JPS63258843A - 5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリ−ル化合物 - Google Patents
5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリ−ル化合物Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は2−ナフトエ酸アリール化合物に関し、特にハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料におけるシアン色素形成
カプラーの合成中間体として、また赤色光ないし赤外光
に吸収を持つインドフェノール色素の合成中間体として
重要な5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸アリール化合物に関するものである。
ロゲン化銀カラー写真感光材料におけるシアン色素形成
カプラーの合成中間体として、また赤色光ないし赤外光
に吸収を持つインドフェノール色素の合成中間体として
重要な5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸アリール化合物に関するものである。
(従来の技術)
ハロゲン化銀カラー写真感光材料に露光を与えた後1発
色現像することにより醸化された芳香族第一級アミン現
像主薬と色素形成カプラーとが反応し色画像が形成され
る。この色画像形成システムにおいては一般に減色法に
よる色再現法が用いられており、青、緑、赤を再現する
ためには、それぞれ補色の関係にあるイエロー、マゼン
タ、シアンの色画像が形成される。この中でシアン色素
形成カプラーとしては従来よりフェノール誘導体及びナ
フトール誘導体が広く用いられてきた。ところが、これ
らフェノール誘導体及びナフトール誘導体より得られる
インドフェノール色素による色画像の熱堅牢性は低く、
また疲労した漂白液または漂白定着液で処理することに
より色画像が還元退色を生じ易い欠点を有していた。そ
こでこれらの欠点を改良するために5位に置換アミノ基
を有するl−ナフトール型カプラーが提案された。
色現像することにより醸化された芳香族第一級アミン現
像主薬と色素形成カプラーとが反応し色画像が形成され
る。この色画像形成システムにおいては一般に減色法に
よる色再現法が用いられており、青、緑、赤を再現する
ためには、それぞれ補色の関係にあるイエロー、マゼン
タ、シアンの色画像が形成される。この中でシアン色素
形成カプラーとしては従来よりフェノール誘導体及びナ
フトール誘導体が広く用いられてきた。ところが、これ
らフェノール誘導体及びナフトール誘導体より得られる
インドフェノール色素による色画像の熱堅牢性は低く、
また疲労した漂白液または漂白定着液で処理することに
より色画像が還元退色を生じ易い欠点を有していた。そ
こでこれらの欠点を改良するために5位に置換アミノ基
を有するl−ナフトール型カプラーが提案された。
例えば特開昭60−237448号、同61−1536
40号及び同61−145557号において開示されて
いるカプラーである。さらに、これらのカプラー類から
得られるインドフェノール色素は従来のインドフェノー
ル色素に比べてはるかに堅牢であり、その吸収も赤色光
から赤外光に亙っており、例えばフィルター用色素や半
導体レーザーを用いた記録材料用色素としても有用であ
る。
40号及び同61−145557号において開示されて
いるカプラーである。さらに、これらのカプラー類から
得られるインドフェノール色素は従来のインドフェノー
ル色素に比べてはるかに堅牢であり、その吸収も赤色光
から赤外光に亙っており、例えばフィルター用色素や半
導体レーザーを用いた記録材料用色素としても有用であ
る。
前記特開昭60−237448号、同61−15364
0号及び回60−145557号によれば種々の5位の
置換基の中でも特にオキシカルボニルアミ7基またはス
ルホンアミド基で置換されたl−ナフトール型カプラー
が好ましいとされている。しかし、これらの合成法(以
下従来法という)は5−アミノ−1−ヒドロキシ−2−
ナフトエ酸と無水トリフルオロ酢酸との反応によりl−
ヒドロキシ−5−トリフルオロアセトアミド−2−ナフ
トエ酸としてアミン基を保護した後、p−ニトロフェニ
ルエステルとし、次いでアルキルアミンとの反応により
2位のカルボキシル基をアミド化する方法であり、その
後トリフルオロアセトアミド基を加水分解し、5−アミ
ノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アミドを得た後、
クロロギ酸エステルまたはスルホニルクロリドと反応さ
せることにより目的とするカプラーを得る方法である。
0号及び回60−145557号によれば種々の5位の
置換基の中でも特にオキシカルボニルアミ7基またはス
ルホンアミド基で置換されたl−ナフトール型カプラー
が好ましいとされている。しかし、これらの合成法(以
下従来法という)は5−アミノ−1−ヒドロキシ−2−
ナフトエ酸と無水トリフルオロ酢酸との反応によりl−
ヒドロキシ−5−トリフルオロアセトアミド−2−ナフ
トエ酸としてアミン基を保護した後、p−ニトロフェニ
ルエステルとし、次いでアルキルアミンとの反応により
2位のカルボキシル基をアミド化する方法であり、その
後トリフルオロアセトアミド基を加水分解し、5−アミ
ノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アミドを得た後、
クロロギ酸エステルまたはスルホニルクロリドと反応さ
せることにより目的とするカプラーを得る方法である。
(発りlが解決しようとする問題点)
しかし、上記従来法は工程数が多いばかりか。
高価で供給性の悪い無水トリフルオロ酢酸を単に保護基
として用いており、必ずしも好ましし1ものではなかっ
た(例えば特開昭60−237448号における例示力
゛プラー(3)の合成例及び特開昭61−153640
号における例示カプラー(6)の合成例)、この従来法
によるカプラーの合成スキームを図示すると以下の通り
となる。
として用いており、必ずしも好ましし1ものではなかっ
た(例えば特開昭60−237448号における例示力
゛プラー(3)の合成例及び特開昭61−153640
号における例示カプラー(6)の合成例)、この従来法
によるカプラーの合成スキームを図示すると以下の通り
となる。
(R)、R”;21!l!!基)
本発明の目的は、ト4換アミノー1−ナフトール型カプ
ラーと、さらにはこれより誘導されるインドフェノール
色素を少なし翫工程数でしかも安価に合成することを可
能にする新規な中間体を提供することにある。
ラーと、さらにはこれより誘導されるインドフェノール
色素を少なし翫工程数でしかも安価に合成することを可
能にする新規な中間体を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明の目的は下記式により表わされる2−ナフトエ酸
アリール化合物により達成される。
アリール化合物により達成される。
(式中、R1は炭素原子数2〜30のフルコキシカルポ
ニル基、炭素原子数7〜30の7リールオキシカルポニ
ル基、炭素原子数1〜30のアルキルスルホニル基およ
び炭素原子数6〜30の7リールスルホニル基からなる
群より選ばれたオキシカルボニル基またはスルホニル基
を表わし、R2はハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基
、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素原子数1〜3
0のフルコキシ基、炭素原子数1〜30/7−1六I1
7ギソ7;ド゛1tすトl÷W査阿子物i〜30のスル
ホンアミド基を表わし、Arは炭素原子数6〜30のア
リール基を表わし、文はθ〜3の整数を表わす、) 本発明の2−ナフトエ酸アリール化合物(I)を用いれ
ば、下記のように5−置換アミノ−1−ナフトール型カ
プラー(II )は短工程で安価に合成することができ
、さらに芳香族第一級アミン(例えばパラフェニレンジ
アミン誘導体やパラアミノフェノール誘導体等)の酸化
体とのカップリング反応や芳香族ニトリロ化合物の縮合
反応によりインドフェノール色素に誘導することができ
([) (1)(式中、R1
,R2及びArは前記と同じ意味をもち、Rはアルキル
基、アリール基などの置換基を示す、) 次に本発明の化合物について詳しく述べる。
ニル基、炭素原子数7〜30の7リールオキシカルポニ
ル基、炭素原子数1〜30のアルキルスルホニル基およ
び炭素原子数6〜30の7リールスルホニル基からなる
群より選ばれたオキシカルボニル基またはスルホニル基
を表わし、R2はハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基
、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素原子数1〜3
0のフルコキシ基、炭素原子数1〜30/7−1六I1
7ギソ7;ド゛1tすトl÷W査阿子物i〜30のスル
ホンアミド基を表わし、Arは炭素原子数6〜30のア
リール基を表わし、文はθ〜3の整数を表わす、) 本発明の2−ナフトエ酸アリール化合物(I)を用いれ
ば、下記のように5−置換アミノ−1−ナフトール型カ
プラー(II )は短工程で安価に合成することができ
、さらに芳香族第一級アミン(例えばパラフェニレンジ
アミン誘導体やパラアミノフェノール誘導体等)の酸化
体とのカップリング反応や芳香族ニトリロ化合物の縮合
反応によりインドフェノール色素に誘導することができ
([) (1)(式中、R1
,R2及びArは前記と同じ意味をもち、Rはアルキル
基、アリール基などの置換基を示す、) 次に本発明の化合物について詳しく述べる。
式(I)においてR1は前記のオキシカルボニル基また
はスルホニル基であり、より詳しくはハロゲン原子、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基
、アルキルチオ基もしくはアリーロキシ基で置換されて
いてもよい炭素原子数2〜30のアルコキシカルボニル
基(アルキル基の例としてメチル基、エチル基、n−プ
ロピルス(、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチ
ル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基
、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基
、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基
、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、オレイル基、
コレステリル基、n−テトラコシル基、クロロエチル基
、トリクロロエチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェネチル
基、p−ニトロベンジル基、4−メチルフェネチル基等
がある)、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アルケニ
ル基、アルキニル基もしくはアルコキシカルボニル基で
置換されていてもよい炭素原子a7〜30のアリーロキ
シカルボニル基(アリール基の例としてフェニル基、l
−ナフチル基、2−ナフチル基、p−トリル基1m−ト
リル、U、O−トリル基、4−クロロフェニル基、4−
二トロフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−t−
ブチルフェニル基、0−フェニルフェニル基、p−フェ
ニルフェニル基、4−メトキシカルボニルフェニル基、
ヘンタクロロフェニルU。
はスルホニル基であり、より詳しくはハロゲン原子、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基
、アルキルチオ基もしくはアリーロキシ基で置換されて
いてもよい炭素原子数2〜30のアルコキシカルボニル
基(アルキル基の例としてメチル基、エチル基、n−プ
ロピルス(、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチ
ル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基
、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基
、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基
、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、オレイル基、
コレステリル基、n−テトラコシル基、クロロエチル基
、トリクロロエチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェネチル
基、p−ニトロベンジル基、4−メチルフェネチル基等
がある)、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アルケニ
ル基、アルキニル基もしくはアルコキシカルボニル基で
置換されていてもよい炭素原子a7〜30のアリーロキ
シカルボニル基(アリール基の例としてフェニル基、l
−ナフチル基、2−ナフチル基、p−トリル基1m−ト
リル、U、O−トリル基、4−クロロフェニル基、4−
二トロフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−t−
ブチルフェニル基、0−フェニルフェニル基、p−フェ
ニルフェニル基、4−メトキシカルボニルフェニル基、
ヘンタクロロフェニルU。
4−ブロモフェニル基、4−クロロフェニル基等がある
。)、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニル基、ア
ルキニル基もしくはアリール基で置換されていてもよい
炭素原子数1〜30のフルキルスルホニル基(アルキル
基の例としてメチル基、エチル基、n−ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、n−ドデシル基、n−ヘ
キサデシル基、n−テトラコシル基、トリフルオロメチ
ル基、トリクロロメチル基、クロロエチル基、ブロモエ
チル基、3−クロロエチル基、3−ブロモエ4−J+/
茸 〃ロロメ手J+7− メトt・ンエ手117j−む
3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、ベ
ンジル基、フェネチル基等がある。)またはハロゲン原
子、ニトロ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、カルボン
アミド基もしくはスルホンアミド基で置換されていても
よい炭素原子数6〜30の7リールスルホニル基(アリ
ール基の例としてフェニル基、l−ナフチル基、2−ナ
フチル基、p−)リル基、m−トリル基、0−トリル基
、4−クロロフェニル基、4−プロモフェニ)L基、4
−二トロフェニル基、3−ニトロフェニル基、2−二ト
ロフェニル基、4−フルオロフェニル基、メシチル基、
2.5−ジクロロフェニル基、2.5−シクロヘキシル
基、4−クロロ−3−ニトロフェニル基、2−メトキシ
−5−二トロフェニル基、4−メトキシフェニル基、4
−7セトアミドフエニル基、4−クロロエチルフェニル
基、3.5−ジメトキシカルボニルフェニル基等がある
。)を表わす。
。)、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニル基、ア
ルキニル基もしくはアリール基で置換されていてもよい
炭素原子数1〜30のフルキルスルホニル基(アルキル
基の例としてメチル基、エチル基、n−ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、n−ドデシル基、n−ヘ
キサデシル基、n−テトラコシル基、トリフルオロメチ
ル基、トリクロロメチル基、クロロエチル基、ブロモエ
チル基、3−クロロエチル基、3−ブロモエ4−J+/
茸 〃ロロメ手J+7− メトt・ンエ手117j−む
3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、ベ
ンジル基、フェネチル基等がある。)またはハロゲン原
子、ニトロ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、カルボン
アミド基もしくはスルホンアミド基で置換されていても
よい炭素原子数6〜30の7リールスルホニル基(アリ
ール基の例としてフェニル基、l−ナフチル基、2−ナ
フチル基、p−)リル基、m−トリル基、0−トリル基
、4−クロロフェニル基、4−プロモフェニ)L基、4
−二トロフェニル基、3−ニトロフェニル基、2−二ト
ロフェニル基、4−フルオロフェニル基、メシチル基、
2.5−ジクロロフェニル基、2.5−シクロヘキシル
基、4−クロロ−3−ニトロフェニル基、2−メトキシ
−5−二トロフェニル基、4−メトキシフェニル基、4
−7セトアミドフエニル基、4−クロロエチルフェニル
基、3.5−ジメトキシカルボニルフェニル基等がある
。)を表わす。
式(I)で表わされる本発明の化合物においてR1は後
続の反応中7ミノ基を保護する一方、目的化合物である
カプラー(色素)中に存在して堅牢性向上などの機能を
有する。
続の反応中7ミノ基を保護する一方、目的化合物である
カプラー(色素)中に存在して堅牢性向上などの機能を
有する。
式(I)においてR2はハロゲン原子(フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、沃素原子等)、ニトロ基、アミノ基
、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ
基、炭素原子数1〜30のアルキル基(例えばメチル基
、エチル基、i−プロピル基、5ec−ブチル基、t−
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベン
ジル基、2−エチルヘキシル基、n−ドデシル基、トリ
フルオロメチル基等)、炭素原子数1〜30のアルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキ
シ基、ベンジルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等)、
炭素原子数1〜3oのカルボンアミド基(例えばアセト
アミド基、トリフルオロアセトアミド基、ベンズアミド
基、3−カルボキシプロパンアミド基、ペンタフルオロ
ベンズアミド基等)または炭素原子数1〜3oのスルホ
ンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、n−ブチ
ルスルホ77312人、ベンジルスルホンアミド基、n
−ドデシルスルホンアミド基、トリフルオロメチルスル
ホンアミド基、フェニルスルホンアミド基、p−トリル
スルホンアミド基、P−ドデシルスルホンアミド基、l
−ナフチルスルホンアミド基、ペンタフルオロフォニル
スルホンアミド基等)を表わす。
素原子、臭素原子、沃素原子等)、ニトロ基、アミノ基
、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ
基、炭素原子数1〜30のアルキル基(例えばメチル基
、エチル基、i−プロピル基、5ec−ブチル基、t−
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベン
ジル基、2−エチルヘキシル基、n−ドデシル基、トリ
フルオロメチル基等)、炭素原子数1〜30のアルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキ
シ基、ベンジルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等)、
炭素原子数1〜3oのカルボンアミド基(例えばアセト
アミド基、トリフルオロアセトアミド基、ベンズアミド
基、3−カルボキシプロパンアミド基、ペンタフルオロ
ベンズアミド基等)または炭素原子数1〜3oのスルホ
ンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、n−ブチ
ルスルホ77312人、ベンジルスルホンアミド基、n
−ドデシルスルホンアミド基、トリフルオロメチルスル
ホンアミド基、フェニルスルホンアミド基、p−トリル
スルホンアミド基、P−ドデシルスルホンアミド基、l
−ナフチルスルホンアミド基、ペンタフルオロフォニル
スルホンアミド基等)を表わす。
式(I)においてArは炭素原子数6〜3oの7リール
基(例えば、フェニル基、ナフチル基など)を表わし、
ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
ニトロ基、シアノ基、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、t−ブチル基等)、アリール基(例えばフェニ
ル基、4−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例え
ばメトキシ基、ニドキシ基、メトキシエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等)、アルコキシ
カルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、ベンジルチオ基等)、カルボンアミ
ド基(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基等)また
はスルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、
p−1リルスルホンアミド基等)でさらに置換されてい
てもよい。
基(例えば、フェニル基、ナフチル基など)を表わし、
ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
ニトロ基、シアノ基、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、t−ブチル基等)、アリール基(例えばフェニ
ル基、4−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例え
ばメトキシ基、ニドキシ基、メトキシエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等)、アルコキシ
カルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、ベンジルチオ基等)、カルボンアミ
ド基(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基等)また
はスルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、
p−1リルスルホンアミド基等)でさらに置換されてい
てもよい。
式(I)において文は0ないし3の整数を表わす、ここ
で文が複数のとき、R2は同じでも異なっていてもよい
。
で文が複数のとき、R2は同じでも異なっていてもよい
。
次に前記式(I)で表わされる化合物のうち本発明にお
いて好ましく用いられる化合物について述べる。
いて好ましく用いられる化合物について述べる。
式(I)においてR1は好ましくは炭素原子数1〜12
(さらに好ましくは2〜8)のアルコキシカルボニル基
、炭素原子数1〜16(さらに好ましくは2〜12)の
アルキルスルホニル基または炭素原子数6〜16(さら
に好ましくは6〜lO)の7リールスルホニル基である
。
(さらに好ましくは2〜8)のアルコキシカルボニル基
、炭素原子数1〜16(さらに好ましくは2〜12)の
アルキルスルホニル基または炭素原子数6〜16(さら
に好ましくは6〜lO)の7リールスルホニル基である
。
式(I)においてR2は好ましくはハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素
原子数1〜8のカルボンアミド基tf−1’)*II!
W−Z&1a、、Ottsw+自−−1−−77!−1
a1p、JLる。R2の置換位置は1位のヒドロキシル
基に対して6位または8位が好ましい。
ロ基、シアノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素
原子数1〜8のカルボンアミド基tf−1’)*II!
W−Z&1a、、Ottsw+自−−1−−77!−1
a1p、JLる。R2の置換位置は1位のヒドロキシル
基に対して6位または8位が好ましい。
式(I)においてArはフェニル基が好ましく1例えば
無置換のまたはハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1
〜8のアルキル基もしくは炭素原子数1〜8のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基である。
無置換のまたはハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1
〜8のアルキル基もしくは炭素原子数1〜8のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基である。
式(I)において文=0(すなわちR2で置換されない
)が最も好ましく、次いで1=1が好ましい。
)が最も好ましく、次いで1=1が好ましい。
以下に本発明に用いられる前記一般式により表わされる
化合物の具体例を示すが、本発明はこれR,−NH 表つづき 表つづき 表つづき 表つづき 表つづき ()内の数字はR2の置換位置を示す。
化合物の具体例を示すが、本発明はこれR,−NH 表つづき 表つづき 表つづき 表つづき 表つづき ()内の数字はR2の置換位置を示す。
式(I)で表わされる本発明の化合物は5−アミノ−1
−ナフタレンスルホン酸類のアルカリ融解によって得ら
れる5−アミノ−1−ナフトール類1またはさらにフル
ベージュミツト反応を行うことによって得られる5−ア
ミノ−1−ナフトール−2−カルボン酸類4を原料とし
て次のような〜 スキームで行われる。
−ナフタレンスルホン酸類のアルカリ融解によって得ら
れる5−アミノ−1−ナフトール類1またはさらにフル
ベージュミツト反応を行うことによって得られる5−ア
ミノ−1−ナフトール−2−カルボン酸類4を原料とし
て次のような〜 スキームで行われる。
段階(a)及び(C)の反応は、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミで化合物l又は
4にクロロギ酸エステル(C交C00R1) 、スルホ
ニルクロリド(R2SO4(11)または無水スルホン
醜(R502)20を作用させて行わせ、化合物2また
は化合物5を得る。このとき塩基としてピリジン、テト
ラメチル尿素、テトラメチルグアニジン、イミダゾール
等の弱塩基を用いてもよい。
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミで化合物l又は
4にクロロギ酸エステル(C交C00R1) 、スルホ
ニルクロリド(R2SO4(11)または無水スルホン
醜(R502)20を作用させて行わせ、化合物2また
は化合物5を得る。このとき塩基としてピリジン、テト
ラメチル尿素、テトラメチルグアニジン、イミダゾール
等の弱塩基を用いてもよい。
反応は窒素雰囲気中で行う。
クロロギ酸エステル、スルホニルクロリドまたは無水ス
ルホン酸の使用量は化合物1または4に対して0.1〜
5当量(モル比)好ましくは0.5〜1.5当量とし、
塩基を用いる場合、化合物1または4に対して0.1−
10当量好ましくは0.5〜5当量とする0反応温度は
一50℃〜150℃とする。
ルホン酸の使用量は化合物1または4に対して0.1〜
5当量(モル比)好ましくは0.5〜1.5当量とし、
塩基を用いる場合、化合物1または4に対して0.1−
10当量好ましくは0.5〜5当量とする0反応温度は
一50℃〜150℃とする。
1[?(b)ではジクロロメタン、クロロホルム、1.
2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ニトロヘンゼン
等の溶媒中で化合物ZにALiC交3、FeC1゜また
はT s Cl 4を触媒としてクロロギ酸アリールを
作用させて反応を行う、クロロギ酸アリールの使用量は
2に対して1−10当り好しくは1〜7当績である。触
媒の使用量は2に対して1〜10当是好ましくは2〜5
当ψである。
2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ニトロヘンゼン
等の溶媒中で化合物ZにALiC交3、FeC1゜また
はT s Cl 4を触媒としてクロロギ酸アリールを
作用させて反応を行う、クロロギ酸アリールの使用量は
2に対して1−10当り好しくは1〜7当績である。触
媒の使用量は2に対して1〜10当是好ましくは2〜5
当ψである。
反応温度は0〜200℃好ましくは30〜120℃であ
る。触媒としてはAILCfL3が好ましい。
る。触媒としてはAILCfL3が好ましい。
段階(d)ではアセトニトリル、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド等の溶媒中で化合物5とフェノ
ール類、ナフトール類とをチオニルクロライドまたはオ
キシ塩化リンを用いて縮合反応させ化合物3を得る。た
だし、チオニルクロライドのかわりにジシクロへキシル
カルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等の縮合剤
を用いてもよい、チオニルクロライド、オキシ塩化リン
または縮合剤の使用量は5に対して0.1〜10当量好
ましくは0.5〜2当量である。フェノール類またはナ
フトール類の5に対する使用量は0.5〜3当量好まし
くは0.8〜1.5当量である0反応温度は−50℃〜
150℃好ましくはO℃〜100℃である。
、ジメチルアセトアミド等の溶媒中で化合物5とフェノ
ール類、ナフトール類とをチオニルクロライドまたはオ
キシ塩化リンを用いて縮合反応させ化合物3を得る。た
だし、チオニルクロライドのかわりにジシクロへキシル
カルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等の縮合剤
を用いてもよい、チオニルクロライド、オキシ塩化リン
または縮合剤の使用量は5に対して0.1〜10当量好
ましくは0.5〜2当量である。フェノール類またはナ
フトール類の5に対する使用量は0.5〜3当量好まし
くは0.8〜1.5当量である0反応温度は−50℃〜
150℃好ましくはO℃〜100℃である。
(発明の効果)
本発明の化合物は熱に対する堅牢性など性能の優れるイ
ンドフェノール色素を形成する5−置換アミノ−1−ナ
フトール型カプラーの合成中間体として有用である。こ
の化合物によれば5−22換アミノ−1−ナフトール型
カプラーおよびこれより誘導されるインドフェノール色
素を少ない工程数でしかも安価に合成することができる
。
ンドフェノール色素を形成する5−置換アミノ−1−ナ
フトール型カプラーの合成中間体として有用である。こ
の化合物によれば5−22換アミノ−1−ナフトール型
カプラーおよびこれより誘導されるインドフェノール色
素を少ない工程数でしかも安価に合成することができる
。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
J l ス 45−アミノ
−1−ナフトール79.6g(0,5モル)をジメチル
アセトアミド500m1に溶解し、窒素気流下50℃に
加熱し、クロロギ酸イソブチル68 、3 g(0,5
モル)を滴下した。3時間加熱攪拌の後、反応液を11
の水にあけ、500m1の酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチルを留去した後酢酸エチル−n−へ午サン混合溶媒
にて晶析することにより5−イソブトキシカルボニルア
ミノ−1−ナフトールを108.9g (収率84%)
得た。融点は114〜115.5℃であった。
−1−ナフトール79.6g(0,5モル)をジメチル
アセトアミド500m1に溶解し、窒素気流下50℃に
加熱し、クロロギ酸イソブチル68 、3 g(0,5
モル)を滴下した。3時間加熱攪拌の後、反応液を11
の水にあけ、500m1の酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチルを留去した後酢酸エチル−n−へ午サン混合溶媒
にて晶析することにより5−イソブトキシカルボニルア
ミノ−1−ナフトールを108.9g (収率84%)
得た。融点は114〜115.5℃であった。
次に窒1g気波下クロロギ酸フェニル93.9g(0,
6モル)と塩化アルミニウムgo、og(o、eモル)
をジクロロメタン500mJLに溶解させた。5−イン
ブトキシカルボニルアミノ−1−ナフトール51 、9
g (0,2モル)を添加し。
6モル)と塩化アルミニウムgo、og(o、eモル)
をジクロロメタン500mJLに溶解させた。5−イン
ブトキシカルボニルアミノ−1−ナフトール51 、9
g (0,2モル)を添加し。
40℃で7時間還流させた後、室温まで冷却し、500
mJlの氷水に注加した。さらに、ジクロロメタン11
を加え、分液し、ジクロロメタン層を2文三つロフラス
コに取り出した。ジクロロメタンを減圧留去した後、酢
酸エチル200mjLを加え、40〜50℃に加熱し、
アセトニトリル600mJLを徐々に加えた。析出した
結晶をろ過して5−インブトキシカルボニルアミノ−1
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸フェニルすなわち例示化
合物(4)56.9g(収率75%)を得た。
mJlの氷水に注加した。さらに、ジクロロメタン11
を加え、分液し、ジクロロメタン層を2文三つロフラス
コに取り出した。ジクロロメタンを減圧留去した後、酢
酸エチル200mjLを加え、40〜50℃に加熱し、
アセトニトリル600mJLを徐々に加えた。析出した
結晶をろ過して5−インブトキシカルボニルアミノ−1
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸フェニルすなわち例示化
合物(4)56.9g(収率75%)を得た。
この化合物の融点は148.5〜149.5℃であった
。
。
宝 鍋−例 2 例示イトンb蜘 (1)
の4btt実施例1におけるクロロギ酸イソブチルのか
わりにクロロギ酸メチルを用いた他は実施例1と同様に
してl−ヒドロキシ−5−メトキシカルボニルアミノ−
2−ナフトエ酸フェニルすなわち例示化合物(1)を得
た。この化合物の融点は172〜173.5℃であった
。
の4btt実施例1におけるクロロギ酸イソブチルのか
わりにクロロギ酸メチルを用いた他は実施例1と同様に
してl−ヒドロキシ−5−メトキシカルボニルアミノ−
2−ナフトエ酸フェニルすなわち例示化合物(1)を得
た。この化合物の融点は172〜173.5℃であった
。
−3ス −2の ・
実施例1におけるクロロギ酸イソブチルのかわりにクロ
ロギ酸エチルを用いた他は実施例1と同様にして5−エ
トキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸フェニルすなわち例示化合物(2)を得た。この化
合物の融点は151〜153℃であった。
ロギ酸エチルを用いた他は実施例1と同様にして5−エ
トキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸フェニルすなわち例示化合物(2)を得た。この化
合物の融点は151〜153℃であった。
−4六ヒ 4 の1゛
5−アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸40 、
6 g(0,2モル)を400mfL(7)ジメチルア
セトアミドに溶解し、窒素気流下50℃に加熱し、クロ
ロギ酸イソブチル27 、3 g(0,2モル)を滴下
した。3時間加熱攪拌の後室温に冷却し。
6 g(0,2モル)を400mfL(7)ジメチルア
セトアミドに溶解し、窒素気流下50℃に加熱し、クロ
ロギ酸イソブチル27 、3 g(0,2モル)を滴下
した。3時間加熱攪拌の後室温に冷却し。
水500m1を加えた。析出した結晶をろ過、乾燥し、
次いで500mJJの酢酸エチルに溶解し活性炭10g
を加え30分間加熱還流した。ろ過により活性炭を除去
した後酢酸エチルの約%を留去し500+nQのアセト
ニトリルを加え冷却した。
次いで500mJJの酢酸エチルに溶解し活性炭10g
を加え30分間加熱還流した。ろ過により活性炭を除去
した後酢酸エチルの約%を留去し500+nQのアセト
ニトリルを加え冷却した。
析出した結晶をろ過することにより5−インブトキシカ
ルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸49
.1g(収率81%)を得た。この化合物の融点は20
5〜208℃であった。
ルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸49
.1g(収率81%)を得た。この化合物の融点は20
5〜208℃であった。
5−インブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸30.3g(0,1モル)及びフェノー
ル9.4g(0,1モル)にアセトニトリル200mj
l及びジメチルホルムアミド2mlを加え、塩化チオニ
ル15.0gを滴下し3時間が熱還流した。室温まで冷
却し析出した結晶をろ過することにより5−インブトキ
シカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸
フェニルすなわち例示化合物(4)を33 、4g(収
率88%)得た。この化合物の融点は144−146℃
であった。
2−ナフトエ酸30.3g(0,1モル)及びフェノー
ル9.4g(0,1モル)にアセトニトリル200mj
l及びジメチルホルムアミド2mlを加え、塩化チオニ
ル15.0gを滴下し3時間が熱還流した。室温まで冷
却し析出した結晶をろ過することにより5−インブトキ
シカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸
フェニルすなわち例示化合物(4)を33 、4g(収
率88%)得た。この化合物の融点は144−146℃
であった。
−5バヒ 5
実111s例4のフェノールのかわりにP−ニトロフェ
ノールを用いた他は実施例4と同様にして5−インブト
キシカルボニルアミノ− シ−2−ナフトエ酸2−二トロフェニルすなわち ・例
示化合物(5)を81%の収率で得た.この化合物の融
点は193〜194℃であった。
ノールを用いた他は実施例4と同様にして5−インブト
キシカルボニルアミノ− シ−2−ナフトエ酸2−二トロフェニルすなわち ・例
示化合物(5)を81%の収率で得た.この化合物の融
点は193〜194℃であった。
二 ′ 6 六ヒ 6 の
実施例4のクロロギ酸イソブチルのかわりにクロロギ酸
n−ブチルを用いた他は実施例4と同様にして5−n−
ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフ
トエ酸を収率74%で得た.融点は201〜203℃で
あった.次いで実施例4のフェノールのかわりにp−ク
レゾールを用いた他は実施例4と同様にして5−n−ブ
トキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸p−クレジルすなわち例示化合物(6)を70%の
収率で得た.この化合物の融点は124〜125℃であ
った。
n−ブチルを用いた他は実施例4と同様にして5−n−
ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフ
トエ酸を収率74%で得た.融点は201〜203℃で
あった.次いで実施例4のフェノールのかわりにp−ク
レゾールを用いた他は実施例4と同様にして5−n−ブ
トキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸p−クレジルすなわち例示化合物(6)を70%の
収率で得た.この化合物の融点は124〜125℃であ
った。
7 ;% 、 12
5−アミノ−l−ヒドロキー2−ナフトエ酸40、6g
(0.2モル)をジメチルアセトフシ1400m又に溶
解し、窒素気流下50℃に加熱し、クロロギ#2ーエチ
ルヘキシル38.5g(0.2モル)を滴化した.3時
間加熱攪拌の後、水Inに注加し,500mJlの酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル溶液を500m4の木で2
回洗浄した.酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥の後活性炭1
0gを加え30分間加熱還流した.ろ過により活性炭を
除去した後、酢酸エチルを留去し,残渣にアセトニトリ
ル500mMを加え晶析した.析出した結晶をろ過する
ことにより5−(2−エチルへキシルオキシカルボニル
アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸60.Og(
収率83.5%)を得た.この化合物の融点170〜1
73℃であった・ 5−(2−エチルへキシルオキシカルボニルアミノ)−
1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸18.Og(0.05
モル)。
(0.2モル)をジメチルアセトフシ1400m又に溶
解し、窒素気流下50℃に加熱し、クロロギ#2ーエチ
ルヘキシル38.5g(0.2モル)を滴化した.3時
間加熱攪拌の後、水Inに注加し,500mJlの酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル溶液を500m4の木で2
回洗浄した.酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥の後活性炭1
0gを加え30分間加熱還流した.ろ過により活性炭を
除去した後、酢酸エチルを留去し,残渣にアセトニトリ
ル500mMを加え晶析した.析出した結晶をろ過する
ことにより5−(2−エチルへキシルオキシカルボニル
アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸60.Og(
収率83.5%)を得た.この化合物の融点170〜1
73℃であった・ 5−(2−エチルへキシルオキシカルボニルアミノ)−
1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸18.Og(0.05
モル)。
フェノール5 、 6 g (0.06モル)及びジメ
チル+II/ ム 7 S V ? m O
L= 7J# k −= k 11 +
シ9 n n rn 0を加え,加熱量流下塩
化チオニル7 、 5 g (0.06モル)を滴下し
、2時間が熱還流した.反応液を冷却し,析出した結晶
をろ過することにより5−(2−エチルヘキシルカルボ
ニルアミノ)−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸フェニ
ルすなわち例示化合物(12)を18.9g(収率87
%)得た。
チル+II/ ム 7 S V ? m O
L= 7J# k −= k 11 +
シ9 n n rn 0を加え,加熱量流下塩
化チオニル7 、 5 g (0.06モル)を滴下し
、2時間が熱還流した.反応液を冷却し,析出した結晶
をろ過することにより5−(2−エチルヘキシルカルボ
ニルアミノ)−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸フェニ
ルすなわち例示化合物(12)を18.9g(収率87
%)得た。
この化合物の融点は83〜85℃であった。
二l 8 ス
135−(2−エチルへキシルオキシカルボニルアミノ
)−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸tg.og(o.
o5モル)、P−クロロフェノール7 、 7 g
(0.08モル)及びジメチルホルムアミド2mJlに
アセトニトリル200mlを加え、加熱量流下塩化チオ
ニル?.5g (0.08モル)を滴下し、2時間加熱
還流した.反応液を冷却し、析出した結晶をろ過するこ
とにより5−(2−エチルへキシルオキシカルボニルア
ミノ)−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸p−クロロフ
ェニルすなわち例示化合物(13)を16.7g(収率
71.1%)得た.この化合物の融点は108〜111
℃であった。
135−(2−エチルへキシルオキシカルボニルアミノ
)−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸tg.og(o.
o5モル)、P−クロロフェノール7 、 7 g
(0.08モル)及びジメチルホルムアミド2mJlに
アセトニトリル200mlを加え、加熱量流下塩化チオ
ニル?.5g (0.08モル)を滴下し、2時間加熱
還流した.反応液を冷却し、析出した結晶をろ過するこ
とにより5−(2−エチルへキシルオキシカルボニルア
ミノ)−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸p−クロロフ
ェニルすなわち例示化合物(13)を16.7g(収率
71.1%)得た.この化合物の融点は108〜111
℃であった。
−49六ヒ 15の。
5−アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸20 、
3 g(0,1モル)をジメチルアセトアミド200m
Mに溶解し、窒素気流下50℃でクロロギ酸フェニル1
5.7g(0,1モル)を滴下した。4時間攪拌の後5
00mjLの水を加え300m1の酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル溶液を200mJ1の水で2回洗浄した
。酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥した後活性炭5gを加え
30分間加熱還流した。活性炭をろ過により除去した後
濃縮し、アセトニトリル200mJLを加えて晶析した
。析出した結晶をろ過することにより!−ヒドロキシー
5−フェノキシカルボニルアミノ−2−ナフトエ酸27
.5g (収率85%)を得た。この化合物の融点は2
25〜226.5℃であった。
3 g(0,1モル)をジメチルアセトアミド200m
Mに溶解し、窒素気流下50℃でクロロギ酸フェニル1
5.7g(0,1モル)を滴下した。4時間攪拌の後5
00mjLの水を加え300m1の酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル溶液を200mJ1の水で2回洗浄した
。酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥した後活性炭5gを加え
30分間加熱還流した。活性炭をろ過により除去した後
濃縮し、アセトニトリル200mJLを加えて晶析した
。析出した結晶をろ過することにより!−ヒドロキシー
5−フェノキシカルボニルアミノ−2−ナフトエ酸27
.5g (収率85%)を得た。この化合物の融点は2
25〜226.5℃であった。
■−ヒドロキシー5−フェノキシカルボニルアミノ−2
−ナフトエ酸16.2g(0,05モル)、フェノール
5.2g(0゜055モル)及びジメチルホルムアミド
2mにアセトニトリル200mJlを加え、加熱量流下
塩化チオニル6 、5 g (0,055モル)を滴下
し、2時間加熱還流した0反応液を冷却し析出した結晶
をろ過することによりl−ヒドロキシ−5−フェノキシ
カルボニルアミノ−2−ナフトエ酸フェニルすなわち例
示化合物(15)を16 、2 g(収率81%)得た
。この化合物の融点は172〜175℃であった。
−ナフトエ酸16.2g(0,05モル)、フェノール
5.2g(0゜055モル)及びジメチルホルムアミド
2mにアセトニトリル200mJlを加え、加熱量流下
塩化チオニル6 、5 g (0,055モル)を滴下
し、2時間加熱還流した0反応液を冷却し析出した結晶
をろ過することによりl−ヒドロキシ−5−フェノキシ
カルボニルアミノ−2−ナフトエ酸フェニルすなわち例
示化合物(15)を16 、2 g(収率81%)得た
。この化合物の融点は172〜175℃であった。
ど° lOスし 19
実施例9におけるクロロギ酸フェニルのかわりにクロロ
ギ酸2−メトキシエチルにかえた他は実施例9と同様に
してl−ヒドロキシ−5−(2−メトキシエトキシカル
ボニルアミノ)−2−ナフトエ酸を収率89%で得た。
ギ酸2−メトキシエチルにかえた他は実施例9と同様に
してl−ヒドロキシ−5−(2−メトキシエトキシカル
ボニルアミノ)−2−ナフトエ酸を収率89%で得た。
融点は199〜202℃であった。さらに実施例9と同
様にして1−ヒドロキシ−5−(2−メトキシエトキシ
カルボニルアミノ)−2−ナフトエ酸フェニルすなわち
例示化合物(18)を収率75%で得た。融点は120
−122℃であった。
様にして1−ヒドロキシ−5−(2−メトキシエトキシ
カルボニルアミノ)−2−ナフトエ酸フェニルすなわち
例示化合物(18)を収率75%で得た。融点は120
−122℃であった。
一シー 11 へヒ 31の
実施例9におけるクロロギ酸フェニルのかわりにトシル
クロライドを用いた他は実施例9と同様にして1−ヒド
ロキシ−5−トリルスルホンアミド−2−ナフトエ酸を
収率81%で得た。融点は230〜2315℃であった
。さらに実施例9と同様にしてl−ヒドロキシ−5−ト
リルスルホンアミド−2−ナフトエ酸フェニルすなわち
例示化合物(31)を収率85%で得た。融点は249
〜251”C!であった。
クロライドを用いた他は実施例9と同様にして1−ヒド
ロキシ−5−トリルスルホンアミド−2−ナフトエ酸を
収率81%で得た。融点は230〜2315℃であった
。さらに実施例9と同様にしてl−ヒドロキシ−5−ト
リルスルホンアミド−2−ナフトエ酸フェニルすなわち
例示化合物(31)を収率85%で得た。融点は249
〜251”C!であった。
クニ ° 12 バ −23の実施例9におけ
るクロロギ酸フェニルのかわりにメチルスルホニルクロ
ライドを、フェノールのかわりにp−ニトロフェノール
をそれぞれ用いた他は実施例9と同様にして1−ヒドロ
キシ−5−メチルスルホンアミド−2−ナフトエ酸p−
ニトロフェニルを収率83%で得た。
るクロロギ酸フェニルのかわりにメチルスルホニルクロ
ライドを、フェノールのかわりにp−ニトロフェノール
をそれぞれ用いた他は実施例9と同様にして1−ヒドロ
キシ−5−メチルスルホンアミド−2−ナフトエ酸p−
ニトロフェニルを収率83%で得た。
合成したこれらの化合物の構造はNMRスペクトル、M
ASSスペクトル及び元素分析により決定した。
ASSスペクトル及び元素分析により決定した。
rl、1l114に41
以下に本発明の化合物の応用例を示す。
本発明の例示化合物(23)20 、1 g (0,0
5モル)及び3− (2、4−ジ−t−ペンチルフェノ
キシ)プロピルアミンl 6 、 Og (0,055
モル)にアセトニトリル300m1を加え2時間加熱還
流した0反応液を徐々に撹拌しながら冷却し、析出した
結晶をろ過することにより5−メチフレスルホンアミド
−2−(N−3−(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキ
シ)プロピルカル/くモイルツー1−ナフトールすなわ
ち特開昭60−237448号に記載の例示カプラー(
3)を25.8g (収率93%)得た。この化合物の
融点は182〜182.5℃であった。
5モル)及び3− (2、4−ジ−t−ペンチルフェノ
キシ)プロピルアミンl 6 、 Og (0,055
モル)にアセトニトリル300m1を加え2時間加熱還
流した0反応液を徐々に撹拌しながら冷却し、析出した
結晶をろ過することにより5−メチフレスルホンアミド
−2−(N−3−(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキ
シ)プロピルカル/くモイルツー1−ナフトールすなわ
ち特開昭60−237448号に記載の例示カプラー(
3)を25.8g (収率93%)得た。この化合物の
融点は182〜182.5℃であった。
本発明の例示化合物(2) 17 、6 g (0,0
5モル)及び3− (2、4−ジ−t−ペンチルフェノ
キシ)プロピルアミンl 6 、 Og (0,055
モル)にアセトニトリル300 m lを加え3時間加
熱還流した0反応液を撹拌しながら徐々に冷却し、析出
した結晶をろ過することにより5−エトキシカルボニル
アミノ−2−(N−3−(2,4−ジ−t−ペンチルフ
ェノキシ)−プロピルカルバモイル〕−1−ナフトール
すなわち特開昭61−153640号に記載の例示カプ
ラー(6)を2s、2gc収率89%)得た。この化合
物の融点は135〜137℃であった。
5モル)及び3− (2、4−ジ−t−ペンチルフェノ
キシ)プロピルアミンl 6 、 Og (0,055
モル)にアセトニトリル300 m lを加え3時間加
熱還流した0反応液を撹拌しながら徐々に冷却し、析出
した結晶をろ過することにより5−エトキシカルボニル
アミノ−2−(N−3−(2,4−ジ−t−ペンチルフ
ェノキシ)−プロピルカルバモイル〕−1−ナフトール
すなわち特開昭61−153640号に記載の例示カプ
ラー(6)を2s、2gc収率89%)得た。この化合
物の融点は135〜137℃であった。
・ 3 イントラ /−ルbニーの
応用例1において合成した例示カプラー(3)5 、5
g (0,01モル)に酢酸エチル50m1及びエ
タノール50mjLを加え撹拌し、炭酸カリウム13.
8g (0,1モ/l/) c7)水100mJl溶液
を加え、さらに4−〔N−エチル−N−(2−メチルス
ルホンアミドエチル)アミノコ−2−メチルアニリン硫
酸塩8.7gを加えた0反応液に過硫酸アンモニウム6
、8 g (0,03モル)の水100mJl溶液を
滴下し、酢酸エチル層を分液した。酢酸エチルを留去し
、シリカゲルを充てんしたクロマトカラムを用いエタノ
ール−クロロホルム混合溶媒を用いて展開し1色素部分
を分画した後濃縮し、アセトニトリルより晶析すること
により下記構造のインドフェノール色素を5−9g (
収率72%)得た。この化合物の融点は158〜160
.5℃であり、酢酸エチル中での最大吸収波長(λ■a
x)は675mm最大吸光係数(e saw)は2.5
8X10’であった。
g (0,01モル)に酢酸エチル50m1及びエ
タノール50mjLを加え撹拌し、炭酸カリウム13.
8g (0,1モ/l/) c7)水100mJl溶液
を加え、さらに4−〔N−エチル−N−(2−メチルス
ルホンアミドエチル)アミノコ−2−メチルアニリン硫
酸塩8.7gを加えた0反応液に過硫酸アンモニウム6
、8 g (0,03モル)の水100mJl溶液を
滴下し、酢酸エチル層を分液した。酢酸エチルを留去し
、シリカゲルを充てんしたクロマトカラムを用いエタノ
ール−クロロホルム混合溶媒を用いて展開し1色素部分
を分画した後濃縮し、アセトニトリルより晶析すること
により下記構造のインドフェノール色素を5−9g (
収率72%)得た。この化合物の融点は158〜160
.5℃であり、酢酸エチル中での最大吸収波長(λ■a
x)は675mm最大吸光係数(e saw)は2.5
8X10’であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記式で表わされる2−ナフトエ酸アリール化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は炭素原子数2〜30のアルコキシカル
ボニル基、炭素原子数7〜30のアリールオキシカルボ
ニル基、炭素原子数1〜30のアルキルスルホニル基お
よび炭素原子数6〜30のアリールスルホニル基からな
る群から選ばれたオキシカルボニル基またはスルホニル
基を表わし、R_2はハロゲン原子、ニトロ基、アミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、シア
ノ基、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素原子数1
〜30のアルコキシ基、炭素原子数1〜30のカルボン
アミド基または炭素原子数1〜30のスルホンアミド基
を表わし、Arは炭素原子数6〜30のアリール基を表
わし、lは0〜3の整数を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62093802A JPH0723353B2 (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリ−ル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62093802A JPH0723353B2 (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリ−ル化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63258843A true JPS63258843A (ja) | 1988-10-26 |
JPH0723353B2 JPH0723353B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=14092544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62093802A Expired - Fee Related JPH0723353B2 (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 5−置換アミノ−1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリ−ル化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0723353B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03218367A (ja) * | 1989-10-26 | 1991-09-25 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | ナフチルオキサゾリドン誘導体、その製法及びその合成中間体 |
US6605124B1 (en) | 1999-01-21 | 2003-08-12 | L'oreal S.A. | Cationic couplers and their use for oxidation dyeing |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61179437A (ja) * | 1985-08-09 | 1986-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真色素像の形成方法 |
JPS61179438A (ja) * | 1986-02-03 | 1986-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真色素像の形成方法 |
-
1987
- 1987-04-16 JP JP62093802A patent/JPH0723353B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61179437A (ja) * | 1985-08-09 | 1986-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真色素像の形成方法 |
JPS61179438A (ja) * | 1986-02-03 | 1986-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真色素像の形成方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03218367A (ja) * | 1989-10-26 | 1991-09-25 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | ナフチルオキサゾリドン誘導体、その製法及びその合成中間体 |
JP2601008B2 (ja) * | 1989-10-26 | 1997-04-16 | 田辺製薬株式会社 | ナフチルオキサゾリドン誘導体、その製法及びその合成中間体 |
US6605124B1 (en) | 1999-01-21 | 2003-08-12 | L'oreal S.A. | Cationic couplers and their use for oxidation dyeing |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0723353B2 (ja) | 1995-03-15 |
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