하고 용이하게 얻을 수 있다.
상기 반응에서 사용되는 불활성 용매란, 화합물의 제조에 아무런 영향을 미치지 않는 동시에 원료 및 생성물과도 반응하지 않는 용매를 의미한다.
할로겐교환반응에 사용가능한 불소의 알칼리금속염으로서는, 불화세슘, 불화루비듐, 불화칼륨 및 불화나트륨을 들 수 있고, 경제성 및 반응효율면에서의 이점을 고려해서 불화반응에 사용되는 분무건조된 불화칼륨이 바람직하다.
상기 일반식(5)로 표시되는 화합물은, 테트라알킬우레아 또는 테트라알킬티오우레아를, 포스겐, 염화티오닐, 3염화인 등의 염소화제로 염소화시킴으로써 제조할 수 있다. 예를 들면, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄 클로라이드는, 일본국 특허공개공보 소 59-25375호에 기재된 방법에 의해 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명의 화합물을 트리플루오로아세톡실화제로서 사용할 경우, 상기 일반식(5)로 표시되는 화합물은, 원료인 테트라알킬우레아 또는 테트라알킬티오우레아의 형태로 반응종료후에 회수하여 재사용할 수 있다.
상기 방법은, 하기 일반식(4);
(식중, R1내지 R4는 상기와 동일하며, 불소원자중의 하나는 음이온으로서 이온쌍을 형성할 수 있음)로 표시되는 화합물, 바람직하게는, 하기 일반식(4-1);
(식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물, 더욱 바람직하게는 하기 식(4-2);
로 표시되는 화합물을 제공한다.
본 발명의 제조방법에 있어서, 상기에서 얻어진 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 트리플루오로아세트산의 알칼리금속염과 반응한다.
본 발명에 있어서 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조에 사용할 수 있는 트리플루오로아세트산의 알칼리금속염으로서는, 트리플루오로아세트산 나트륨과 트리플루오로아세트산 칼륨을 들 수 있다.
트리플루오로아세트산의 알칼리금속염의 양은, 바람직하게는 일반식(4)로 표시되는 화합물에 대해서 1당량이상, 더욱 바람직하게는 1.1 내지 1.5당량이다.
반응용매에 대해서는, 용매가 일반식(4)로 표시되는 화합물 및 형성된 화합물과 반응하지 않는 한 특히 제한은 없다. 바람직한 용매로서는, 아세토니트릴, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 술포란, 디클로로메탄 및 에틸렌디클로라이드를 들수 있다.
반응용매의 양에 대해서는, 특히 제한은 없다. 바람직하게 사용되는 양은, 반응효율 및 작업성의 면에서 반응물질의 양에 대해서 1 내지 10배이다.
반응온도는, 0 내지 100℃, 바람직하게는 반응속도 및 생성물의 안정성의 면에서 20 내지 60℃이다.
반응시간은, 통상 5 내지 15시간, 바람직하게는 7 내지 10시간이다.
본 발명의 화합물은, 상기 반응조건하에서 제조할 수 있다.
본 발명의 화합물은, 트리플루오로아세톡실화제로서 매우 유용하고, 또, 트리플루오로아세톡실기를 화합물속으로 안전하고 용이하게 효율적으로 도입할 수 있다.
예를 들면, 수산기는, 일반식(1)로 표시되는 화합물을 이용해서 트리플루오로아세톡실화 할 수 있다. 이 반응에 있어서, 일반식(1)로 표시되는 화합물의 양은, 통상 수산기의 양에 대해 1당량이상, 바람직하게는 1.01당량이상이다.
트리플루오로아세톡실화에 있어서의 반응용매에 대해서는, 해당 용매가 일반식(1)로 표시되는 화합물, 수산기를 지닌 화합물 및 반응생성물과 반응하지 않는 한 특히 제한은 없다.
바람직한 반응용매로서는, 아세토니트릴, 1,3-디메틸-2-아미다졸리디논, 술포란, 디클로로메탄 및 에틸렌디클로라이드를 들 수 있다.
트리플루오로아세톡실화반응온도는, 통상 -20 내지 150℃, 바람직하게는 0 내지 100℃이다.
또, 반응에 있어서, 일반식(1)로 표시되는 화합물, 수산기를 지닌 화합물 및 반응생성물에 악영향을 미치지 않는 한 할로겐화수소포획제, 염기 또는 산촉매를 첨가할 수 있다.
반응에 의해 형성된 화합물은, 증류 또는 추출에 의해 반응물로부터 분리시킬 수 있다.
일반식(1)로 표시되는 화합물은, 일반식(5)로 표시되는 화합물의 원료인 요소유도체의 형태로 반응종료후 회수할 수 있으므로, 공업상 유리하다.
이하, 본 발명을 각종 실시예를 통해 더욱 상세히 설명한다.
그러나, 이들 실시예는 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 간주해서는 안된다.
실시예 1에 있어서, 트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디메틸이미다졸리늄(이하, 간단히 DMFT라 칭함)과 아닐린을 반응시키고, 얻어진 유도체를 고성능액체크로마토그라피(이하, 간단히 HPLC라 칭함)로 측정함으로써, 아세토니트릴용액중의 DMFT의 농도를 평가하였다.
알리자린-컴플렉손시약을 이용한 흡광광도법에 의해 불소이온(이하 간단히 F-라 칭함)의 농도를 측정하였다.
실시예 1
트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디메틸이미다졸리늄(DMFT)의 합성
2,2-디플루오로-1,3-디메틸이미다졸리딘(DFI)의 아세토니트릴용액 40.62g(DFI: 5.21g, 0.0383몰)에, 트리플루오로아세트산 나트륨 5.21g(0.0383몰)을첨가하고, 질소분위기중, 실온에서 7.5시간 반응시켰다.
반응종료후, 혼탁한 반응혼합액을 여과해서 여과액중의 DMFT의 농도를 HPLC로 측정하였다. DMFT의 농도는 4.31중량%였고, 수율은 71.8%였다.
생성물의 특성은 이하와 같다.
1H-NMR(δ,ppm, CH3CN용매, CH3CN기준, 25℃): 3.01(s, 6H, -CH3×2), 3.91(d, J=2.5Hz, 4H, -CH2CH2-),13C-NMR(δ,ppm, CH3CN용매, DMSO d6기준, 23℃): 31.0(s, -CH3×2), 46.6(s, -CH2CH2-), 117.2(q, J=296Hz, CF3),157.7(d, J=281Hz, C-F), 158.9(q, J=31Hz, C=O).
실시예 2
트리플루오로아세트산 n-옥틸의 합성
2,2-디플루오로-1,3-디메틸이미다졸리딘(DFI)의 아세토니트릴용액 40.62g(DFI로서 5.21g, 0.0383몰)에, 트리플루오로아세트산 나트륨 5.21g(0.0383몰)을 첨가하고, 질소분위기중, 실온에서 7.5시간 반응시켰다.
반응종료후, 혼탁한 반응혼합액을 여과해서, DMFT의 농도가 14.31중량%, 즉 DMFT가 1.23g(5.3밀리몰)인 여과액 8.62g을 얻었다. 이 여과액에, n-옥틸알콜 0.69g(5.3밀리몰)을 첨가해서 아세토니트릴의 환류온도에서 7시간 반응시켰다.
트리플루오로아세트산 n-옥틸의 수율은, 반응혼합물의 GC분석에 의하면 88.3%였다.
실시예 3
트리플루오로아세트산 벤질의 합성
2,2-디플루오로-1,3-디메틸이미다졸리딘(DFI)의 아세토니트릴용액 40.62g(DFI로서 5.21g, 0.0383몰)에, 트리플루오로아세트산 나트륨 5.21g(0.0383몰)을 첨가하고, 질소분위기중, 실온에서 7.5시간 반응시켰다.
반응종료후, 혼탁한 반응혼합액을 여과해서 여과액 8.62g을 얻었다. 이 여과액중의 DMFT의 농도는 14.31중량%, 즉, DMFT가 1.23g(5.3밀리몰)이었다.
이 여과액에, 벤질알콜 0.57g(5.3밀리몰)을 첨가하고, 아세토니트릴의 환류온도에서 7시간 반응시켰다.
트리플루오로아세트산 벤질의 수율은, 반응혼합물의 GC분석에 의하면 91.2%였다.
이상, 본 발명에 의하면, 안전하고, 취급이 용이하고, 공업상 매우 유용하며, 또, 트리플루오로아세트산 에스테르의 공업적 제조에 사용가능한 신규의불소함유화합물인 트리플루오로아세트산 테트라알킬플루오로포름아미디늄을 제공하는 것이 가능하다.
본 발명의 화합물은, 종래의 불소화합물의 제조방법에 있어서의 각종 문제점을 제거할 수 있어, 불소화합물의 공업적 제조에 유효하다.

Claims (7)

  1. 하기 일반식(1);
    (식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로, 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있음)로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 일반식(2);
    (식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 식(3);
    으로 표시되는 트리플루오로아세트산 2-플루오로-1,3-디메틸이미다졸리늄인 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 하기 일반식(1);
    (식중, R1내지 R4는 치환 또는 무치환의 포화 또는 불포화 알킬기 또는 치환 또는 무치환 아릴기로 서로 동일 또는 상이해도 되며, R1과 R2또는 R3과 R4는 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R1과 R3은 결합해서 질소원자 또는 질소원자와 다른 헤테로원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있음)로 표시되는 화합물의 제조방법에 있어서,
    하기 일반식(4);
    (식중, R1내지 R4는 상기와 동일하며, 불소원자중의 하나는 음이온으로서 이온쌍을 형성할 수 있음)로 표시되는 화합물을 트리플루오로아세트산의 알칼리금속염과 반응시키는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 일반식(2);
    (식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 하기 일반식(4-1);
    (식중, a는 2 또는 3의 정수임)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법.
  6. 제 4항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 식(3);
    으로 표시되는 화합물이고, 상기 일반식(4)로 표시되는 화합물은, 하기 식(4-2);
    로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법.
  7. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 기재된 트리플루오로아세톡실화제.
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