JPS6326095B2 - - Google Patents

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JPS6326095B2
JPS6326095B2 JP52042475A JP4247577A JPS6326095B2 JP S6326095 B2 JPS6326095 B2 JP S6326095B2 JP 52042475 A JP52042475 A JP 52042475A JP 4247577 A JP4247577 A JP 4247577A JP S6326095 B2 JPS6326095 B2 JP S6326095B2
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JP
Japan
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dihydroxy
trifluoroacetophenone
carbon atoms
hydrogen atom
Prior art date
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JP52042475A
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English (en)
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Burikuru Rorufu
Eeberuharuto Hansu
Rikaruto Aperu Karuru
Refunaa Ue
Meruku Warutaa
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RORUFU BURIRIKURU
Original Assignee
RORUFU BURIRIKURU
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式、 で示される新規な置換フルオルアシルレゾルシ
ン、それらの製造方法並びにこれらの活性成分を
含有する薬品、化粧品および殺虫剤に関するもの
である。 上記式において、 R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ素化
アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
もよく、水素原子、２〜10個の炭素原子を有する
直鎖または分枝鎖アルキル基または２〜18個の炭
素原子を有する脂肪族アシル基を表わし；そして R3およびR5は相互に同一または異なつていて
もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ、ｐ−トルエンスルホ
ニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロヘキシ
ル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル或いはメ
チルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中、Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2
−または−Ｓ−を表わすかまたはＧは基−CH2−
または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わす
のどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義の
とおりである）の基を表わすか、或いはまたR3
はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシアノ基
を表わすことができ、そしてR5はメチル基を表
わすことができる；さらにまた基R3およびR5の
一方が水素原子以外のここにあげた意味を有する
場合、またはR1がトリフルオルメチル基以外の
上記意味を有する場合、またはR2およびR4が水
素原子またはメチル基以外の上記意味を有する場
合には、基R3およびR5の他方はまた水素原子ま
たはエチル基を表わすことができる。 式の置換フルオルアシルレゾルシンは次のよ
うにして製造できる： (a) 一般式、 （式中R2ないしR5は前記定義のとおりである）
で示されるレゾルシンまたはその誘導体を、一
般式 R1−COY （） （式中R1は上記の意味を有し、そしてＹはヒ
ドロキシ、アミノ、アシルオキシ或はアルコキ
シ基またはハロゲン原子を表わす）のカルボン
酸またはその反応性誘導体を用い、フリーデル
−クラフツ−触媒および溶媒の存在下に−80℃
ないし溶媒の沸とう温度の温度、しかし好まし
くは室温でアシル化することによる。 適当な溶媒は脂肪族炭化水素、二硫化炭素、
さらにハロゲン化された、特にクロル化された
脂肪族炭化水素、エーテル、芳香族炭化水素、
たとえばベンゼン、トルエン、クロルベンゼ
ン、ジクロルベンゼン、を包含し、またオキシ
塩化リン、ポリリン酸、リン酸、硫酸のごとき
無機溶媒を包含する。 触媒としては、無水塩化アルミニウム、塩化
（）鉄、塩化亜鉛、三フツ化ホウ素またはそ
のエーテレート、塩化（）錫、アンチモン−
三ハロゲン化物および−五ハロゲン化物、リン
−三ハロゲン化物または−五ハロゲン化物、五
酸化リンのごときルイス酸、或は塩酸、フツ化
水素酸、硫酸、ポリリン酸またはクロルスルホ
ン酸のごとき無機酸、或はまたｐ−トルエンス
ルホン酸のごとき強有機酸が適当であることが
立証された。 (b) 一般式、 （式中R2ないしR5は上記定義のとおりである）
のレゾルシンまたはその誘導体を一般式、 R1−CN （） （式中R1は上記定義のとおりである）の過フ
ルオルカルボン酸ニトリルとホツシユ
（Ho¨sch）によるケトン合成の条件下に反応さ
せる。 この反応は触媒としてルイス酸および有機溶
媒の存在下に−80℃ないし溶媒の沸とう温度の
温度、好ましくは−20ないし＋80℃で行なう。 ルイス酸としては、たとえば無水塩化アルミ
ニウム、塩化亜鉛（特に塩酸の存在下に）、さ
らに塩化（）鉄および塩化（）錫、四塩化
チタニウム、三塩化クロム、三フツ化ホウ素、
ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸、ポリリン酸
またはフツ化水素酸が適当であることが立証さ
れた。溶媒としては、たとえばエーテル、クロ
ルベンゼン、ニトロベンゼンまたはキシレンお
よびオキシ塩化リンを考慮することができる。 (c) R2および（または）R4が水素原子を表わす
式の化合物を製造する場合に、一般式 〔式中R3およびR5は前記定義のとおりであり、
Ｅは基−Ｏ−COR1を表わしそしてＤは基OR4
を表わすか、或いはＥは基−OR2を表わしそし
てＤは基−Ｏ−COR1を表わすか、或いは場合
により基ＤおよびＥは共に基−Ｏ−COR1を表
わす（但しこれらの場合における基R1、R2お
よびR4は上記定義のとおりである）〕の過フル
オルアシルレゾルシンを転位させる。 この反応は触媒としてルイス酸の存在下に０
ないし150℃の温度で、任意に溶媒の存在下に
行なうことが好ましい。 ルイス酸としては、たとえば無水塩化亜鉛、
無水塩化アルミニウム、ハロゲン化水素酸の存
在下の塩化亜鉛、さらにまた塩化（）鉄およ
び塩化（）錫が適当であることが立証され
た。溶媒としては、たとえばエーテルまたはク
ロルベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、ジ
クロルベンゼン或はキシレンのごとき芳香族炭
化水素およびオキシ塩化リンを考慮できる。 (d) R3および（または）R5がハロゲン原子、ニ
トロ基またはｐ−トルエンスルホニル基を表わ
す式の化合物を製造する場合に、一般式、 （式中R1、R2およびR4は前記定義のとおりで
あり、Ａおよび（または）Ｂは水素原子を表わ
し、 これらの基の他の一方は任意にR3またはR5
の意味を有する）の過フルオルアシルレゾルシ
ンを一般式、 R7Z （） （式中R7はハロゲン原子、ニトロ基またはス
ルホニル基を表わし、そしてＺはハロゲン原子
またはヒドロキシ基を表わす）の化合物と反応
させる。 この反応は適当な溶媒中で−20ないし150℃
の温度で行なう。溶媒としては、ハロゲンとの
反応（R7およびＺがハロゲンである）の場合
には特にジエチルエーテルまたはジオキサンの
ごときエーテル、または氷酢酸が適当であるこ
とが立証され；硝酸および硫酸との反応の場合
には、この酸またはそれらの混合物が溶媒とし
て同時に作用しうる。 (e) R3および（または）R5が３ないし18個の炭
素原子を有するアルキル基を表わす式の化合
物を製造する場合に、R1、R2およびR4が上記
定義のとおりであり、Ａおよび（または）Ｂは
水素原子を表わし、そしてこの基のもう１方は
任意にR3またはR5の意味を有することができ
る一般式の過フルオルアシルレゾルシンを不
飽和脂肪族炭化水素および３ないし18個の炭素
原子を有する第２級アルコールと反応させる。
このアルキル化はリン酸、ポリリン酸、硫酸、
氷酢酸、オキシ塩化リンのごとき酸または無水
塩化アルミニウム、塩化（）鉄、塩化（）
錫、五酸化リン、塩化亜鉛、五塩化リンのごと
きルイス酸のどちらかの存在下に、エーテル、
クロルベンゼン、ニトロベンゼン、オキシ塩化
リンのごとき溶媒中30ないし150℃の温度で行
なう。 (f) R3が式 の基を表わし且つR5が上記定義のとおりであ
るか、またはR5が式 の基を表わし且つR3が上記意味を有する一式
の化合物を製造する場合に、ａ式、 （式中Ｋが基R5を表わし且つＬが水素原子を
表わすか、またはＬが基R3を表わし且つＫが
水素原子を表わすのどちらかであり、そして
R1、R2およびR4は上記定義のとおりである）
の化合物２モルをホルムアルデヒド１モルと縮
合させる。この縮合は酸を添加し、その後室温
に放置するか、或は任意に不活性溶媒中に入れ
た反応相手の溶液を溶媒の沸点までの温度で加
熱することにより生起する。 前記諸方法に従い得られたR2および（または）
R4が水素を表わす一般式の化合物は所望によ
り、エーテル化（たとえばアルキルハロゲン化物
による）またはエステル化（たとえば酸ハロゲン
化物または酸無水物を用いる）により、R2およ
び（または）R4が前記した残りの意味を有する
式の化合物に続いて変換しうる。 式の原料化合物は一般に文献から公知である
か、または文献から公知の方法、たとえば一般式
の公知化合物を一般式、 R5′−COY （） の化合物でアシル化することにより製造できる
（但し上記２式中Ｙは上記定義のとおりであり、
R5′はR5に関して上記された場合により置換され
たアルキル基の意味を有し、而して−CH2−基に
より短縮されている）。形成されたアシル化合物
を次に水素により接触的に還元して、５−位がア
ルキル化されている式の対応する化合物を得
る。一方、R5がハロゲン原子を表わす式の原
料化合物は式の化合物のハロゲン化により得る
ことができる。 R3がアルキル基を表わす場合に式および
式の化合物はまた一般式 （式中R5は上記定義のとおりであり、そしてR8
はアルキル基を表わす）の公知化合物から、式
R3′−MgHal（式中R3′はR3について定義されてい
るアルキル基に比べて−CH2−基により短縮され
ているアルキル基を表わす）の脂肪族グリニヤー
ル−化合物との反応により得ることができる。次
に、加水分解により３位に脂肪族アシル基を有す
る対応する化合物を遊離させ、基R8を無水塩化
アルミニウムにより任意に離脱させ、また脂肪族
アシル基をアルキル基の意味を有する基R3に還
元する。R2およびR4が水素原子を表わす式の
化合物が望まれる場合には、一般式XI、 （式中R5は上記定義のとおりである）の対応し
て置換された４−メチル−７−ヒドロキシ−クマ
リンを式R3′−COX（式中R3′およびＸは上記の意
味を有する）のカルボン酸またはその誘導体でエ
ステル化し、一般式XII、 の化合物を生成し、次にこのXII式の化合物を無水
塩化アルミニウムにより一般式 の対応する化合物に転位させ、次に水酸化ナトリ
ウム溶液と加熱し、次いで硫酸で加水分解して、
一般式 のケトンを形成し、次いでたとえばアマルガム化
された亜鉛および塩酸を用いて式の化合物に接
触的に還元する〔オルガニツク シンテシス コ
ル．（Organic Synthesis Coll.）３巻281ff参照〕。
かくして得られた化合物は所望により、次いでた
とえばエーテル化またはエステル化によりR2お
よびR4が残りの意味を有する式の対応する化
合物に変換しうる。 ＤまたはＥが基−Ｏ−COR1を表わす一般式
の原料化合物はＤまたはＥがヒドロキシ基を表わ
す対応する化合物のエステル化による公知方法に
より得られる。 式およびａ式の原料化合物は、たとえばプ
ロセス１に従い式の化合物からのアシル化によ
り得られる。 本発明により式の化合物が有用な薬理学的性
質および（または）殺虫性を有することが驚くべ
きことに見出された：特に、これらの化合物は細
菌、糸状菌（dermatophytes）、酵母、カビおよ
び植物病理性カビ（Phytopathogenic fungi）に
対し活性である；これらの化合物は炭水化物代謝
の主要酵素に対しおよび細胞培養物に対し抑制作
用を有し、かくして皮膚の中および上の有糸核分
裂（mitosis）の促進された進行を遅延させる。
従つて、本発明による化合物は皮膚の角化症、〓
瘡、頭垢、細菌性皮膚病、糸状菌病、乾癬、魚鱗
癬の処置に対し、植物培養における立枯れ病と戦
うために、並びに除草剤用、たとえば野生のから
す麦に対する除草用途に適している。式の種々
の化合物はまた駆虫作用を有する。 例として、下記の公知化合物（ＡないしＤ）と
下記の新規化合物（ＥないしＺ）とを細菌および
カビに対する、細胞培養物に対する、および酵素
活性に対するそれらの抑制作用を比較する試験を
行なつた： Ａ＝２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン Ｂ＝５−エチル−２，４−ジヒドロキシ−トリフ
ルオルアセトフエノン Ｃ＝３−エチル−２，４−ジヒドロキシ−トリフ
ルオルアセトフエノン Ｄ＝２，４−ジメトキシ−トリフルオルアセトフ
エノン Ｅ＝２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−
トリフルオルアセトフエノン Ｆ＝２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−ト
リフルオルアセトフエノン Ｇ＝２，４−ジヒドロキシ−５−イソペンチル−
トリフルオルアセトフエノン Ｈ＝２，４−ジヒドロキシ−３−（4′−メチル）−
シクロヘキシル−トリフルオルアセトフエノン Ｉ＝２，４−ジヒドロキシ−５−（3′，5′−ジメ
チル）−シクロヘキシル−トリフルオルアセト
フエノン Ｊ＝２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ノニル−ト
リフルオルアセトフエノン Ｋ＝２，４−ジヒドロキシ−３−イソヘキシル−
トリフルオルアセトフエノン Ｌ＝２，４−ジヒドロキシ−３−シクロドデシル
−トリフルオルアセトフエノン Ｍ＝２，４−ジヒドロキシ−３−イソデシル−ト
リフルオルアセトフエノン Ｎ＝２，４−ジヒドロキシ−３−シクロペンチル
−トリフルオルアセトフエノン Ｏ＝２，４−ジヒドロキシ−３−シクロヘプチル
−トリフルオルアセトフエノン Ｐ＝２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−
トリフルオルアセトフエノン Ｑ＝メチレン−ビス−（２，６−ジヒドロキシ−
３−イソプロピル−５−トリフルオルアセチ
ル）−ベンゼン Ｒ＝メチレン−ビス−（２，６−ジヒドロキシ−
３−エチル−５−トリフルオルアセチル）−ベ
ンゼン Ｓ＝メチレン−ビス−（２，４−ジヒドロキシ−
３−メチル−５−トリフルオルアセチル）−ベ
ンゼン Ｔ＝２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフ
ルオルアセトフエノン Ｖ＝２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−ペンタ
フルオロプロピオフエノン Ｗ＝２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−デシル−ト
リフルオルアセトフエノン Ｘ＝２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−ペンチル−
トリフルオルアセトフエノン Ｙ＝２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−プロピル−
トリフルオルアセトフエノン 細菌およびカビに対する抑制作用は連続稀釈試
験および寒天稀釈試験（ホール−試験）に従い評
価した。細菌としては、スタフイロコカス アウ
レウス（StaPhylococcus aureus）SG511、スト
レプトコカス アロンソン（Streptcoccus
Aronson）、ストレプトコカス パイオゲンス
（Pyogenes）ATCC8668を使用し；カビとして
は、カンジダ アルビカンス（Candida
albicans）AT CC10231、トリコフイトン メン
タグロフイテス（Trichophyton
mentagrophytes）AT CC9129およびアスペルギ
ラスニゲル（Aspergillus niger）を使用した。 連続稀釈試験 栄養培地 １ 肉エキスブロス：スタフイロコカス アウレ
ウスSG511に対する。 組成：ペプトン 10ｇ 肉エキス ８ｇ 塩化ナトリウム ３ｇ 第２リン酸ナトリウム（Na2HPO4） ２ｇ 蒸留水 全量を1000mlにする量（PH7.2〜7.4） 殺菌：オートクレーブ中120℃で15分間。 ２ グルコース ブロス：ストレプトコカス ア
ロンソンおよびストレプトコカスパイオゲンス
に対する。 組成は肉エキスブロスを参照せよ。殺菌後に
減菌50％溶液として、グルコース１重量％を加
える。 ３ サブロー氏ブロス（Sabouraud broth）：カ
ンジダ アルビカンス、トリコフイトン メン
タグロフイテスおよびアスペルギラスニゲルに
対する。 組成：カゼインのペプトン 10ｇ グルコース 40ｇ 塩化ナトリウム １ｇ 第２リン酸ナトリウム（Na2HPO4） １ｇ 殺菌：120℃で15分間；PHは調整しない。 微生物の濃度の標準化 主培地の熟成（age）は細菌用では24時間であ
り、カビ用では14日間である。微生物懸濁液の標
準化はエツペンドルフ（Eppendorf）による光度
計（φ14mm、フイルター546mm試験管）および硫
酸バリウムよりなる比較用懸濁液を用いて行な
う、この比較用懸濁液は１％硫酸97mlに１％塩化
バリウム溶液3.0mlを加えることにより製造する。
この標準化の後、細菌は塩化ナトリウム溶液によ
り１：1000の濃度をさらに稀釈し、カビは非稀釈
状態で用いた。 化合物濃度の調製 化合物40mgを10ml測量用フラスコ中に入れ、溶
媒で印の位置まで満たす（１：250＝4000μｇ／
mlの稀釈に相当する）。さらに稀釈した一連の被
検物を蒸留水でまたは溶媒で標準化する。次の化
合物濃度を生成した：1000；250；62.5μｇ／ml。 試験の実施 試験管に相当する液状栄養媒質4.9mlを満たす。
次に、上記のごとく生成した化合物稀釈液0.1ml
を各試験管に加え、記載の最終濃度が存在するよ
うにした。最後に、各試験管で微生物の標準化懸
濁液0.1mlを培養する。単に溶媒を使用する対照
試験を同時に行なう。 培 養 細菌は37℃で18〜20時間、カビは27℃で７日間
培養する。 評 価 測定は最少阻止濃度（最低の微生物静学的有効
濃度）を顕微鏡で限界を定めて行なう。 寒天拡散試験 栄養媒質 １ 肉エキス寒天：St.アウレウスSG511に対す
る。 組成：ペプトン 10ｇ 肉エキス ８ｇ 塩化ナトリウム ３ｇ 第２リン酸ナトリウム（Na2HPO4） ２ｇ プロナガール（Pronagar） 15ｇ 蒸留水 全量を1000mlにする量（PH7.2〜7.4） 殺菌：オートクレーブ中120℃で15分間。 ２ グルコース寒天：Sc.アロンソンおよびSt.パ
イオゲンスに対する。 組成は肉エキス寒天を参照。殺菌後に、減菌
50％溶液としてグルコース１重量％を加える。 ３ サブロード氏寒天：C.アルビカンス、トリコ
フイトン メンタグロフイテス、A.ニゲルに
対する。 組成：カゼインのペプトン 10ｇ グルコース 40ｇ 塩化ナトリウム １ｇ 第２リン酸ナトリウム（Na2HPO4） １ｇ プロナガール 15ｇ 蒸留水 全量を1000mlにする量 減菌：120℃で５〜10分間、PHは調整しない。 微生物の濃度の標準化 主培地の熟成は細菌用では24時間であり、カビ
用では14日間である。微生物の懸濁液の標準化は
エツペンドルフによる光度計（試験管φ14mm、フ
イルター546mm）および硫酸バリウムよりなる比
較用懸濁液を用いて行なう、この比較用懸濁液は
１％硫酸97mlに１％塩化バリウム溶液3.0mlを加
えることにより生成する。 標準化の後に、塩化ナトリウム溶液によりSt.
アウレウスSG511を１：1000に、およびSc.パイ
オゲネスとアロンソンは１：100に稀釈した。 化合物濃度の調製 化合物40mgを10ml測量用フラスコに入れ、溶媒
を印の位置まで満たす（１：250＝4000μｇ／ml
の稀釈に相当する）。被検濃度への稀釈は蒸留水
または溶媒で行なう。 試験の実施 栄養媒質19mlを８cm直径の乾燥させた減菌ペト
リ皿に満たす。次に寒天板に接種寒天４mlを仕込
む。接種寒天100mlは微生物の懸濁液1.25mlを含
有し、従つて寒天板は微生物の懸濁液0.05mlを含
有する。寒天を固化した後、直径５mmの穴５個を
この板にあけ、化合物の相応する濃縮溶液0.05ml
を満たす。単に溶媒だけを用いる対照試験を同時
に行なう。 培 養 細菌は37℃で18〜20時間、カビは27℃で７日間
培養する。 評 価 阻止領域の直径を穴の直径を差し引いて測定し
た。生育のない帯域の代りに、極く顕著に減低し
た生育が生起した場合には、これらの価はカツコ
内に示した。 コリネバクテリウム アクネス
（Corynebacterium acnes）およびピチロスポリ
ウム オバル（Pityrosporum ovale）に対する
連続稀釈試験 栄養媒質 コリネバクテリウム アクネス用：チオグリコ
レート−ブロス ピチロスポリウム オバル用：
リツトマン（Littmann）のブロス５ml／試験管。 微生物の濃度 0.9％塩化ナトリウム溶液中に入れた微生物懸
濁液をエツペンドルフによる光度計を使用し、対
照用には硫酸バリウムよりなる懸濁液、コリネバ
クテリウム アクネス用には１：100の稀釈度で、
またピチロスポリウム オバル用には非稀釈状態
で標準化した。各試験管当り0.1mlの懸濁液を使
用した。ジメチル スルホキシドは化合物の溶媒
として働く。 コリネバクテリウム アクネスの懸濁液は37℃
で48時間、ピチロスポリウム オバルの懸濁液は
27℃で７日間培養した。読みは微生物の生育の顕
微鏡評価および最少阻止濃度の記録により行なつ
た。 ピチロスポリウム オバルCBS1878に関する寒
天拡散試験 栄養媒質 リツトマンの寒天、23ml／ペトリ皿、皿の直径
100mm。 微生物の濃度 0.9％塩化ナトリウム溶液中に入れた微生物の
懸濁液をエツペンドルフによる光度計を使用し、
比較用の硫酸バリウムよりなる懸濁液で標準化
し、これを各板当り0.05ml使用した。被検物質を
ジメチル スルホキシド中に溶解させた。培養時
間は27℃で７日間であり；阻止領域をmmで測定し
た；直径６mmの各パンチ−ホールに対し被検物質
の溶液0.05mlを使用した。これらの試験結果を次
の表１および２に記録する；
【表】
【表】 グルコース−６−ホスフアトデヒドロゲナーゼの
抑制の測定 平衡を観察した： グルコース−６−ホスフエート＋NADP ＋G6P−DH ――――→ グルコン酸−６−ホスフエート＋
NADPH＋H+ （NADP＝ニコチンアミド−アデニン−ジヌク
レオチツド−ホスフエート、 G6P−DH＝グルコン酸−６−ホスフエート−
デヒドロゲナーゼ）。 NADPHの形成速度を酵素活性に関し測定し
た；時間単位当り340、334または366nｍで消減
増加により測定しうる。 方 法 グルコース−６−ホスフアト−デヒドロゲナー
ゼ（ベーリンガーマンハイム）0.025mlを蒸留水
で10mlに増量する（溶液）。ニコチンアミド−
アデニン−ジヌクレオチツド−ホスフエート100
mgを蒸留水13mlに溶解する（溶液）。グルコー
ス−６−ホスフエート47.2mgを別の蒸留水10mlに
溶解する（溶液）。同時に、緩衝液（溶液）
を次のとおりにして製造する： トリエタノールアミン−塩酸塩0.28ｇとエチレ
ン−ジアミノテトラ酢酸−ジナトリウム塩1.461
ｇとを蒸留水１に溶解し、水酸化ナトリウム溶
液で7.6のPHに調整する。被検物質をジメチルホ
ルムアミドまたはエタノールに溶解する（溶液
）。 被検濃度：50；25；12.5；6.25；3.125；1.56およ
び0.78μｇ／ml。 直接抑制の測定 溶液0.1ml、溶液0.1ml、溶液2.67mlおよ
び溶液0.03mlを混合し、25℃で５分間保持す
る。次に、溶液0.1mlを加え、混合し、消減の
変化を３分間366nｍでスペクトル光度計により
測定する。 ３回の測定値（消減の変化／分）の平均値を対
照と比較して抑制値を算出する。対照は抑制溶液
として純粋溶媒を用いる。次に、リードおよびム
ンク（Reed and Muench）に従い、種々の濃度
における抑制値から、ED50を算出する。次表に
この結果を示す：
【表】
【表】 細胞培養物の抑制の測定 方 法 ヘラ−細胞培養物（HeLa−cell culture）を
トリプシンで処理し、新鮮な媒質で150000細胞／
mlの細胞数に調整する。化合物は常に同量のジメ
チル スルホキシドに溶解し、次に生育媒質でさ
らに稀釈する。ミクロ滴定板の各壁にこの化合物
稀釈液0.1mlを加え、次に細胞懸濁液0.2mlを加え
る（４壁／１稀釈液）。化合物稀釈液0.1mlの代り
に、生育媒質0.1mlを含有する若干の生育対照物
を作る。注意深く混合した後に、この培養物を５
％二酸化炭素雰囲気中37℃で３日間培養する。こ
れらの対照と比較して読み取る。この結果を生育
対照物に対する不足および退化のパーセンテージ
として得る。最少抑制濃度はこれらの結果から測
定し、またED50をリードおよびムンクに従い算
出する。総媒質ml当りの化合物μｇを用いて記録
した。この結果を次表に示す：
【表】
【表】 記載した化合物は化学的に安定であり、良好な
親脂性挙動（分配−共働作用ｎ−オクタノール／
水＞1000）を示し、且つ局所適用に適した軟膏、
クリーム、チンキ剤、スプレー剤、粉末等に良好
に混和できる。 皮膚に対する良好な適合性（化合物E10％を含
有するクリームは閉塞下に24時間にわたり刺戟す
ることなく耐える）および低毒性は特別の利点で
ある。 急性毒性はマウスで測定した。14日間以内に動
物の50％を死に致らしめる薬用量を算出した。 マウスにおけるLD50 化合物Ｅ 経口投与（p.o.） ＞3200mg／Kg 肩胛内投与（s.c.） ＞4000mg／Kg 腹腔内投与（i.p.） 82mg／Kg 化合物Ｑ 経口投与 ＞4000mg／Kg 肩胛内投与 ＞2000mg／Kg 腹腔内投与 400mg／Kg 基本的体器管、たとえば心臓／循環系または中
枢神経系に対する作用を示す化合物の一般的薬理
学的スクリーニングにおいて、顕著な作用は示さ
れなかつた。従つて、全身的副作用は局所適用に
より予想されない。 極性基が同時に存在して、良好な親脂性挙動を
有するために、本発明の化合物は皮膚中に浸透す
るが、排せつ物の分析により立証できるように、
これらの化合物は小範囲にだけ再吸収される。 モルモツトで行なつた皮膚に対する適合性およ
び過敏性の測定はトリフルオルアセチル基の導入
により或る種のレゾルシンの弱い過敏性が消失す
ることを示した。ヘキシルレゾルシノールのごと
きレゾルシンのいくつかの場合に、人にアレルギ
ーを起させるものがあり、従つてこれは顕著な利
点である。 現在、〓瘡（acne）の効果的な治療は全身的
に強い抗生物質（テトラサイクリン、エリスロマ
イシン）を用い、そして局所的にビタミン−Ａ−
酸および過酸化ベンゾイルのごとき剥皮剤
（peeling agents）を用いることによつてのみ可
能である。生命を決して危くしない疾病に抗生物
質を投与することは主として耐性の発生の故に問
題があり、剥皮剤の適用は皮膚の著しい刺戟を予
期せねばならない。 抗生物質で〓瘡を治療する場合に、〓瘡に対し
重要なグラム陽性細菌、上記の全てのコリネバク
テリウム アクネスは減少し、これらの細菌によ
りトリグリセリドから離脱する皮脂中の遊離脂肪
酸の含有量の減少を導く。 表１が示しているように、前記化合物はコリネ
バクテリウム アクネスに対し強い活性を有す
る。さらに、局所適用後に遊離脂肪酸の含有量の
顕著な減少が可能になることを示すことができ
る。従つて、局所適用は抗生物質による経口治療
によるその効果に匹敵しうることができる。 頭垢形成の正確な原因は現在まで知られていな
い。しかしながら、角化症が頭垢とともに見出さ
れることがある、すなわち表皮の有糸核分裂が促
進され；さらに角化が妨害される。幾人かの著者
の説明、たとえばアール．エイ．ゴース（R.A.
Gosse）、アール．ダブリユー．バンデルウイツ
ク（R.W.Vander Wyck）のジエイ．ソシ．コス
メツト．ケミ．（J.Soc.Cosmet.Chem.）、20、603
（1969）によれば、酵母菌ピチロスポリウム オ
ーバルは頭垢の発生に対し役割を演ずる。 表２は上記化合物のいくつかがピチロスポリウ
ム オーバルに対し強力な効果を有することを示
している。 表３および４では、これらのおよびその他の化
合物が促進された有糸核分裂の進行を遅延させう
ることを見ることができる。従つて、頭垢症の治
療が表２、３および４で良好な活性を示す化合物
の使用により可能になる。 現在、乾癬の効果的な治療はジテラノール、タ
ール製剤および高活性コルチコイドの局所適用お
よびメトテレキセート、コルチコステロイドおよ
びサイトスタテイツクス（cytostatics）のごと
き抗代謝物の全身的適用によつてのみ可能であ
る。さらに、紫外線、Ｘ線およびプソラレン（全
身的および局所適用）と紫外線との組み合せによ
る物理療法を用いる。これらの全ての処置方法は
間接的であるか、または顕著な副作用を伴なうか
のどちらかである。従つて、単純で有効な局所的
治療が有利である。表３および４は上記化合物の
いくつかを乾癬の治療に使用しうることを示して
いる。 皮膚の糸状菌病は一層繁発するようになつてい
る。しばしば刺戟を起させる或る種の微生物を決
定することが出来ないために、皮膚寄生菌（糸状
菌）、酵母菌および細菌に対し広い抗糸状菌スペ
クトルを有する薬剤の適用が特に有利である。 表１および２は前記化合物がこれらの微生物に
対して強い活性を有し、従つて糸状菌および細菌
性皮膚疾患の治療に使用できることを示してい
る。 次例は本発明を例示するものである。 例 １ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン ４−ｎ−ヘキシルレゾルシン194ｇ（１モル）
を塩化エチレン３中に懸濁する。約20℃で撹拌
しながら塩化アルミニウム300ｇ（２モル）を少
量づつ加え、次に無水トリフルオル酢酸260ｇ
（1.2モル）を15〜20℃で（約1.5時間にわたり）
混合物を氷水で冷却しつつ滴下して加える。さら
に３時間撹拌した後、反応混合物を１〜２日間放
置する。混合物を撹拌しながら（温度が25℃以上
に上昇しないように外部から冷却しつつ）氷約
2.5Kg上に注ぎ入れて分解させる。有機相を分離
採取し、水相を塩化エチレン500mlで３回洗う。
有機相全部を水１で洗い、塩化カルシウム上で
乾燥させる。蒸発後に残存する残留物をヘプタン
または石油エーテルから再結晶させる。融点：90
℃。収量：246ｇ（理論量の85％）。同様にして、
次の化合物を製造する： (a) ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフ
ルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−メチルレゾルシンから
製造する。融点：101℃、収率：理論量の90％。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−プロピル−
トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−プロピルレゾルシ
ンから製造する。融点：95℃、収率：理論量の
87％。 (c) ２，４−ジヒドロキシ−５−イソプロピル−
トリフルオルアセトフエノン クロロホルム中で４−イソプロピルレゾルシ
ンから製造する。融点：97℃、収率：理論量の
70％。 (d) ２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−プロピル−
トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−ｎ−プロピルレゾルシ
ンから製造する。融点：114℃、収率：理論量
の88％。 (e) ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−
トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−イソプロピルレゾルシ
ンから。融点：145℃、収率：85％。 (f) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ブチル−ト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−ブチルレゾルシン
から。融点：96℃、収率：82％。 (g) ２，４−ジヒドロキシ−５−イソブチル−ト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−イソブチルレゾルシン
から。融点：90℃、収率：84％。 (h) ２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−ト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−イソブチルレゾルシン
から。融点：114℃、収率：78％。 (i) ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−ト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−第３ブチルレゾルシン
から。融点：159℃、収率：80％。 (j) ２，４−ジヒドロキシ−５−（２−メチル）−
ｎ−プロピル−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−（２−メチル）−ｎ−プ
ロピルレゾルシンから。融点：90℃、収率：78
％。 (k) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ペンチルト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−ペンチルレゾルシ
ンから。融点：97℃、収率：86％。 (l) ２，４−ジヒドロキシ−５−シクロペンチル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−シクロペンチルレゾル
シンから。融点：94℃、収率：75％。 (m) ２，４−ジヒドロキシ−３−イソペンチル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−イソペンチルレゾルシ
ンから。融点：101℃、収率：84％。 (n) ２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−ペンチル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−ｎ−ペンチルレゾルシ
ンから。融点：105℃、収率：87％。 (o) ２，４−ジヒドロキシ−５−シクロヘキシ
ル−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−シクロヘキシルレゾル
シンから。融点：80℃、収率：78％。 (p) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘプチル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−ヘプチルレゾルシ
ンから。融点：85℃、収率：79％。 (q) ２，４−ジヒドロキシ−５−ベンジル−ト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ベンジルレゾルシンか
ら。融点：114℃、収率：80％。 (r) ２，４−ジヒドロキシ−３−（４−メチル）
−シクロヘキシル−トリフルオルアセトフエノ
ン 塩化エチレン中で２−（４−メチル）−シクロ
ヘキシル−レゾルシンから。融点：143℃、収
率：76％。 (s) ２，４−ジヒドロキシ−５−（３，５−ジメ
チル）−シクロヘキシル−トリフルオルアセト
フエノン 塩化エチレン中で４−（３，５−ジメチル）−
シクロヘキシルレゾルシンから。融点：126℃、
収率：79％。 (t) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ノニル−
トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−ノニルレゾルシン
から。融点：87℃、収率：85％。 (u) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ドデシル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−ドデシルレゾルシ
ンから。融点：92℃、収率：84％。 (v) ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリ
フルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−クロルレゾルシンか
ら。融点：110℃、収率：90％。 (w) ２，４−ジヒドロキシ−５−ブロモ−トリ
フルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ブロモレゾルシンか
ら。融点：81℃、収率：88％。 (x) ２，３，４−トリヒドロキシトリフルオル
アセトフエノン ピロガロールから。融点：134℃、収率：75
％。 (y) ２，４−ジヒドロキシ−３−メトキシ−ト
リフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−メトキシ−レゾルシン
から。融点：79℃、収率：78％。 (aa) ２，４−ジヒドロキシ−５−メチルチオ−
トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−メチルチオ−レゾル
シンから。融点：57℃、収率：68％。 (bb) ２，３，４−トリヒドロキシ−５−シクロ
ヘキシル−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−シクロヘキシル−ピ
ロガロールから。融点：128℃、収率：78％。 (cc) ２，３，４−トリヒドロキシ−５−エチル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−エチル−ピロガロー
ルから。融点：82℃、収率：80％。 (dd) ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−トリ
フルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２−クロル−レゾルシン
から。融点：113℃、収率：理論量の83％。 (ee) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−オクチル
−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で４−ｎ−オクチル−レゾ
ルシンから。融点：87℃、収率：理論量の74
％。 (ff) ２，４−ジヒドロキシ−３−シアノ−トリ
フルオルアセトフエノン 塩化エチレン中で２，６−ジヒドロキシベ
ンゾニトリルから。融点：210℃、収率：理
論量の62％。 (gg) ２，2′，４，4′−テトラヒドロキシ−５，
5′−ジトリフルオルアセチル−ジフエニルサ
ルフアイド 塩化エチレン中で２，2′，４，4′−テトラ
ヒドロキシ−ジフエニルサルフアイドから。
融点：172℃、収率：理論量の10％。 例 ２ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１と同様に、４−ｎ−ヘキシルレゾルシン
19.4ｇを塩化エチレン300mlに懸濁し、次に塩化
亜鉛27.2ｇを加える。次いで、無水三フツ化酢酸
25ｇを15〜20℃で滴下して加え、１〜２日間後に
混合物を例１と同様に処理する。 収量：25.5ｇ（理論量の87％）。 例 ３ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１と同様に、４−ｎ−ヘキシルレゾルシン
19.4ｇを塩化エチレン300ml中に懸濁し、塩化
（）鉄32.4ｇを加える。次いで、無水三フツ化
酢酸25ｇを15〜20℃で滴下して加え、混合物を次
に例１と同様に処理する。 収量：19.7ｇ（理論量の68％）。 例 ４ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１と同様に、４−ｎ−ヘキシルレゾルシン
19.4ｇを塩化エチレン300ml中に懸濁し、ｐ−ト
ルエンスルホン酸５ｇを加える。次いで、無水三
フツ化酢酸25ｇを15〜20℃で滴下して加え、混合
物を例１と同様に処理する。 収量：7.6ｇ（理論量の22％）。 例 ５ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１と同様に、４−ｎ−ヘキシルレゾルシン
19.4ｇを塩化エチレン300mlに懸濁し、三フツ化
ホウ素エーテレート15ｇを加える。次いで、無水
三フツ化酢酸25ｇを15〜20℃で滴下して加え、次
に混合物を例１と同様に処理する。 収量：17ｇ（理論量の60％）。 例 ６ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１と同様に、トルエン150ml中に入れた４−
ｎ−ヘキシルレゾルシン19.4ｇを次表に記載した
触媒と混合し、次に無水三フツ化酢酸25ｇを滴下
して加え、反応混合物を１〜２日後に処理する。
得られた収率をまた次表に示す：
【表】
【表】 例 ７ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 溶媒としてニトロベンゼン100ml中で次表に記
載した触媒を使用し、例１ないし４と同様に反応
を行なつた。次の結果を得た：
【表】 例 ８ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 溶媒としてオキシ塩化リン100ml中で次表に記
載した触媒を用いて、例１ないし４と同様に反応
を行なつた。次の結果を得た：
【表】 つた。
例 ９ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 溶媒としてエーテル100ml中で次表に記載した
触媒を使用し、例１ないし４と同様に反応を行な
つた。次の結果を得た：
【表】 例 10 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１ないし４と同様に、塩化エチレン300ml中
の４−ｎ−ヘキシル−レゾルシン19.4ｇをｐ−ト
ルエンスルホン酸10ｇの存在下に三フツ化酢酸エ
チル16ｇと10時間還流させる。混合物を例１と同
様に処理する。 融点：90℃、収量7.4ｇ（理論量の25％）。 同様に、同じ化合物を次のとおりにして製造で
きる：アシル化剤として三フツ化酢酸オクチルお
よび触媒として三フツ化ホウ素エーテレートを用
い、５時間還流して、４−ｎ−ヘキシルレゾルシ
ンから製造する。この化合物は触媒としてｐ−ト
ルエンスルホン酸を用い３％の収率で得られる。 例 11 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例１と同様に、塩化アルミニウム30ｇを塩化エ
チレン300ml中の４−ｎ−ヘキシルレゾルシン
19.4ｇに少量づつ加える。次に、トリフルオルア
セチルクロリド（冷却したエーテルに溶解）15ｇ
を水で氷却しながら加える。１〜２日間放置した
後、混合物を例１と同様に処理する。 融点：90℃、収量：26.9ｇ（理論量の92％）。 例 12 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 次の触媒および溶媒の存在下に４−ｎ−ヘキシ
ルレゾルシンとトリフルオルアセチル クロリド
と例１と同様に反応させる。
【表】 例 13 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン ４−ｎ−ヘキシルレゾルシン19.4ｇを塩化エチ
レン300mlに溶解する。次に五塩化リン50ｇを少
量づつ加える。三フツ化酢酸14ｇを添加した後、
混合物を１〜２日間放置し、例１と同様に処理す
る。 融点：90℃、収量：15.6ｇ（理論量の54％）。 触媒として五酸化リンの代りにｐ−トルエンス
ルホン酸を使用した場合には、収率は30％であ
り、三フツ化ホウ素エーテレートを使用した場合
（２時間還流）には収率は40％である。 例 14 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 例12と同様に、アシル化剤として三フツ化酢酸
アミドをおよび触媒として三フツ化ホウ素エーテ
レートを使用し５時間還流することにより４−ｎ
−ヘキシルレゾルシンから２，４−ジヒドロキシ
−５−ｎ−ヘキシル−トリフルオルアセトフエノ
ンを55％の収率で得る。触媒としてｐ−トルエン
スルホン酸を使用した場合にはこの化合物は20％
の収率で得られる。 アシル化剤として三フツ化酢酸プロミルアミド
をおよび触媒として三フツ化ホウ素エーテレート
を使用し５時間還流した後、４−ｎ−ヘキシルレ
ゾルシンから同じ化合物が15％の収率で得られ
る；触媒としてｐ−トルエンスルホン酸を使用し
た場合には、この化合物は約５％の収率で得られ
る。 例 15 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−過
フルオルプロピオフエノン 例１と同様に、ヘキシルレゾルシン1.94ｇを塩
化エチレン30mlと混合し、塩化アルミニウム３ｇ
と過フルオルプロピオ酸無水物3.6ｇとを滴下し
て加える。室温で１〜２日間撹拌した後、混合物
を例１と同様に処理する。 収率：理論量の70％、融点：62℃。 同様にして、次の化合物を製造する： (a) ２，４−ジヒドロキシ−過フルオルプロピオ
フエノン レゾルシンから。 融点：80℃、収率：理論量の72％。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−過フル
オルプロピオフエノン ４−メチルレゾルシンから、 融点：69℃、収率：理論量の76％。 (c) ２，４−ジヒドロキシ−５−メチル−過フル
オルプロピオフエノン ４−メチルレゾルシンから、 融点：140℃、収率：理論量の75％。 (d) ２，３，４−トリヒドロキシ−過フルオルプ
ロピオフエノン ピロガロールから、 融点：105℃、収率：理論量の60％。 例 16 例15と同様にして、過フルオル無水酪酢を用い
て次の化合物を製造する： (a) ２，４−ジヒドロキシ−過フルオルブチロフ
エノン レゾルシンから。 融点：90℃、収率：理論量の66％。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−過フル
オルブチロフエノン ２−メチルレゾルシンから。 融点：75℃、収率：理論量の65％。 (c) ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−
過フルオルブチロフエノン ４−ｎ−ヘキシルレゾルシンから。 融点：57℃、収率：理論量の60％。 例 17 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−過
フルオルプロピオフエノン 塩化エチレン30ml中の４−ｎ−ヘキシルレゾル
シン1.94ｇを三フツ化ホウ素エーテレートおよび
過フルオルプロピオ酸2.2ｇと混合し、５時間還
流する。次に、例１と同様に処理する。 融点：62℃、収量：1.4ｇ（理論量の41％）。 同様にして次の化合物を製造する： ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−過フルオ
ルカプリロフエノン ２−メチルレゾルシンから。 Rf−値＝0.87（溶離液：石油エーテル ３ クロロホルム ６ 酢酸エチル １） 例 18 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 無水塩化亜鉛３ｇを含有するエーテル50ml中に
４−ｎ−ヘキシルレゾルシン２ｇを入れた溶液を
−５℃で塩酸で飽和させる。次に、トリフルオル
アセトニトリル1.5ｇを加え、混合物を０℃で撹
拌する。24時間後に、混合物を吸収濾過し、残留
物をエーテルで洗つた後に水に溶解し、次に水浴
上で加熱する。形成される油をエーテルで抽出
し、抽出液を蒸発させ、次に石油エーテルから再
結晶させる。２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘ
キシル−トリフルオルアセトフエノン２ｇ（これ
は69％の収率に相当する）を得る。融点：90℃。 同様に、塩化エチレン50ml中の４−ｎ−ヘキシ
ルレゾルシン２ｇを塩化アルミニウム３ｇおよび
トリフルオルアセトニトリル1.5ｇと混合し、24
時間放置した後、例19と同様に処理する。収量：
1.75ｇ（理論量の60％）。溶媒としてトルエンを
使用した場合の収率は理論量の20％であり、ニト
ロベンゼンを使用した場合の収率は理論量の15％
であり、オキシ塩化リンを使用した場合の収率は
理論量の55％である。 同様に、オキシ塩化リン50ml中の４−ｎ−ヘキ
シルレゾルシン２ｇを塩化（）鉄３ｇおよびト
リフルオルアセトニトリル1.5ｇと混合し、24時
間後に例18と同様に処理する。収量：1.55ｇ（理
論量の53％）。触媒として五塩化リンを使用する
場合には、理論量の15％の収率が得られる。同様
にして、次の化合物を製造する： ２，４−ジビトロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン ２−メチルレゾルシンから、融点：96℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−プロピル−トリフ
ルオルアセトフエノン ３−プロピルレゾルシンから、融点：93℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−ペンチル−ト
リフルオルアセトフエノン ２−ｎ−ペンチルレゾルシンから、融点：105
℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−ト
リフルオルアセトフエノン ２−イソプロピルレゾルシンから、融点：145
℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−トリ
フルオルアセトフエノン ４−第３ブチルレゾルシンから、融点：158℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−トリ
フルオルアセトフエノン ２−イソブチルレゾルシンから、融点：114℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−イソブチル−トリ
フルオルアセトフエノン ４−イソブチルレゾルシンから、融点：88℃。 例 19 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン ４−ｎ−ヘキシルレゾルシン−モノ−トリフル
オル酢酸エステル２ｇをニトロベンゼン20ml中の
無水塩化アルミニウム３ｇとともに30分間で120
℃まで加熱する。反応混合物を撹拌しながら氷
100ｇ上に注ぎ入れ、有機相を分離採取し、水相
を塩化エチレン50mlで３回洗う。集めた有機相を
水100mlで洗い、塩化カルシウムで乾燥させ、蒸
発後に残る残留物をヘプタンまたは石油エーテル
から再結晶させる。融点：90℃、収量：1.4ｇ
（理論量の47％）。溶媒を使用しない場合には、
1.1ｇの収量（理論量の38％）が得られる。 例１ないし９の方法に従い次の化合物を製造す
る： ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン 融点：101℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：145℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−トリ
フルオルアセトフエノン 融点：114℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−（４−メチル）−シ
クロヘキシル−トリフルオルフエノン 融点：143℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘプチル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：85℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：97℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−ペンチル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：105℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ペンチル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：95℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−プロピル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：93℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−ｎ−プロピル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：112℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−オクチル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：85℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ノニル−トリ
フルオルアセトフエノン 融点86℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソペンチル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：101℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−トリ
フルオルアセトフエノン 融点：158℃。 例 20 (a) ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−５−ク
ロル−トリフルオルアセトフエノン 塩化エチレン３中に入れた２，４−ジヒド
ロキシ−３−メチル−トリフルオルアセトフエ
ノン220ｇに塩化スルフリル150mlを加え、混合
物を３時間撹拌する。次に、冷却しながら水
300mlを加え、過剰の塩化スルフリルを分解さ
せる。水相を分離した後、混合物を水150mlで
３回洗浄する。塩化エチレン相を硫酸ナトリウ
ムで乾燥させ、約20容量％に蒸発させる。実質
的に純粋な２，４−ジヒドロキシ−３−メチル
−５−クロル−トリフルオルアセトフエノン
150ｇが沈澱する。完全に蒸発させた後、残存
する残留物を塩化メチレン／ヘプタン＝１：１
から再結晶させる。総収量：196ｇ（理論量の
76％）、融点：96℃。 この方法と同様にして、溶媒の非存在下に塩
化スルフリルを用いて、次の化合物を製造す
る； (α) ２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジクロ
ル−トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセ
トフエノンから、融点：101℃。 (β) ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−５
−ｎ−ヘキシル−トリフルオルアセトフエノ
ン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル
−トリフルオルアセトフエノンから、融点：
40℃。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジクロル−
トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン２ｇの氷酢酸30ml溶液中に塩素ガスを
５分間導入する。しばらくした後、生成物を得
る、この生成物を吸収濾取する。水を加え、次
に沈澱した生成物を純粋な形で吸引濾取するこ
とにより完全な化合物を得る。収量：２ｇ（理
論量の72％）、融点：99℃。溶媒としてクロロ
ホルムを使用する以外は同様にして、匹敵しう
る収率および純度で標題の化合物を得ることが
できる。 (c) ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−トリフ
ルオルアセトフエノン クロロホルム中に溶解した塩素0.7ｇを２，
４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセトフエノ
ン２ｇのクロロホルム10ml溶液に加える。３−
クロル−２，４−ジヒドロキシ−トリフルオル
アセトフエノンを95％の収率で得る。融点：
111℃、さらに塩素を加えた場合には(b)で標記
した３，５−ジクロル−化合物が形成される。 (d) ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−トリフ
ルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン３ｇ（0.015モル）、Ｎ−クロルサクシ
ンイミド２ｇ（0.015モル）およびテトラクロ
ルメタン50mlを10時間還流する。混合物を水の
上から注ぎ入れ、有機相を分離採取し、これを
硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に吸引濾取す
る。残留物をｎ−ヘプタンから再結晶させる。 融点：110℃、収率：理論量の50％。 (e) ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−トリフ
ルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン３ｇ（0.015モル）を四塩化炭素25ml
に溶解し、第３ブチルハイポクロライト2.2ｇ
（0.02モル）の四塩化炭素100ml溶液を加える。
１時間放置した後、溶液を蒸発させ、残留物を
ｎ−ヘキサンから再結晶させる。 融点：110℃、収率：理論量の90％。 同様にして、次の化合物を製造した： ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−５−イ
ソプロピル−トリフルオルフエノン 融点：35℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−クロル−５−第
３ブチル−トリフルオルアセトフエノン 融点：40℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−
５−クロル−トリフルオルアセトフエノン 融点：42℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−５−ク
ロル−トリフルオルアセトフエノン 融点：96℃。 例 21 ２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジブロモ−ト
リフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセトフ
エノン４ｇの氷酢酸５ml溶液に臭素２mlを滴下し
て加える。１〜２日間後、晶出した生成物を吸引
濾取し、ヘキサン／ヘプタン＝１：１から再結晶
させる。 ２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジブロモ−ト
リフルオルアセトフエノン3.6ｇを得る；融点：
81℃、収率：理論量の49％。 同様にして次の化合物を製造した： ２，４−ジヒドロキシ−３−ブロモ−５−ｎ−
ヘキシル−トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノンから、融点：39℃、収
率：理論量の43％。 例 22 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｐ−トルエンスル
ホニル−トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセトフ
エノン５ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸クロリド10
ｇ、塩化（）鉄（無水）10ｇをオキシ塩化リン
10ml中に入れ、10時間120℃まで加熱する。次に、
水100mlを加え、混合物を吸引濾過する。残留物
を蒸気蒸留処理して、ｐ−トルエンスルホン酸を
除去し、次に石油エーテルから再結晶させる。 融点：145℃、収量：3.6ｇ（理論量の40％）。 例 23 ２，４−ジヒドロキシ−３−ｐ−トルエンスル
ホニル−トリフルオルアセトフエノン 触媒として塩化アルミニウムを使用して例22と
同様に処理し、標題の化合物２ｇを22％の収率で
得る。融点：127℃。 例 24 ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−５−ニト
ロ−トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン4.5ｇを氷酢酸20mlに入れ、
これに氷冷却しながら26％硝酸６mlを滴下して加
える。20時間後、混合物を水の上に注ぎ入れ、吸
引濾過し、残留物を次にヘプタンから再結晶させ
る。２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−５−ニ
トロ−トリフルオルアセトフエノン1.1ｇ（理論
量の21％）を得る。融点：104℃。 同様にして次の化合物を製造した： (a) ２，４−ジヒドロキシ−５−ニトロ−トリフ
ルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノンから、融点：81℃。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジニトロ−
トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノンから、融点：68℃。 ニトロ化には、65％硝酸と濃硫酸との混合物
（１：１）を使用した。 例 25 (a) ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−
トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン51ｇをポリリン酸150ml中に懸濁し、
撹拌しながら80℃まで加熱する。この温度でイ
ソプロパノール38ｇを0.5時間以内に滴下して
加える。加熱浴を取り除いた後、反応を70℃に
冷却させ、ガラスフリツト上で吸引濾過する。
フリツト上の生成物を水で洗い、乾燥させる。
ヘプタンから再結晶させる。融点：145℃、収
率：理論量の30％。 同様にして次の化合物を製造した： ２，４−ジヒドロキシ−５−イソブチル−ト
リフルオルアセトフエノン沸点0.1mm90℃、融
点：88℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−ト
リフルオルアセンフエノン 融点：114℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−ト
リフルオルアセトフエノン 融点：159℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−〔（４−メチル）
−シクロヘキシル〕−トリフルオルアセトフエ
ノン 融点：143℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−シクロペンチル
−トリフルオルアセトフエノン 融点：94℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソペンチル−
トリフルオルアセトフエノン 融点：101℃。 ２，４−ジヒドロキシ−５−〔（３，５−ジメ
チル）−シクロヘキシル〕−トリフルオルアセト
フエノン 融点：126℃。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−ト
リフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン30ｇに第３・ブタノール30mlを加え
る。氷酢酸30mlと硫酸30mlとの混合物を次に加
える。２時間80℃まで加熱し、さらに1.5時間
放置した後、第３・ブタノール15mlを加える。
混合物を氷上に注ぎ入れ、ｎ−ヘプタン500ml
で抽出する。ヘプタン抽出液をメタノール／水
（50：50）700mlで洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥させ、木炭で処理し、濾液を蒸発させ、残
留物をｎ−ペンタンから再結晶させる。 収量：17.6ｇ（理論量の52％）、融点：153℃。 (c) ２，４−ジヒドロキシ−３−イソペンチル−
トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン２ｇをオキシ塩化リン30mlに溶解さ
せ、酸化アルミニウム４ｇを加える。混合物を
60℃まで加熱し、２−ペンタノール３ｇを滴下
して加え、次に混合物をこの温度で６時間撹拌
する。 オキシ塩化リンを分解させるために、反応混
合物を氷水中に注ぎ入れ、沈澱した油をｎ−ヘ
キサン100mlで５回抽出する。このｎ−ヘキサ
ン溶液を60％水性メタノール80mlで５回洗つ
て、未反応の２，４−ジヒドロキシ−トリフル
オルアセトフエノンを除去し、次に90％水性メ
タノール100mlにより５回抽出して、所望の化
合物を抽出する。このメタノール抽出液を回転
蒸発器で蒸発させ、残留物をｎ−ペンタンから
再結晶させる。 融点：101℃、収量：1.4ｇ（理論量の30％）。 例 26 (a) ２，４−ジヒドロキシ−３−（１−メチルペ
ンチル）−トリフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン10ｇおよび１−ヘキセン12.6ｇをオキ
シ塩化リン40mlに溶解させ、五酸化リン５ｇを
撹拌しながら加える。混合物を激しく撹拌しな
がら６時間50℃まで加熱する。反応混合物を氷
−水に注ぎ入れてオキシ塩化リンを分解させ、
沈澱した油をｎ−ヘキサン100mlで５回抽出す
る。このｎ−ヘキサン溶液を60％水性メタノー
ル80mlで５回洗浄して未反応の２，４−ジヒド
ロキシ−トリフルオルアセトフエノンを除去
し、次に90％水性メタノール100mlで所望の化
合物を５回抽出する。このメタノール抽出液を
回転蒸発器で総合的に蒸発させ、残留物をｎ−
ペンタンから再結晶させる。 融点：97℃、収量：1.5ｇ（理論量の30％）。 上記方法と同様にして、次の化合物を製造し
た： ２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−ト
リフルオルアセトフエノン ブテンおよび２，４−ジヒドロキシ−トリフ
ルオルアセトフエノンから、融点：114℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−シクロドデシル
−トリフルオルアセトフエノン シクロドデセンおよびジヒドロキシトリフル
オルアセトフエノンから、融点：166℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソデシル−ト
リフルオルアセトフエノン １−デセンおよびジヒドロキシトリフルオル
アセトフエノンから、 融点：98℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−シクロペンチル
−トリフルオルアセトフエノン シクロペンテンおよびジヒドロキシトリフル
オルアセトフエノンから、融点：166℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−シクロヘプチル
−トリフルオルアセトフエノン シクロヘプテンおよびジヒドロキシトリフル
オルアセトフエノンから、融点：174℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル−
トリフルオルアセトフエノン プロペンおよびジヒドロキシトリフルオルア
セトフエノンから、融点：145℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソドデシル−
トリフルオルアセトフエノン １−ドデセンおよびジヒドロキシトリフルオ
ルアセトフエノンから、融点：96℃。 ２，４−ジヒドロキシ−３−イソオクタデシ
ル−トリフルオルアセトフエノン １−オクタデセンおよびジヒドロキシトリフ
ルオルアセトフエノンから、融点：98℃。 (b) ２，４−ジヒドロキシ−３−ヘキシル−トリ
フルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン10ｇおよび１−ヘキセン12.6ｇを濃硫
酸30mlと氷酢酸30mlとの混合物に溶解させ、５
時間60℃まで加熱する。次に、反応混合物を氷
水中に注入し、沈澱した油をｎ−ヘキサン100
mlで５回抽出する。このｎ−ヘキサン溶液を60
％水性メタノール80mlで５回洗浄して、未反応
の２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノンを除去し、次に所望の化合物を90％水
性メタノール100mlで５回抽出する。メタノー
ル抽出液を回転蒸発器で蒸発させ、残留物をｎ
−ペンタンから再結晶させる。 融点：97℃、収量：２ｇ（理論量の40％）。 氷酢酸／硫酸−混合物の代りにポリリン酸を
使用した場合には、この所望の化合物がまた40
％の収率で得られる。 溶媒としてニトロベンゼンを使用し且つ触媒
として塩化アルミニウムを使用した場合には、
この所望の化合物が25％の収率で得られる。 例 27 ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン4.4ｇ（0.02モル）をベンゼ
ン25ml中に溶解させ、塩化アセチル3.2ｇ（0.04
モル）およびピリジン3.6ｇ（0.045モル）を撹拌
しながら加える。室温で２時間撹拌した後、混合
物を水中に注入し、ベンゼン溶液を分離採取す
る。この溶液を水50mlで洗い、硫酸ナトリウム上
で乾燥させる。回転蒸発器で蒸発させた後、生成
物をｎ−ヘキサンから再結晶させる。融点：40〜
50℃、収量：4.5ｇ（理論量の86.5％）。同様にし
て、次の化合物を製造した： ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリフル
オルアセトフエノン−モノアセテート ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリフル
オルアセトフエノンおよびアセチルクロリドか
ら。 融点：80〜83℃、収率：理論量の71.5％。 ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリフル
オルアセトフエノン−モノステアレート ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリフル
オルアセトフエノンおよびステアロイルクロリド
から。 融点：51℃、収率：理論量の40％。 ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン−モノウンデシルネート ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノンおよび11−ウンデシレン酸ク
ロリドから。 沸点0.07：165℃、収率：理論量の64％。 ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリフル
オルアセトフエノン−モノウンデシルネート ２，４−ジヒドロキシ−５−クロル−トリフル
オルアセトフエノンおよび11−ウンデシル酸クロ
リドから。 沸点0.07：168℃、収率：理論量の65％。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ヘキシル−トリフ
ルオルアセトフエノン−モノアセテート ２，４−ジヒドロキシ−５−ヘキシル−トリフ
ルオルアセトフエノンおよびアセチルクロリドか
ら。 融点：30℃、収率：理論量の83％。 ２，４−ジヒドロキシ−５−ヘキシル−トリフ
ルオルアセトフエノン−モノステアレート ２，４−ジヒドロキシ−５−ヘキシル−トリフ
ルオルアセトフエノンおよびステアロイルクロリ
ド。 収率：理論量の77％ ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン−ジ−フエニルアセテート フエニルアセチルクロリドおよび２，４−ジヒ
ドロキシ−３−メチル−トリフルオルアセトフエ
ノンから。 融点：65℃、収率：理論量の90％。 例 28 ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オル−アセトフエノンのモノサルチレートとジ
サルチレートとの混合物 サルチル酸ナトリウム32ｇおよび２，４−ジヒ
ドロキシ−３−メチル−トリフルオルアセトフエ
ノン2.2ｇをベンゼン20mlに溶解させ、オキシ塩
化リン3.2ｇを加え、混合物を次に２時間還流す
る。混合物を氷150ｇの上に注ぎ入れてオキシ塩
化リンを分解させ、ベンゼン溶液を分離採取し、
水性相はベンゼン50mlで抽出すず。集めたベンゼ
ン溶液を水100mlで洗い、硫酸ナトリウム上で乾
燥させ、次に蒸発させる。残留物を75％メタノー
ルから再結晶させる。 融点：94〜98℃、収率：理論量の40％。 紫外線−、赤外線−およびNMR−スペクトル
によれば、モノサルチレートとジサルチレートと
の混合物に該当する。 例 29 (a) ２−ヒドロキシ−４−デシルオキシ−トリフ
ルオルアセトフエノンおよび ２，４−ジデシルオキシ−トリフルオルアセ
トフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン10.3ｇ（0.05モル）を炭酸カリウム
（乾燥したもの）７ｇ（0.05モル）、沃化デシル
26.8ｇ（0.1モル）およびアセトン100mlととも
に５時間還流する。アセトンを回転蒸発器で蒸
発させ、残留物に水100mlを加える。混合物を
酢酸エチル100mlで抽出し、この溶液を硫酸ナ
トリウムで乾燥させる。回転蒸発器で蒸発させ
た後、この混合物をモノ−およびジ−エーテル
から蒸留する。第１処理では沸点0.1＝80℃で未
反応の沃化デシルが得られる。これらのエーテ
ルを次にメタノールから再結晶させる。 モノエーテル：沸点0.1＝150℃、融点：27〜28
℃、収量：9.2ｇ（理論量の53.2％）。 ジエーテル：沸点0.1＝200℃、融点：37〜38℃、
収量：5.6ｇ（理論量の23.0％）。 同様にして次の化合物を製造した： ２−ヒドロキシ−４−ブトキシ−トリフルオ
ルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノンから、 融点：66℃、収率：理論量の28.5％。 ２，４−ジメトキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−
トリフルオルアセトフエノンから、 融点：52℃、収率：理論量の30.5％。 (b) ２，４−ジメトキシ−トリフルオルアセトフ
エノン ２，４−ジヒドロキシ−トリフルオルアセト
フエノン３ｇ（0.015モル）を塩化メチレン75
mlに溶解させる。テトラブチルアンモニウムブ
ロミド0.6ｇ（0.002モル）、水酸化ナトリウム
２ｇ（0.05モル）の水75ml溶液および硫酸ジメ
チル５ｇ（0.04モル）を加える。５時間激しく
撹拌した後、混合物を水100ml中に注ぎ入れ、
15％塩酸で酸性にし、有機相を分離採取し、硫
酸ナトリウムで乾燥させた後蒸発させる。残留
物をｎ−ペンタンから再結晶させる。 融点：49℃、収量：２ｇ（理論量の57％）。 例 30 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−エチル−ベンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−エチル−トリフル
オルアセトフエノン2.4ｇをパラホルムアルデヒ
ド２ｇとともに１時間140℃まで加熱し、次に混
合物をヘプタンから再結晶させる。 融点：170℃、収量：2.3ｇ（理論量の92％）。 同様にして次の化合物を製造した： メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−メチル−ベンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−メチル−トリフル
オルアセトフエノンから、 融点：234℃、収率：92％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−ｎ−プロピル−ベ
ンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−プロピル−ト
リフルオルアセトフエノンから、 融点：153℃、収率：90％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−ｎ−ブチル−ベン
ゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ブチル−トリ
フルオルアセトフエノンから、 融点：145℃、収率：91％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−ｎ−ペンチル−ベ
ンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ペンチル−ト
リフルオルアセトフエノンから、融点：131℃、
収率：90％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−ｎ−ヘキシル−ベ
ンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノンから、融点：120℃、
収率：93％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−ｎ−ドデシル−ベ
ンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ドデシル−ト
リフルオルアセトフエノンから、融点：110℃、
収率：85％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−イソプロピル−ベ
ンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−イソプロピル−ト
リフルオルアセトフエノンから、融点：140℃、
収率：理論量の89％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−ベンジル−ベンゼ
ン ２，４−ジヒドロキシ−５−ベンジル−トリフ
ルオルアセトフエノンから、融点：183℃、収
率：理論量の90％。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−シクロヘキシル−
ベンゼン ２，４−ジヒドロキシ−５−シクロヘキシル−
トリフルオルアセトフエノンから、融点：206℃、
収率：理論量の85％。 メチレン−ビス−２，４−ジヒドロキシ−３−
イソプロピル−５−トリフルオルアセチル−ベ
ンゼン ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピルトリ
フルオルアセトフエノンから、融点：123℃、収
率：90％。 例 31 メチレン−ビス−２，４−ジヒドロキシ−３−
メチル−５−トリフルオルアセチル−ベンゼン ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフル
オルアセトフエノン2.2ｇをパラホルムアルデヒ
ド２ｇとともにメタノール10mlに溶解させ、濃硫
酸７mlを撹拌し、氷冷却しながら加え、混合物を
室温で５時間放置する。次に、水を加え、混合物
を吸引濾過し、メタノール／水＝１：１から再結
晶させる。 融点：195℃、収量：1.9ｇ（理論量の87％）。 メチレン−ビス−２，６−ジヒドロキシ−３−
トリフルオルアセチル−５−クロルベンゼン ２，５−ジヒドロキシ−５−クロルレゾルシン
から、融点：205℃、収率：87％。 また、例28の標題の化合物を同様にして製造し
た。 式の化合物は慣用の医薬製剤、たとえば泡沫
エーロゾル、粉末−噴霧剤、粉末、咽頭−噴霧
剤、シヤンプー、クリーム、軟膏、チンキ剤、ペ
ーストまたはゲル中に混入できる。この活性成分
の薬用量は0.05ないし１重量％、好ましくは0.1
ないし0.8重量％である。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.5重量％を含有す
る泡沫エーロゾル（充填／缶60ｇ） （急速消散性泡） 活性成分 0.30ｇ クレモホール（Cremophor）EL＝ひまし油とエ
チレンオキシド（１モル：40モル）との反応生成
物 0.50ｇ ツイーン（Tween）80＝ポリエトキシル化され
たソルビタンモノオレエート 0.80ｇ テキサポン（Texapon）N25＝ラウリルエーテ
ル硫酸ナトリウム 0.50ｇ フランスブランデーエツセンス 0.25ｇ エタノール96％ 12.75ｇ 水 35.00ｇ 推進剤混合物〔60：40容量部の割合のフリゲン
（Frigen）12/114〕 全量を60.00ｇにする量 (a) 活性成分の溶液 活性成分、クレモホールELおよびフランス
ブランデイエツセンスを室温でエタノールに順
次溶解させる。ツイーン80およびテキサポン
N25をまた室温で水に溶解させ、上記エタノー
ル溶液と一緒に合せて、濾過する。 (b) エーロゾルの製造 上記の活性成分の溶液50.1ｇを内側にラツカ
ーの二重の保護皮膜を有する適当な大きさのア
ル−モノブロツク缶（alu−monobloc can）
に充填する。バルブでふたをした缶に次に推進
剤充填装置により推進剤混合物を充填する。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.5重量％を含有す
る粉末噴霧剤（充填／100ｇ缶） 活性成分 0.50ｇ エーロシル（Aerosil） 0.50ｇ ANM−マイズ（コーンスターチ） 2.00ｇ ミリスチン酸イソプロピル 0.50ｇ 推進剤混合物（50：50容量部の割合のフリゲン1
１／１２） 全量を100.00ｇにする量 (a) 活性成分の粉末 活性成分をエーロシルおよびコーンスターチ
とともにピン止めデイスクミル（pinned disk
mill）で粉砕し、モーターでミリスチン酸イソ
プロピルとすり混ぜる。 (b) エーロゾルの製造 上記の活性成分の粉末3.5ｇを適当な大きさ
のアル−モノブロツク缶に充填する。バルブで
ふたをしたこの缶に次に推進剤充填装置で推進
剤混合物96.5ｇを充填する。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.5重量％を含有す
る粉末剤 活性成分 0.50ｇ エーロシル200 0.50ｇ ステアリン酸マグネシウム 0.20ｇ 乳 糖 48.80ｇ ANM−マイズ（コーンスターチ） 50.500ｇ 微細化した活性成分をエーロシル200、ステア
リン酸マグネシウム、乳糖およびコーンスターチ
と混合し、次いでピン止めデイスク ミルで粉砕
する。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.5重量％を含有す
る咽頭噴霧剤 活性成分 0.50ｇ グリセリン 20.00ｇ サツカリンナトリウム 0.02ｇ エタノール96％ 10.00ｇ クレモホールRH40＝水素化されたひまし油とエ
チレンオキシドとの反応生成物 1.00ｇ メタノール42〜44℃ 0.05ｇ 香 料 0.04ｇ 染料、青 適量 蒸留水 全量を100.00ｇにする量 活性成分をメタノールおよび香料とともにエタ
ノールに溶解させ、次にグリセリンを加える。水
の１部にクレモホールRH40、サツカリン ナト
リウムおよび染料を順に溶解する。この溶液をエ
タノール−グリセリン溶液と一緒にし、水で満た
し、次に濾過する。機械的ポンプ投薬バルブによ
り噴霧する。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.1重量％を含有す
るシヤンプー 活性成分 0.10ｇ コンペルラン（comperlan）KD＝ココナツ脂肪
酸ジエタノールアミド 3.00ｇ ゼツトゾル（Zetesol）856T＝脂肪アルコールエ
ーテルサルフエート 25.00ｇ ラメポン（Lamepon）Ｓ−TR＝タンパク質加水
分解物と植物脂肪酸との縮合生成物 5.00ｇ オイペルラン（Euperlan）PK771＝脂肪アルコ
ールエーテルサルフエート 10.00ｇ セチオール（Cetiol）HE＝ポリオール脂肪酸エ
ステル 2.50ｇ ケモデルム（Chemoderm）＝香料油組成物 0.50ｇ 染料（黄味オレンジ11963） 0.012ｇ ニツプ（Nip）／ニツプ（８／２）＝メチル−ｐ
−ヒドロキシベンゾエート＋ｎ−プロピル−ｐ−
ヒドロキシ−ベンゾエート 0.20ｇ 蒸留水 全量を100.00ｇにする量 ニパジン（Nipagine）／ニパゾル（Nipasol）
（ニツプ／ニツプ）を加熱しながら水の１部に溶
解し、次にコンペルラン、ゼツトゾル856T、ラ
メポンＳ−TR、オイペルラン、セチオールHE
および染料をこの中で室温で連続的に撹拌する。
活性成分を加え、良く均一にした後、香料を加え
る。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.5重量％を含有す
るゲル剤 活性成分 0.50ｇ ツイーン80＝ポリエトキシ化ソルビタンモノオレ
エート 0.10ｇ カルボポール（Carbopol）940＝アクリル酸重合
物 0.75ｇ ニツプ／ニツプ（８／２） 0.30ｇ シリコン油AK350 3.00ｇ トリエタノールアミン溶液10％ 3.70ｇ 水 全量を100.00ｇにする量 ニパジンとニパゾルとを加熱しながら水の１部
に溶解し、次にカルボポールを激しく撹拌しなが
ら約50℃で加える。微細化した活性成分をツイー
ンと混合した残りの水中に懸濁し、これをカルボ
ポール懸濁液に加える。次に、シリコン油を加え
て撹拌し、その粘度をさらに撹拌しながらトリエ
タノールアミンで調節する。 例 ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−ト
リフルオルアセトフエノン0.8重量％を含有す
るクリーム 活性成分 0.8ｇ ミリスチン酸イソプロピル 7.0ｇ シリコン油AK350 0.5ｇ ツイーン60 2.0ｇ スパン（Span）60 2.0ｇ ラネツト（Lanette）０ 7.0ｇ プロピレン グリコール1.2 7.0ｇ ニツプ／ニツプ（８／２） 0.3ｇ 蒸留水 73.4ｇ ミリスチン酸イソプロピン、シリコン油、ツイ
ーン、スパンおよびラネツトを75℃で溶融し、こ
の温度に保持する。ポリプロピレン グリコー
ル、ニツプ／ニツプ（８／２）および水を短時間
沸とうさせ、75℃に冷却させる。活性成分を撹拌
しながらミリスチン酸イソプロピル溶融物に加
え；この混合物をプロリレン グリコール混合物
中に撹拌して混入する。仕上げられた混合物を冷
却させる。 植物の防護に使用する場合、本発明による化合
物を慣用の組成物、特に溶液濃縮物、エマルジヨ
ン濃縮物、粉末、顆粒、噴霧粉末、種子処理用粉
末および溶液の形に処理する。噴霧剤および粉末
中の活性成分の含有量は0.01ないし約３重量％に
相当する。種子処理用溶液（約10ないし50重量
％）および種子処理用粉末（約20ないし90重量
％）並びに濃縮物（約95重量％まで）は一層高い
活性成分濃度を含有する。 組成物例 １ 懸濁粉末： ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−５−クロ
ル−トリフルオルアセトフエノン 30重量部 ナトリウム リグニン スルホネート ９重量部 ナトリウム ナフタリン スルホネート
１重量部 コロイド状珪酸 60重量部 成分を均質に粉砕する。除草剤として使用す
る場合には、0.01ないし３重量％の活性成分含
有量を有する水性噴霧剤を作る。この噴霧剤は
望ましくない単子葉植物、たとえば野生からす
麦、並びに穀草類およびその他の栽培植物中の
雑草（双子葉植物）の制御に使用できる。一層
高い用量を適用した場合には、総合的除草の目
的にも使用できる。 式の別の化合物も対応するやり方で使用で
きる。 ２ 種子処理用溶液： ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−トリ
フルオルアセトフエノン 20重量部 ジメチルホルムアミド 79重量部 ３ 種子処理用粉末： ２，４−ジヒドロキシ−５−第３ブチル−トリ
フルオルアセトフエノン 80重量部 ステアリン酸マグネシウム ３重量部 タルク 17重量部 種子処理用剤は種子上に噴霧するか（溶液）
または種子と混合（粉末）する。これらは中で
もフンギ チレチア（fungi tiletia）、ヘルミ
ントスポリウム（helmintosporium）、ウスチ
ラゴ（ustilago）およびヒユーザリウム
（fusarium）の属の制御のために働く。 式のその他の化合物も対応するやり方で使
用できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式、 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、水素原子、２〜10個の炭素原子を有する
    直鎖または分枝鎖アルキル基または２〜18個の炭
    素原子を有する脂肪族アシル基を表わし；そして R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
    基、ハロゲン原子、ニトロ、ｐ−トルエンスルホ
    ニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
    ヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロヘキシ
    ル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル或いはメ
    チルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中、Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わすか、またはＧは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わ
    すのどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義
    のとおりである）の基を表わすか、或いはまた R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシ
    アノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる、さらに
    また 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合、またはR1がトリフル
    オルメチル基以外の上記意味を有する場合、また
    はR2およびR4が水素原子またはメチル基以外の
    上記意味を有する場合には、基R3およびR5の他
    方はまた水素原子またはエチル基を表わすことが
    できる〕で示される新規な置換フルオルアシルレ
    ゾルシン。 ２ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ヘキシル−
    トリフルオルアセトフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 ３ ２，４−ジヒドロキシ−５−イソペンチル−
    トリフルオルアセトフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 ４ ２，４−ジヒドロキシ−３−（4′−メチル）−
    シクロヘキシル−トリフルオルアセトフエノンで
    ある特許請求の範囲第１項の化合物。 ５ ２，４−ジヒドロキシ−５−（3′，5′−ジメ
    チル）−シクロヘキシル−トリフルオルアセトフ
    エノンである特許請求の範囲第１項の化合物。 ６ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−ノニル−ト
    リフルオルアセトフエノンである特許請求の範囲
    第１項の化合物。 ７ ２，４−ジヒドロキシ−３−イソヘキシル−
    トリフルオルアセトフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 ８ ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−トリフ
    ルオルアセトフエノンである特許請求の範囲第１
    項の化合物。 ９ メチレン−ビス−（２，６−ジヒドロキシ−
    ３−エチル−５−トリフルオルアセトフエノン）
    である特許請求の範囲第１項の化合物。 １０ ２，４−ジヒドロキシ−３−イソプロピル
    −トリフルオルアセトフエノンである特許請求の
    範囲第１項の化合物。 １１ メチレン−ビス−（２，６−ジヒドロキシ
    −３−イソプロピル−５−トリフルオルアセチ
    ル）−ベンゼンである特許請求の範囲第１項の化
    合物。 １２ ２，４−ジヒドロキシ−３−イソブチル−
    トリフルオルアセトフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 １３ ２，４−ジヒドロキシ−５−ｎ−デシル−
    トリフルオルアセトフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 １４ ２，４−ジヒドロキシ−３−シクロドデシ
    ル−トリフルオルアセトフエノンである特許請求
    の範囲第１項の化合物。 １５ ２，４−ジヒドロキシ−３−イソデシル−
    トリフルオルアセトフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 １６ メチレン−ビス−（２，４−ジヒドロキシ
    −３−イソプロピル−５−トリフルオルアセチ
    ル）−ベンゼンである特許請求の範囲第１項の化
    合物。 １７ ２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−ペン
    タフルオルプロピオフエノンである特許請求の範
    囲第１項の化合物。 １８ ２，４−ジヒドロキシ−２−シクロペンチ
    ル−トリフルオルアセトフエノンである特許請求
    の範囲第１項の化合物。 １９ 一般式、 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、水素原子または２〜10個の炭素原子を有
    する直鎖または分枝鎖アルキル基を表わし； R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
    基、ハロゲン原子、ニトロ、ｐ−トルエンスルホ
    ニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
    ヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロヘキシ
    ル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル、または
    メチルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2−
    または−Ｓ−を表わすか、或いはＧは基−CH2−
    または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わす
    のどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義の
    とおりである）の基を表わすか、或いはまた R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシ
    アノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる；さらに
    また 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合、或いはR1がトリフル
    オルメチル基以外の上記意味を有する場合、或い
    はまたR2およびR4が水素原子またはメチル基以
    外の上記意味を有する場合には、基R3およびR5
    の他方はまた水素原子またはエチル基を表わすこ
    とができる〕で示される新規な置換フルオルアシ
    ルレゾルシンの製造方法であつて、 一般式、 （式中R2〜R5は前記定義のとおりである）のレ
    ゾルシン化合物またはその誘導体を一般式、 R1−COY （） （式中R1は前記意味を有し、そしてＹはヒドロ
    キシ、アミノ、アシルオキシまたはアルコキシ
    基、またはハロゲン原子を表わす）のカルボン酸
    またはその反応性誘導体により、フリーデル−ク
    ラフツ触媒および溶媒の存在下に、−80℃から溶
    媒の沸とう温度までの温度でアシル化することを
    特徴とする製造方法。 ２０ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、水素原子または２〜10個の炭素原子を有
    する直鎖または分枝鎖アルキル基を表わし；そし
    て R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
    基、ハロゲン原子、ニトロ、ｐ−トルエンスルホ
    ニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
    ヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロヘキシ
    ル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル或いはメ
    チルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2−
    または−Ｓ−を表わすか、またはＧは基−CH2−
    または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わす
    のどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義の
    とおりである）の基を表わし、或いはまた R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシ
    アノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる；さらに
    また 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合、またはR1がトリフル
    オルメチル基以外の上記意味を有する場合、また
    はR2およびR4が水素原子またはメチル基以外の
    上記意味を有する場合には、基R3およびR5の他
    方はまた水素原子またはエチル基を表わすことが
    できる〕で示される新規な置換フルオルアシルレ
    ゾルシンの製造方法であつて、 一般式、 （式中R2〜R5は前記定義のとおりである）のレ
    ゾルシン化合物またはその誘導体を一般式、 R1−CN （） （式中R1は前記意味を有する）の過フルオルカ
    ルボン酸ニトリルと、有機溶媒の存在下に−80℃
    から溶媒の沸とう温度までの温度で且つ触媒とし
    てルイス酸の存在下に反応させることを特徴とす
    る製造方法。 ２１ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2および（または）R4は水素原子または２〜
    10個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキ
    ル基を表わし、 R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
    基、ハロゲン原子、ニトロ、またはｐ−トルエン
    スルホニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
    シクロペプチル、シクロドデシル、メチルシクロ
    ヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル或
    いはメチルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2−
    または−Ｓ−を表わすか、またはＧは基−CH2−
    または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わす
    のどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義の
    とおりである）の基を表わすか、或いはまた R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシ
    アノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる；さらに
    また基R3およびR5の一方が水素原子以外のここ
    にあげた意味を有する場合、またはR1がトリフ
    ルオルメチル基以外の上記意味を有する場合、ま
    たはR2およびR4が水素原子またはメチル基以外
    の上記意味を有する場合には、基R3およびR5の
    他方はまた水素原子またはエチル基を表わすこと
    ができる〕で示される新規な置換フルオルアシル
    レゾルシンの製造方法であつて、 一般式 （式中R3およびR5は前記定義のとおりであり、
    Ｅは基−Ｏ−COR1を表わしそしてＤは基OR4を
    表わすか、或いはＥは基−OR2を表わしそしてＤ
    は基−Ｏ−COR1を表わすか、或いは基Ｄおよび
    Ｅの両方が基−Ｏ−COR1を表わし、但しこれら
    の基R1、R2およびR4は前記定義のとおりである）
    の過フルオルアシルレゾルシンを触媒としてルイ
    ス酸の存在下に０〜150℃の温度にまで加熱する
    ことを特徴とする製造方法。 ２２ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、水素原子、２〜10個の炭素原子を有する
    直鎖または分枝鎖アルキル基または２〜18個の炭
    素原子を有する脂肪族アシル基を表わし；そして R3および（または）R5はハロゲン原子、ニト
    ロ基またはｐ−トルエンスルホニル基を表わし、
    そしてR3および（または）R5の他の一つは３〜
    18個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペン
    チル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロ
    ドデシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシク
    ロヘキシル、ベンジル或いはメチルチオ基を表わ
    すか、或いは一般式 （式中、Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わすか、またはＧは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わ
    すのどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義
    のとおりである）の基を表わすか、或いはまた R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシ
    アノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる；さらに
    また 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合、またはR1がトリフル
    オルメチル基以外の上記意味を有する場合、また
    はR2およびR4が水素原子またはメチル基以外の
    上記意味を有する場合には、基R3およびR5の他
    方はまた水素原子またはエチル基を表わすことが
    できる〕で示される新規な置換フルオルアシルレ
    ゾルシンの製造方法であつて、 一般式 〔式中R1、R2およびR4は前記定義のとおりであ
    り、そしてＡおよび（または）Ｂは水素原子を表
    わし、これらの基の他の一方は場合によりR3ま
    たはR5の意味を有することができる〕の過フル
    オルアシルレゾルシンを一般式、 R7Z （） （式中R7はハロゲン原子、ニトロ基またはスル
    ホニル基を表わし、そしてＺはハロゲン原子また
    はヒドロキシ基を表わす）の化合物と溶媒の存在
    下に−20〜150℃の温度で反応させることを特徴
    とする製造方法。 ２３ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、水素原子または２〜10個の炭素原子を有
    する直鎖または分枝鎖アルキル基を表わし；そし
    て R3および（または）R5は３〜18個の炭素原子
    を有する分枝鎖アルキル基またはシクロアルキル
    基を表わす〕で示される新規な置換フルオルレゾ
    ルシンの製造方法であつて、 一般式 〔式中R1、R2およびR4は前記定義のとおりであ
    り、そしてＡおよび（または）Ｂは水素原子を表
    わし、これらの基の他の１方は場合によりハロゲ
    ン原子、メチル基、ヒドロキシ基またはメトキシ
    基を表わすことができる〕の過フルオルアシルレ
    ゾルシンを不飽和脂肪族炭化水素および３〜18個
    の炭素原子を有する第２アルコールと、酸または
    ルイス酸の存在下に30〜150℃の温度で反応させ
    ることを特徴とする製造方法。 ２４ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、水素原子、２〜10個の炭素原子を有する
    直鎖または分枝鎖アルキル基または２〜18個の炭
    素原子を有する脂肪族アシル基を表わし； R3は式 【式】の基を表わし、そして R5はハロゲン原子、ニトロ、ｐ−トルエンスル
    ホニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
    ロヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロヘキ
    シル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル、メチ
    ル或いはメチルチオ基を表わし、またはR5は式 の基を表わし、そしてR3はハロゲン原子、ニト
    ロ、ｐ−トルエンスルホニル基、シクロペンチ
    ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロド
    デシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロ
    ヘキシル、ベンジル、メチル或いはメチルチオ基
    を表わす〕で示される新規な置換フルオルアシル
    レゾルシンの製造方法であつて、 一般式ａ （式中Ｋは基R5を表わし且つＬは水素原子を表
    わすか、またはＬは基R3を表わし且つＫは水素
    原子を表わすのどちらかであり、そしてR1〜R5
    は前記定義のとおりである）の化合物の２モルを
    ホルムアルデヒドの１モルと、室温で酸の存在下
    に、または酸を加えることなく反応混合物の沸点
    までの温度において反応させることを特徴とする
    製造方法。 ２５ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は相互に同一または異なつていて
    もよく、２〜18個の炭素原子を有する脂肪族アシ
    ル基を表わし； R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
    基、ハロゲン原子、ニトロ、またはｐ−トルエン
    スルホニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
    シクロヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロ
    ヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル或
    いはメチルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中、Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わすか、またはＧは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わ
    すのどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義
    のとおりである）の基を表わすか、或いはまた
    R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシア
    ノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる；さらに
    また 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合、またはR1がトリフル
    オルメチル基以外の上記意味を有する場合、また
    はR2およびR4が水素原子またはメチル基以外の
    上記意味を有する場合には、基R3およびR5の他
    方はまた水素原子またはエチル基を表わすことが
    できる〕で示される新規な置換フルオルアシルレ
    ゾルシンの製造方法であつて、 R2および（または）R2が水素原子を表わす一
    般式の化合物を式 Ｒ−Ｘ （式中Ｒは２〜10個の炭素原子を有する直鎖また
    は分枝鎖アルキル基であり、そしてＸはハロゲン
    原子である）の化合物と反応させ、かくして一般
    式の化合物のモノ−またはジ−エーテルを得る
    ことを特徴とする製造方法。 ２６ 一般式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2および（または）R4は相互に同一または異
    なつていてもよく、水素原子（但しR2またはR4
    の一方だけ）、２〜10個の炭素原子を有する直鎖
    または分枝鎖アルキル基を表わし； R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有するアルキル
    基、ハロゲン原子、ニトロ、ｐ−トルエンスルホ
    ニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
    ヘプチル、シクロドデシル、メチルシクロヘキシ
    ル、ジメチルシクロヘキシル、ベンジル或いはメ
    チルチオ基を表わすか、或いは一般式 （式中、Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わすか、またはＧは基−CH2
    −または−Ｓ−を表わしそしてＦは基R3を表わ
    すのどちらかであり、そしてR1〜R5は上記定義
    のとおりである）の基を表わすか、或いはまた R3はヒドロキシ、メトキシ、メチルまたはシ
    アノ基を表わすことができ、そして R5はメチル基を表わすことができる；さらに
    また 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合、またはR1がトリフル
    オルメチル基以外の上記意味を有する場合、また
    はR2およびR4が水素原子またはメチル基以外の
    上記意味を有する場合には、基R3およびR5の他
    方はまた水素原子またはエチル基を表わすことが
    できる〕で示される新規な置換フルオルアシルレ
    ゾルシンの製造方法であつて、 R2および（または）R4が水素原子を表わす一
    般式の化合物を式 Ｒ−CO−Ｘ （式中Ｒは１〜17個の炭素原子を有する脂肪族基
    を表わし、そしてＸはヒドロキシ、ハロゲン、ナ
    トリウム、カリウムまたはアシル（カルボン酸の
    無水物）を表わす）の化合物と反応させ、かくし
    て一般式の化合物のモノ−またはジ−エステル
    を得ることを特徴とする製造方法。 ２７ 溶媒として、脂肪族炭化水素、二硫化炭
    素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、エーテル、芳香
    族炭化水素またはオキシ塩化リン、ポリリン酸、
    リン酸または硫酸を使用する特許請求の範囲第１
    ９項に記載の方法。 ２８ ルイス酸として、無水塩化アルミニウム、
    塩化（）鉄、塩化亜鉛、三フツ化ホウ素または
    そのエーテレート、塩化（）錫、アンチモン−
    三ハロゲン化物、アンチモン−五ハロゲン化物、
    三ハロゲン化リン、五ハロゲン化リン、五酸化リ
    ン、或いは塩酸、フツ化水素酸、硫酸、ポリリン
    酸またはクロルスルホン酸のごとき無機酸、或い
    はまたｐ−トルエンスルホン酸のごとき強有機酸
    を使用する特許請求の範囲第１９項、第２０項、
    第２１項および第２７項のいずれか１つに記載の
    方法。 ２９ 溶媒として、エーテル；クロルベンゼン、
    ニトロベンゼン、キシレン、トルエンのごとき芳
    香族炭化水素；またはオキシ塩化リンを使用し且
    つ反応を−20〜＋80℃の温度で行なう特許請求の
    範囲第２０項および第２８項のいずれか１つに記
    載の方法。 ３０ 溶媒として、エーテル；クロルベンゼン、
    ニトロベンゼン、トルエン、ジクロルベンゼン、
    キシレンのごとき芳香族炭化水素；またはオキシ
    塩化リンを使用し、且つ反応を０〜50℃の温度で
    行なう特許請求の範囲第２１項および第２８項の
    いずれか１つに記載の方法。 ３１ 反応をエーテルまたは氷酢酸中でハロゲン
    により行ない、硝酸または硫酸との反応を溶媒と
    してこれらの酸自体またはその混合物中で行なう
    特許請求の範囲第２２項に記載の方法。 ３２ 反応をリン酸、ポリリン酸、硫酸、氷酢
    酸、オキシ塩化リンのごとき酸の存在下に、また
    は無水塩化アルミニウム、塩化（）鉄、塩化
    （）錫、五酸化リン、塩化亜鉛または五塩化リ
    ンのごときルイス酸の存在下に行なう特許請求の
    範囲第２３項に記載の方法。 ３３ 反応をエーテル、クロルベンゼン、ニトロ
    ベンゼン、オキシ塩化リンのごとき溶媒の存在下
    に行なう特許請求の範囲第２３項および第３２項
    のいずれか１つに記載の方法。 ３４ 不活性溶媒を使用する特許請求の範囲第２
    ４項に記載の方法。 ３５ 活性成分として１種または２種以上の一般
    式 〔式中R1は１〜８個の炭素原子を有する過フツ
    素化アルキル基を表わし； R2およびR4は水素原子を表わし； R3およびR5は相互に同一または異なつていて
    もよく、３〜18個の炭素原子を有する直鎖または
    分枝鎖アルキル基、シクロアルキル基或いは一般
    式 （式中、Ｇは基R5を表わしそしてＦは基−CH2
    −を表わすか、またはＧは基−CH2−を表わしそ
    してＦは基R3を表わすのどちらかであり、そし
    てR1〜R5は上記定義のとおりである）の基を表
    わすか或いはまた R3およびR5はまたメチル基を表わすことがで
    きる；さらにまた 基R3およびR5の一方が水素原子以外のここに
    あげた意味を有する場合には、基R3およびR5の
    他方はまた水素原子またはエチル基を表わすこと
    ができる〕で示される新規な置換フルオルアシル
    レゾルシン化合物 および慣用の医薬担体および（または）助剤を
    含有する抗微生物および細胞増殖抑制剤。
JP4247577A 1976-04-14 1977-04-13 Novel substituted fluoroacylresorcin* and pharmaceutical*cosmetic and herbicide containing these compounds Granted JPS52128340A (en)

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