JPS6325891B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、導電性の材料からなる被加工物の放
電加工装置に関する。

〔従来の技術〕

最近、いわゆる持続時間の短かいパルスを発生
するパルス発生器が、放電加工パルス源としてワ
イアカツテイングにおいて使用されており、加工
スピードの点でかなりの進歩につながつている
（たとえば、米国特許第4163887号に記載されてい
る）。

このタイプの発生器の場合、ワイヤ電極の振動
を取り除くことができても、大きくなつた加工力
によつてワイア電極に永久的な偏りが生じ、これ
が曲りに対し敏感になる。この偏りは、加工方向
とは逆方向で、彎曲した形状をカツテイングする
ときに大きな形状誤差を生じさせる。

ワイア電極の一時的な、制御できない偏りがま
た、他の力、たとえば、誘電物内のガス気泡ある
いは誘電物の乱流あるいは実際のワイア電極の材
料応力に起因して発生する。

ワイア電極の偏りによるカツテイング形状の影
響は回避されなければならない。

この問題に対するひとつのアプローチが、特開
昭50第119393号に記載されており、この公報は、
計算により、偏りを理論的に決定することと数値
制御システムによつてその補償をすることを提案
している。しかしながら、この方法は、直すぐな
カツテイング形状の場合には満足されるものの、
１つの軸線方向から他の方向への偏り路を計算す
ることが不可能であるからであるので、種々の問
題が、カーブしたカツテイング形状の場合に起
る。したがつて、この方法は実際的でない。

この問題に対する他のアプローチが、ドイツ公
開公報第2635766号に開示されており、これは、
カツテイング形状の増大する曲りに比例してパル
ス発生器の出力と加工スピードを減少させること
を提案している。しかしながら、これは、頻繁に
カーブする形状の場合にはカツテイング効率がか
なり落ちるという欠点を有し、他方、誤差は部分
的にのみ補償されるだけである。

さらにもうひとつのアプローチが英国特許第
1512654号に提案されている。この場合、ワイア
電極に作用する電磁ならびに静電力によつて補償
するために、ワイア電極は付加的な電流と付加的
な電圧の作用に影響される。不幸にして、このこ
とが、電熱ならびにアーク放電によつて、ワイア
電極の付加的な負荷の原因となり、さらにこのこ
とが、カツテイング効率の損失をもたらす。加え
て、電磁力は磁鉄の加工物に対してだけ有効であ
る。

これら３つのアプローチはいずれも、絶縁物の
ガス気泡ならびに乱流による欠点あるいはワイア
電極の物質的なひずみによる欠点を回避できな
い。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は、上述した形状誤差を除去し、
これによつて、加工スピードに損失を受けること
なくワイアカツテイングの精度を著しく向上させ
ることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の放電加工装置は、 導電性の材料からなる被加工物の放電加工装置
であつて、前記被加工物が置かれる加工台と、前
記被加工物を加工するワイヤ状の電極と、被加工
物の上側に配置された上方のガイドと加工台の下
側に配置れている下方のガイドとからなる、前記
電極用の一対のガイドと、前記加工台と前記電極
の相対位置を変更し、それによつて前記電極に垂
直な平面内を前記電極が変位する変更手段とを有
する放電加工装置において、 上方のガイドと被加工物の隣接する表面の間に
配置された上方の検出手段と、下方のガイドと加
工台の隣接する表面の間に配置された下方の検出
手段とからなり、電極のその規定された位置から
の偏りを検出する一対の検出手段が備えられ、前
記上方および下方の検出手段は、互いに直交し、
前記電極に垂直な平面に平行な平面内にある２つ
の方向の各々における前記偏りを検出して電極の
その規定された位置からの前記偏りの大きさを測
定するようになつており、 電極と加工台の相対位置を制御する第１、第２
の制御手段とからなる一対の制御手段が備えら
れ、 第１の制御手段の入力が上方の検出手段の出力
に接続され、第２の制御手段の入力が下方の検出
手段の出力に接続されており、 第１および第２の制御手段の各出力は、前記加
工台と前記電極の間の相対位置を変更する前記手
段に接続されていることを特徴とする。

〔実施例〕

図面の第１図を参照すると、静止位置に対する
ワイヤ電極１の偏りは、ワイアガイド５とワイア
電極１まわりの加工物６との間に配置されている
少なくとも１つの変位検出システム７によつて測
定される。偏り情報△Ｘ、△Ｙの助けで、第２図
に示すように、送り路は、ワイア電極１が定めら
れた路上に常に位置するようにたえず修正され
る。

Ｘ、Ｙに偏り△X′、△Y′を加えることによつ
て得られる制御指令（Ｘ＋△X′）、（Ｙ＋△Y′）
が、第１０図に示すように、Ｘ、Ｙの主軸駆動装
置２５，２６に供給されるようにして達成され
る。この場合の用語“軸”は、ＸあるいはＹのデ
カルト座標軸に沿うことを意味する。

送り路の修正はまた、第１１図に示すように、
可変利得増幅器２８を介し、そしてＸ，Ｙの補助
軸駆動装置２９，３０を介して、ワイアガイド５
が、ガイドアーム２に固定された変位検出器がも
はや偏り誤差△Ｘ、△Ｙを検出しないまで、ガイ
ドアーム２に対して修正されるように達成され
る。

従来技術の位置決め方法は、位置を検出し、電
極と被加工物の間を流れる電流を検出する目的
で、電極と被加工物の間に電圧を印加することに
基づいている。最初、電極と被加工物は互いに接
触しておらず、したがつてこれらの間に電流は流
れない。それから、電極は被加工物の方へ、両者
が互いに接触し、その結果電流が流れ、それが検
出されるまで変位する。その後、電極は前記接触
がなくなり、その結果電流が流れるのを停止する
まで被加工物から変位する。この電流遮断が検知
されると、電極の被加工物に対する電流位置は基
準位置の零となる。この公知の方法の欠点は電極
と被加工物の間を流れる電流が被加工物に好まし
くないスパークエロージヨンを引き起こすことで
ある。これに対し、ワイア電極に適用可能な本発
明によれば、電極と被加工物の間の位置検出のた
めに電圧は印加されない。したがつて、電極と被
加工物の間の位置を検出するための電流は流れな
い。この方法を「無電流位置決め方法」と称して
いる。電極１が電気的に導体あるいは被導体の基
準面（被加工物６またはワイア整列装置（図示せ
ず）方向へ動かされると、変位検出システム７は
誤差△Ｘ，△Ｙを示す。続いて、電極１は偏り△
Ｘ，△Ｙが再びゼロ値になるまで反対方向に動か
される。

偏り情報△Ｘ，△Ｙを得るための変位検出シス
テム７は、第４図に示すように、ワイア電極１ま
わりに、Ｘ，Ｙの主軸線方向に交差状に配置され
た４つのテスト電極９を含み、一方、加工領域に
供給される誘電体８は装置まわりに絶えず流れ
る。交流電圧電源が、ワイア電極１と各テスト電
極９との間に供給され、誘電体８を介してワイア
電極１とテスト電極９との間に流れる交流電流
は、第６図の絶対値形成器１４によつて整流され
測定される。

変位検出システム７は、第５図に示すように、
それぞれの場合、１つの光源１０とダブルの光セ
ンサ１１を含んでおり、これらは、偏りのない電
極１の場合、等しい幅の影領域が、ダブルの光セ
ンサ１１の両方のセンサ半体１１ａ，１１ｂに形
成され、そして偏つた電極１の場合、影領域が、
センサ半体１１ｂ上で減少されたのと同じ幅でセ
ンサ半体１１ａに広がるように、ワイヤ電極１の
まわりにＸ、Ｙの軸方向に配置されている。ダブ
ルの光センサ１１の、結果として変化する出力信
号は増幅器１６によつて測定され増幅される。

変位検出システム７の出力信号｜Ｘ＋｜，｜Ｘ
−｜，｜Ｙ＋｜，｜Ｙ−｜はそれぞれの場合、加算
器１８、増幅度0.5のインバータ１９、差分器１
７ならびに除算器２０を含むアナログコンピユー
タ２１によつて処理される。各軸方向Ｘ，Ｙの正
および負成分の平均値は、加算器１８、インバー
タ１９および差分器１７によつて演算される。こ
の平均値は正成分から差し引かれ、最終的に除算
器２０で平均値によつて除算される。

ところで、この変位検出システム７は非直線的
作動を示し、アナログコンピユータ２１の出力信
号△Ｘ，△Ｙと電極１の実際の偏りの間には非直
線関係がある。この非直線関係を補償するため
に、アナログ―デイジタル変換器２２とリードオ
ンリメモリ２３が設けられている。リードオンリ
メモリ２３には検出された偏り誤差△Ｘ，△Ｙに
対する修正された値が、デイジタル―アナログ変
換器２２の出力が示す記憶位置に予め記憶されて
いる。

各軸線方向Ｘ，Ｙ用のアナログコンピユータ２
１と可変利得増幅器２８は、変位検出システム７
の後段に接続される。可変利得増幅器２８は、ワ
イアガイド５、したがつてワイア電極１が、偏り
誤差△Ｘ，△Ｙがゼロの値に達するように変位検
出システム７に対して変位するように補助軸駆動
装置２９，３０を制御する。

本発明によつて得られる利点は、ワイア電極１
の各偏りあるいは変位が、反作用がなく正確に決
定され、偏りの修正が簡単に自動的に行なわれ得
ることである。大きくカーブしたカツテイング形
状の場合でさえも、最大な可能な加工速度を落と
す必要がない。さらに、本発明は、ワイア電極を
加工物の基準面に対して、あるいはワイア整列装
置に無電流で位置させることを初めて可能にして
いる。かくして、加工物、あるいはワイア配列装
置を損傷させることなく、より正確な位置決めが
達成される。

第１図は本発明によるワイアカツテイング装置
を示している。一般に、ワイア電極１は、第１の
ワイアボビン３から引張り応力によつて巻き戻さ
れ、加工物６内の加工領域を通過し、第２のワイ
アボビン３に巻かれている。ワイアカツテイング
用の誘電体８は一般に、１〜100μS／cmのコンダ
クタンスを有する処理された水であり、加工領域
内に通される。発生器によつて供給される加工パ
ルス＋Ｇ，−Ｇは、接点４を介する加工物６とワ
イア電極１との間に供給される。ワイアガイド５
の機能は、ワイア電極１を定められた位置に保持
することである。一般に、ワイアボビン３、接点
４およびガイド５はガイドアーム２に配置され
る。この装置全体が、所望のカツテイング形状に
したがつて、加工物に対して運動する。

ワイア電極１に与えられる最大の可能な引張応
力にかかわらず、加工力に依存して、ワイア電極
１は、図示されているように、約5μmと100μmと
の間に偏倚されたままになる。上方および下方の
変位検出システム７は、この変位、すなわち偏り
を決定するために使用される。変位検出システム
７はまたガイドアーム２に固定されている。

第２図はワイア電極１の拡大した断面図であ
る。点線はワイア電極１の静止位置を示し、他
方、実線の外かく線は、加工力により負荷のもと
での位置を示している。ワイア電極１はある方向
にａだけ変位し、それゆえＸならびにＹの主軸方
向の成分△Ｘ，△Ｙによつて、この変位誤差を測
定し、修正するという問題が存在する。

第３図は、変位ａが生じたとき何が起るかを与
えられたカーブ路Ａ−Ｂによつて示している。も
し何ら修正が行なわれない場合、カツト形状は、
著しく変位した路Ｃ−−Ｄ上に形成される。本発
明によると、ワイアガイド５は修正された路Ｅ−
Ｆを実行する。この路Ｅ−Ｆは、定められた路Ａ
−Ｂとは測定された量−ａ、すなわちその―△
Ｘ，―△Ｙだけ常に異なつている。したがつて、
加工物６のカツト形状は結果として所望の路Ａ−
Ｂと同じになる。

第４図は、変位検出システム７のための特にふ
さわしい測定方法を図示している。この方法は、
液体用の導電率測定セルとして知られている。交
流電圧が、２つの電極間に供給されると結論とし
て、セルの測定された電流と機械的大きさによつ
て、コンダクタンスが導かれる。

基本的な関係は、κ＝ｌ／Ｒ・Ａである。ここで、 κはコンダクタンス（μS／cm）、ｌは測定される
液体柱の長さ（cm）、Ａは測定される液体柱の断
面（cm²）、Ｒは電圧と電流とで定められる抵抗
（ＭΩ）である。

導電度測定セルにおいて測定された出力値はワ
イア１の変位に比例する。本実施例の装置におい
ては、４つの導電度測定セルがあり、各測定セル
について長さｌの値が算出される。

ワイア電極１は、４つ全部の測定セル用の共通
電極として働き、ワイア電極１のまわりに４つの
テスト電極９が、主軸方向Ｘ＋，Ｘ−，Ｙ＋，Ｙ
−に交差するように備えられている。１〜
100μS／cmのコンダクタンスを有する処理された
誘電体８は、装置全体を通つて流れる。セルの幾
何学的配置は、与えられたレンジのコンダクタン
スで、ワイア電極の変位が約５〜100μmである場
合、抵抗Ｒが約100Ω〜1MΩの範囲内で測定され
るように選ばれる。

第６図は、第４図の配列に対してふさわしい測
定回路を示している。たとえば10Vr.m.sの値で、
ライン周波数が50あるいは60Hzである交流電圧電
源が、電流供給手段４あるいは類似の手段によつ
てワイア電極１に供給され、１つの絶対値形成器
１４が、各々の場合、４つのテスト電極９に与え
られる。交流電圧は、ワイア電極１とテスト電極
９に対する腐食および摩耗のような電解効果を生
じさせないために使用されなければならない。使
用される周波数と電圧波形は２番目に重要なもの
であるが、交流電圧の対称性も重要である。交流
電圧源１２のr.m.s値はたとえば、第８図による
アナログコンピユータ２１を過負荷させないよう
に誘電体の導電率に適合される。絶対値形成器１
４の機能は、測定部の変化する抵抗器１３を流れ
る交流電流を整流し、これらの電流を電圧信号に
変換することである。かくして、４つの出力信号
｜Ｙ−｜，｜Ｙ＋｜，｜Ｘ−｜，｜Ｘ＋｜は正の値
をとる。絶対値形成器１４に関しては、デユセル
ドルフ／ニユーヨーク／（Dusseldorf／New
York）のマグロウヒル（McGraw―Hill）社発
行の、ジエラルドグラーム（Jerald Graeme）
著、オペレイシヨナルアンプリフアイアの応用
1973，127ページを参照されたい。

第５図は変位検出システム７用の他の適切な測
定方法を示している。各主軸方向Ｘ，Ｙ用の光源
１０とダブルの光センサ１１が、電極１によつて
生じる影が、静止位置で、センサ半体１１ａ，１
１ｂを均一におおうようにワイア電極１のまわり
に配置されている。偏り位置においては、影の非
対称によつて、対応する非対称な光強さをセンサ
半体１１ａ，１１ｂ上に引き起され、結果とし
て、対応する変化がこれら半体１１ａ，１１ｂの
出力信号に引き起される。光源１０は、電球ある
いは発光ダイオードからなるのが望ましい。ダブ
ルの光センサ１１はたとえば、米国、カルフオル
ニア、チヤツツワオース（Chatsworth）のセン
サテクノロジイ（Sensor Technology）社製の
STDD−210型のタブルの光ダイオードでよい。
この部品は20μmしか離れていない２つのフオト
ダイオードを含んでいる。知られているように、
フオトダイオードの場合、逆方向に供給される電
圧で逆電流を測定することにより、結果として、
光強さが導出される。与えられた周波数のパルス
状光源が光ダイオードに当たると、その出力は前
記周波数の信号成分を有し、通常さらに、前記周
波数の倍数の周波数の信号成分を有し、そして回
路キヤパシタと回路抵抗による信号の積分によつ
て生じるDC信号を有している。この装置では光
源１０はパルス状、たとえば１〜100KHzの周波
数で作動することができ、これによつてダブルの
光センサ１１を流れる交流電流成分を評価するこ
とができる。このように光源１０を高い周波数で
作動させることによつて、妨害ならびに混信によ
る影響が少なくなる。

第７図は、光センサ方法によつてどのように測
定が行なわれるかの１つの解を示している。たと
えば20Vの直流電圧源１５は、ダブルの光センサ
１１のフイトダイオードを逆電流の作用に服させ
る。出力信号Ｘ＋，Ｘ−，Ｙ＋，Ｙ−の流れか
ら、光強さにしたがつて、フオトダイオードの逆
電流は、増幅器１６によつて増幅され、アナログ
電圧信号｜Ｘ＋｜，｜Ｘ−｜，｜Ｙ＋｜，｜Ｙ−｜
に変換される。原理的には、これら信号は、第６
図の場合と同じタイプであり、両者はアナログコ
ンピユータ２１でさらに処理される。

アナログコンピユータ２１の機能は、誘電物８
のコンダクタンス、ワイア電極１の直径、光源１
０の強さ、ダブルの光センサ１１のエージング、
汚れ、温度ならびに似たような影響が取り除かれ
る、測定された値を準備することにある。このこ
とは、各軸線方向の２つの絶対値｜Ｘ＋｜，｜Ｘ
−｜の平均値が計算されることによつて達成され
る。この平均値は正の軸線方向の絶対値｜Ｘ＋｜
から差し引かれ、得られた正あるいは負の量は先
に計算された平均値と関連している。すなわち前
記の前に計算された平均値を前記の得られた正ま
たは負値から引き、この減算結果を前記の前に計
算された平均値によつて割ることによつて−１か
ら＋１に変わり得る相対誤差△Ｘが得られる。較
正によつて決定される定数（たとえば100μm）を
使用すると、実際の偏り△Ｘ（μm）は、相対誤差
を乗算することによつて求めることができる。ア
ナログコンピユータ２１はとにかく、たとえば−
10Vから＋10Vの電圧レベルで動作するので、上
記定数の計算は必要でなく、測定装置とアナログ
コンピユータ２１の全増幅度を、第１０図中のア
ナログーデイジタル変換器２２が、偏り、すなわ
ち変位に対応する修正デイジタル値を供給するよ
うに調整することで十分である。

第８図はアナログコンピユータ２１を示し、Ｘ
軸に対応するその一部は詳細に示され、Ｙ軸に対
応するその他の部はブロツク２１として表わされ
ている。

第９図は、Ｘ軸線計算をグラフ的に示してい
る。絶対値｜Ｘ＋｜および｜Ｘ−｜は、第８図に
示されている入力においてアナログコンピユータ
２１に出力され、加算器１８で加算される。この
加算器１８を反転するようにインバータ１９のそ
れに接続されており、インバータ１９は、その増
幅度Ａ＝0.5により加算値を２で割り、これが｜
Ｘ＋｜と｜Ｘ−｜の算術平均を与える。この平均
値は、差分器１７で絶対値｜Ｘ＋｜から差し引か
れる。〔第９図のブロツク図では、これは平均値
｜Ｘ＋｜＋｜Ｘ−｜／２の符号を変えて得られ、絶 対値｜Ｘ＋｜を加算している。〕これから成分△
Ｘが導かれ、これは正あるいは負の値を取り得る
が、先に述べた種々の妨害あるいは混信の影響を
有しており、これらは、除算回路２０で除算され
ることによつて抑えられる。出力端において、成
分△Ｘは正あるいは負の値として得られ、偏り誤
差の求められた成分△Ｘに比例して変化する。こ
れら妨害の影響が絶対値｜Ｘ＋｜と｜Ｘ−｜に均
一に作用すると仮定すると、除算の際これらは分
子ならびに分母に生じ、それゆえ小さくされ得
る。同一のアナログコンピユータ２１がＹ方向に
対しても備えられている。用いられる回路、すな
わち差分器１７、加算器１８ならびにインバータ
１９の説明のために、イギリス、ケンブリツチ大
学出版（Cam−bridge University Press）の本
“エンジニアのための電子工学”，1973，120〜
123，111ページを参照、他方除算器２０の場合
は、アール・シー・エー（RCA）社のハンドブ
ツク1975”リニア集積回路”No.SSD−201C，449
と450ページを参照されたい。

第１０図は、主軸駆動装置２５，２６による修
正のための装置を概略に示している。用語“主軸
駆動装置”は送りシステムを意味すると理解さ
れ、このシステムは、一般的に知られた態様で
は、数値制御システム２７によつて予め定められ
たワイア電極１と加工物６の間の相対移動を行な
う。変位検出システム７によつて測定されたワイ
ア電極１の偏りは、偏り誤差の成分△Ｘ，△Ｙに
アナログコンピユータ２１によつて供給される。
アナログ―デイジタル変換器２２によつて、この
アナログの偏り情報△Ｘは、たとえば８ビツトの
分解能で量子化される。かくして、たとえば、符
号を有する各1μmの128の等級が利用可能である。
このことから、ワイア電極１の最大測定可能な偏
りは全ての方向に128μmである。

変位検出システム７の起りうる非直線行動は、
対応する記憶位置の正しい値が、アナログ―デイ
ジタル変換器２２の出力信号△X′，△Y′の各ゆ
がめられたデイジタル値と組み合わされているこ
とによつてリードオンリメモリ２３によつて容易
に補償される。正しい値は、修正によつて決定さ
れうる。リードオンリメモリ２３はたとえば、８
×８ビツトのPROMである。

信号接続点２４で、△X′あるいは△Y′は偏り
誤差の指令値ＸあるいはＹに加算されて修正値Ｘ
＋△X′あるいはＹ＋△Y′が、Ｘ軸駆動装置２５
とＹ主軸駆動装置２６に送られる。信号接続点２
４はシンボルで示され、たとえば、デイジタルの
ワイアドレンの計算ロジツクからなり、あるいは
数値制御システム２７の普通に存在するプログラ
マブルコンピユータの小さなサブプログラムから
なり得る。

これと関して、マイクロプロセツサ、マルチプ
レツクサなどの現行の技術の助けで、要素２１，
２２，２３，２４における測定値処理の問題が、
純粋のソフトウエアベース上、すなわちコンピユ
ータのプログラミングのみによつて解決され得る
ということが指摘されなければならない。変位検
出システム７の４つの出力｜Ｘ＋｜，｜Ｘ−｜，｜
Ｙ＋｜，｜Ｙ−｜はそれから、アナログ―デイジ
タル変換器２２により、時間的にずらして調べら
れ、デイジタル値はプログラマブルコンピユータ
に供給される。それからコンピユータは、上述さ
れた測定値をデイジタル的に準備すると共に、信
号Ｘ＋△X′とＹ＋△Y′をＸ，Ｙ駆動装置２５，
２６に送る。

第１１図は、補助軸駆動装置２９，３０による
修正用の概略的な装置を示している。主軸駆動装
置２５，２６による、ワイア電極１に対して、加
工物６が既知の相対移動から離れて、付加的な小
さな補助軸駆動装置２９，３０が与えられ、これ
は、ガイドアーム２に対して、軸方向Ｘ，Ｙ、た
とえば±200μmだけ移動可能に並べられたワイア
ガイド５を修正することができる。変位検出シス
テム７はガイドアーム２に固定され、測定された
値の処理が第１０図のアナログコンピユータ２１
によつて実行行される。しかしながら、アナログ
の偏りの情報△Ｘ，△Ｙは、可変利得増幅器２８
に供給され、この増幅器２８は対応する制御信号
をＸ軸補助駆動装置３０とＹ軸補助駆動装置２９
に供給する。かくして、ワイアガイド５、したが
つてワイア電極１が、偏り誤差が小さくなり、偏
り情報△Ｘ，△Ｙが値ゼロに達するように調整さ
れる。

可変利得増幅器２８は、有利にはいわゆるPI
制御操作が与えられ、すなわちその出力信号が、
その入力信号△Ｘあるいは△Ｙに比例的、かつ一
体的に依存する操作が与えられている。〔なお、
これについての詳しい情報は可変利得増幅器の文
献から集められる。〕結果として、入力信号△Ｘ，
△Ｙの突然の変化は、出力に対応する突然の変化
となつてかえつてると共に、同じく極めて小さ
な、しかし非常に長い最大の増幅度の入力信号が
出力に供給される。このようにしてのみ、ワイア
電極１の位置を最適の早さと正確さで修正するこ
とが可能である。第１０図の装置は、電極１のカ
ーブ形状によつて変位検出システム７が加工物６
から無限に小さい距離に設備できないので、変位
検出システム７がもはや変位を測定しないのにも
かかわらず、残りの誤差が加工物６に残るという
欠点を有している。しかしながら、このことは、
可変利得増幅器２８に対するわずかな正のフイー
ドバツクによつて、すなわち、増幅器２８の入力
で偏り情報△Ｘあるいは△Ｙが、誤差が加工物６
上でゼロとなるように大きな形で表われるように
することによつて容易に補償される。第１１図の
装置は加工物６のいずれかのサイドのガイドアー
ム２の部品として適している。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の望ましい実施例にしたがう
ワイアカツテイング機械の概略部分断面の側面
図、第２図は第１図の機械のワイア電極を偏り位
置で示す断面図、第３図は、第２図の電極が従う
ようなカーブされた線の形状をグラフ的に示す
図、第４図は第１図の機械用の電解タイプ、ワイ
ア電極変位検出システムの断面図、第５図は第１
図の機械用の光センサタイプ、ワイア電極変位検
出システムの断面図、第６図は第４図のタイプの
検出システム用の略示的な回路図、第７図は第５
図のタイプの検出システム用の略示的な回路図、
第８図は、第６図ならびに第７図の回路の検出シ
ステムからの信号をアナログ電圧信号に処理する
ためのアナログコンピユータの概略的な回路図、
第９図は第８図の回路を有するアナログコンピユ
ータのための演算図、第１０図は第１図の機械の
ワイア電極路修正システムの操作を機能的に示す
図、第１１図は第１図の機械のワイア電極路の修
正システムの操作を機能的に示す図である。 １……ワイア電極、２……ガイドアーム、３…
…ワイアボビン、４……接点（電流供給）、６…
…加工物、７……変位検出システム、８……誘電
物、＋Ｇ、−Ｇ……加工パルス、△Ｘ，△Ｙ……偏
り（誤差）、ａ……変位、Ａ−Ｂ、Ｃ−Ｄ、Ｅ−
Ｆ……路、９……テスト電極、１０……光源、１
１……ダブルの光センサ、１１ａ，１１ｂ……セ
ンサ半体、１２……交流電圧源、１３……抵抗
器、１４……絶対値形成器、１５……直流電圧
源、１６……増幅器、１７……差分器、１８……
加算器、１９……インバータ、２０……除算回
路、２１……アナログコンピータ、２２……アナ
ログ―デイジタル変換器、２３……リードオンリ
メモリ、２４……信号接続点、２５，２６……主
軸駆動装置、２７……数値制御システム、２８…
…可変利得増幅器、２９，３０……補助軸駆動装
置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 導電性の材料からなる被加工物の放電加工装
   置であつて、前記被加工物６が置かれる加工台
   と、前記被加工物６を加工するワイヤ状の電極１
   と、被加工物６の上側に配置された上方のガイド
   ５と加工台の下側に配置れている下方のガイド５
   とからなる、前記電極１用の一対のガイドと、前
   記加工台と前記電極１の相対位置を変更し、それ
   によつて前記電極１に垂直な平面内を前記電極１
   が変位する変更手段とを有する放電加工装置にお
   いて、 上方のガイド５と被加工物６の隣接する表面の
   間に配置された上方の検出手段７と、下方のガイ
   ド５と加工台の隣接する表面の間に配置された下
   方の検出手段７とからなり、電極１のその規定さ
   れた位置からの偏りを検出する一対の検出手段が
   備えられ、前記上方および下方の検出手段７は、
   互いに直交し、前記電極１に垂直な平面に平行な
   平面内にある２つの方向の各々における前記偏り
   を検出して、電極１のその規定された位置からの
   前記偏りの大きさを測定するようになつており、 電極１と加工台の相対位置を制御する第１、第
   ２の制御手段１４，１６，２１，２２，２３，２
   ８とからなる一対の制御手段が備えられ、 第１の制御手段１４，１６，２１，２２，２
   ３，２８の入力が上方の検出手段７の出力に接続
   され、第２の制御手段１４，１６，２１，２２，
   ２３，２８の入力が下方の検出手段７の出力に接
   続されており、 第１および第２の制御手段１４，１６，２１，
   ２２，２３，２８の各出力は、前記加工台と前記
   電極１の間の相対位置を変更する前記手段に接続
   されていることを特徴とする放電加工装置。 ２ 相対位置を変更する前記手段が、前記ガイド
   ５を変位させることを制御可能な制御手段を含
   み、該制御手段の少なくとも１つの出力が、各ガ
   イド５の位置を変更する前記手段に接続されてい
   る特許請求の範囲第１項記載の放電加工装置。 ３ 各検出手段７が、電極１のまわりに交差して
   配置された４つのセンサ電極を含む、特許請求の
   範囲第１項記載の放電加工装置。 ４ 各検出手段７が、電極１のまわりに配置され
   ている光源１０とダブルの光センサ１１ａ，１１
   ｂを含む、特許請求の範囲第１項記載の放電加工
   装置。