JPS63255281A - (1r,5s,6s)−2−〔(ピラジニウム−2−イル)メチル〕チオ−6−〔(r)−1−ヒドロキシエチル〕−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレ−ト - Google Patents
(1r,5s,6s)−2−〔(ピラジニウム−2−イル)メチル〕チオ−6−〔(r)−1−ヒドロキシエチル〕−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレ−トInfo
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はカルバペネム系抗生物質に関し、さらに詳細に
は、カルバペネム骨格の1位にβ−配置のメチル基が導
入され且つ2位に第四級アンモニウム官能基である(ピ
ラジニウム−2−イル)メチルチオ基が導入された1β
−メチル−カルバペネム誘導体、該化合物を有効成分と
して含有する抗菌剤ならびに該化合物の製造方法に関す
る。
は、カルバペネム骨格の1位にβ−配置のメチル基が導
入され且つ2位に第四級アンモニウム官能基である(ピ
ラジニウム−2−イル)メチルチオ基が導入された1β
−メチル−カルバペネム誘導体、該化合物を有効成分と
して含有する抗菌剤ならびに該化合物の製造方法に関す
る。
[従来の技術と問題点]
従来上り、種々の抗菌活性を目的として次式():
で示されるカルパー2−べ冬ムー3−カルボン酸を基本
骨格とするカルバペネム系抗生物質は多数提案されてい
る。
骨格とするカルバペネム系抗生物質は多数提案されてい
る。
例えば初期のカルバペネム系抗生物質は、ストレプトミ
セス・カトレヤ(S treptomyces ca
ttleya)の発酵より得られる次式(B):で示さ
れるチェナマイシンのような天然白米のカルバペネム化
合物である。このチェナマイシンは広範囲にわたるダラ
ム陽性薗、ダラム陰性薗に対し、優れた抗菌スペクトラ
ムを有し、有用性の高い化合物としてその開発が期待さ
れたものの、化学的安定性が悪く、実用化されるまでに
は至っていない。
セス・カトレヤ(S treptomyces ca
ttleya)の発酵より得られる次式(B):で示さ
れるチェナマイシンのような天然白米のカルバペネム化
合物である。このチェナマイシンは広範囲にわたるダラ
ム陽性薗、ダラム陰性薗に対し、優れた抗菌スペクトラ
ムを有し、有用性の高い化合物としてその開発が期待さ
れたものの、化学的安定性が悪く、実用化されるまでに
は至っていない。
そのため多くの研究者は、上記式で示されるチェナマイ
シンの抗菌活性を保有し且つその化学的安定性が確保さ
れたカルバペネム化合物を開発するために努力し、その
結果、チェナマイシンの2位側鎖のアミ7基をホルムイ
ミドイル化した次式(): で示されるイミペネム(imipenem;I N N
)が実用的抗菌剤として登場するに至った。
シンの抗菌活性を保有し且つその化学的安定性が確保さ
れたカルバペネム化合物を開発するために努力し、その
結果、チェナマイシンの2位側鎖のアミ7基をホルムイ
ミドイル化した次式(): で示されるイミペネム(imipenem;I N N
)が実用的抗菌剤として登場するに至った。
しかし、上記式(C)で示されるイミペネムは、チェナ
マイシンより優れた抗菌活性を示し、化学的安定性はあ
る程度確保されているものの、生体内において腎デヒド
ロペプチグーゼ(DHP)により分解不活性化が短時間
のうちに生じてしまうという欠点を有している。そのた
めイミベネムは単独で投与がすることができず、DHP
阻害剤と併用し、その分解不活性化を抑制してやらなけ
ればならない。したがって、この化合物の実際的製剤は
DHP阻害剤の一種であるシラスフチン(cilast
atin; r N N )と併用したイミベネム/シ
ラスタチンの配合処方となっている。
マイシンより優れた抗菌活性を示し、化学的安定性はあ
る程度確保されているものの、生体内において腎デヒド
ロペプチグーゼ(DHP)により分解不活性化が短時間
のうちに生じてしまうという欠点を有している。そのた
めイミベネムは単独で投与がすることができず、DHP
阻害剤と併用し、その分解不活性化を抑制してやらなけ
ればならない。したがって、この化合物の実際的製剤は
DHP阻害剤の一種であるシラスフチン(cilast
atin; r N N )と併用したイミベネム/シ
ラスタチンの配合処方となっている。
しかしながら臨床的に使用される実用的な抗菌剤として
は、抗菌剤本来の抗菌活性がそのまま発揮されるのが好
ましく、また併用するDHP阻害剤が生体内の他の組織
において好ましからざる副作用を発揮するおそれがある
ことも考えられるので、配合処方は極力回避した方がよ
いことはいうまでもない。そのため抗菌活性と同時にD
HPに対する耐性をも保有するカルバペネム化合物の開
発が強く要望されている。
は、抗菌剤本来の抗菌活性がそのまま発揮されるのが好
ましく、また併用するDHP阻害剤が生体内の他の組織
において好ましからざる副作用を発揮するおそれがある
ことも考えられるので、配合処方は極力回避した方がよ
いことはいうまでもない。そのため抗菌活性と同時にD
HPに対する耐性をも保有するカルバペネム化合物の開
発が強く要望されている。
最近に至り上述の目的を達成させるものとして、カルバ
ペネム骨格の1位にメチル基を導入した1−メチルカル
バペネム化合物が種々提案されており、またごく最近に
は、カルバペネム骨格の2位の置換基として第四級アン
モニウムチオ基を導入したカルバペネム化合物も提案さ
れている。例えば特開昭61−83183号公報(メル
ク社)には、下記一般式(D): で示される2位にアルキル化されたモノ−またはビーサ
イクリックtJIJ4級へテロアリールアルキルチオ置
換基を持つ1−メチルカルバペネム化合物が開示されて
おり、これら化合物は抗菌活性が優れたものであるとと
もにDHPによる分解不活性化に対する抵抗性が着しく
改善され、有用性が高いものであると報告されている。
ペネム骨格の1位にメチル基を導入した1−メチルカル
バペネム化合物が種々提案されており、またごく最近に
は、カルバペネム骨格の2位の置換基として第四級アン
モニウムチオ基を導入したカルバペネム化合物も提案さ
れている。例えば特開昭61−83183号公報(メル
ク社)には、下記一般式(D): で示される2位にアルキル化されたモノ−またはビーサ
イクリックtJIJ4級へテロアリールアルキルチオ置
換基を持つ1−メチルカルバペネム化合物が開示されて
おり、これら化合物は抗菌活性が優れたものであるとと
もにDHPによる分解不活性化に対する抵抗性が着しく
改善され、有用性が高いものであると報告されている。
しかしながら、上記公報には、これら1β−メチル−カ
ルバペネム化合物について上位概念による広い記載はあ
るもののその具体例は少な(、しかも抗菌活性が優れて
いるとの一般的記述はなされているが、具体的抗菌活性
データについての記載は皆無である。特に上記一般式に
包含されるカルバペネム化合物について上記公報には約
470種以上にわたる多数の化合物が例示されているも
のの、実施例においてその製造が確認されている化合物
はわずか10種にすぎず、本発明によって提供される化
合物については何ら具体的な記載はなされていない。し
たがって、上記公報は本明繕書において開示しかつクレ
ームする薬理字的に優れた特性をもつ本発明の化合物に
ついて何ら示唆を与えるものではない。
ルバペネム化合物について上位概念による広い記載はあ
るもののその具体例は少な(、しかも抗菌活性が優れて
いるとの一般的記述はなされているが、具体的抗菌活性
データについての記載は皆無である。特に上記一般式に
包含されるカルバペネム化合物について上記公報には約
470種以上にわたる多数の化合物が例示されているも
のの、実施例においてその製造が確認されている化合物
はわずか10種にすぎず、本発明によって提供される化
合物については何ら具体的な記載はなされていない。し
たがって、上記公報は本明繕書において開示しかつクレ
ームする薬理字的に優れた特性をもつ本発明の化合物に
ついて何ら示唆を与えるものではない。
E問題点を解決するための手段]
本発明は、強力な抗菌活性ならびにβ−ラクタマーゼ阻
害作用等を有するとともに、腎デヒドロベプチグーゼに
対する優れた耐性を有するカルバペネム化合物を提供す
るものであり、より具体的には、これまで詳細に検討さ
れていない1位がβ−配置でメチル置換されたカルバペ
ネム化合物において、2位gA鎖として(ピラノニウム
−2−イル)メチルチオ基が導入され且つこの側鎖が3
位のカルボキシレートと分子内四級アンモニウム化合物
を形成している化合物に関するものである。
害作用等を有するとともに、腎デヒドロベプチグーゼに
対する優れた耐性を有するカルバペネム化合物を提供す
るものであり、より具体的には、これまで詳細に検討さ
れていない1位がβ−配置でメチル置換されたカルバペ
ネム化合物において、2位gA鎖として(ピラノニウム
−2−イル)メチルチオ基が導入され且つこの側鎖が3
位のカルボキシレートと分子内四級アンモニウム化合物
を形成している化合物に関するものである。
すなわち、本発明は次式(I):
R電
式中、R’は低級アルキル基を表わす、で示される(I
R,5S、65)−2−[(ピラジニウム−2−イル
)メチル1チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル
]−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレート
を提供するものである。
R,5S、65)−2−[(ピラジニウム−2−イル
)メチル1チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル
]−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレート
を提供するものである。
本発明はまた前記式(1)で示される(I R,5S。
6S)−2−[(ピラノニウム−2−イル)メチル1千
オー6−[(R)−1−ヒドロキシエチル1−1−メチ
ル−カルバペネム−3−カルボキシレートを有効成分と
する抗菌剤を提供するものである。
オー6−[(R)−1−ヒドロキシエチル1−1−メチ
ル−カルバペネム−3−カルボキシレートを有効成分と
する抗菌剤を提供するものである。
本発明の前記式(1)で示されるカルバペネム化合物の
好適具体例には、次式(1−1):で示される(I R
,5S、6 S)−2−[(4−メチルピラジニウム−
2−イル)メチル1チオ−6−[(R)−1−ヒドロキ
シエチル1−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキ
シレートが包含される。
好適具体例には、次式(1−1):で示される(I R
,5S、6 S)−2−[(4−メチルピラジニウム−
2−イル)メチル1チオ−6−[(R)−1−ヒドロキ
シエチル1−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキ
シレートが包含される。
上記した本発明のカルバペネム化合物は、先行技術(例
えば特開昭61−83183号公報)の上位慨念による
包括的な開示には包含されうるが、具体的には何ら記載
されていない新規な化合物であり、特に2位に(ピラジ
ニウム−2−イル)メチルチオ基を有する点に構造的特
長を有し、さらにその抗菌力ならびにDHPに対する耐
性が特異的に優れている点に顕者な特徴を有するもので
ある。
えば特開昭61−83183号公報)の上位慨念による
包括的な開示には包含されうるが、具体的には何ら記載
されていない新規な化合物であり、特に2位に(ピラジ
ニウム−2−イル)メチルチオ基を有する点に構造的特
長を有し、さらにその抗菌力ならびにDHPに対する耐
性が特異的に優れている点に顕者な特徴を有するもので
ある。
本発明によれば、前記式(1)で示されるカルバペネム
化合物は、基本的には以下に述べる方法により製造する
ことができる。すなわち、次式(): 式中、R2はカルボキシ保護基を表わし、R1はアシル
基を表わす、 で示される化合物に、次式(■): で示されるメルカプト試薬を反応させ、次式(■)二式
中、R2は前記定義のとおりである、で示される化合物
となし、そして得られる化合物に対して、保護基R2の
除去およびジアルキル硫酸もしくはアルキル)+77レ
ートによる第四級化をこの順序またはこの逆の順序で行
なうことにより、式(1)で示されるカルバペネム化合
物を製造することができる。
化合物は、基本的には以下に述べる方法により製造する
ことができる。すなわち、次式(): 式中、R2はカルボキシ保護基を表わし、R1はアシル
基を表わす、 で示される化合物に、次式(■): で示されるメルカプト試薬を反応させ、次式(■)二式
中、R2は前記定義のとおりである、で示される化合物
となし、そして得られる化合物に対して、保護基R2の
除去およびジアルキル硫酸もしくはアルキル)+77レ
ートによる第四級化をこの順序またはこの逆の順序で行
なうことにより、式(1)で示されるカルバペネム化合
物を製造することができる。
以下、上記の式(I)で示されるカルバペネム化合物の
製造方法について更に詳細に説明する上記方法において
出発原料として使用される前記式(II)で示される化
合物は、それ自体既知のものであり、例えば特開昭56
−123985号公報に記載の方法によって製造するこ
とができ、或いは好適には、本発明者らが既に提案した
下記反応式Aに示す立体選択的方法(例えば、特願昭6
1−315444号出願明細書参照)に従って製造する
ことができる。
製造方法について更に詳細に説明する上記方法において
出発原料として使用される前記式(II)で示される化
合物は、それ自体既知のものであり、例えば特開昭56
−123985号公報に記載の方法によって製造するこ
とができ、或いは好適には、本発明者らが既に提案した
下記反応式Aに示す立体選択的方法(例えば、特願昭6
1−315444号出願明細書参照)に従って製造する
ことができる。
上記反応式中、R3は水素原子または低級アルキル基を
表わし、Zはt−プチルゾメチルシリル基を表わし、R
2およびRaは前記定義のとおりである。
表わし、Zはt−プチルゾメチルシリル基を表わし、R
2およびRaは前記定義のとおりである。
なお、本明la書において、「低級」なる語は、この語
が付された基または化合物の炭素原子数が1〜7個、好
ましくは1〜4個であることを意味する。
が付された基または化合物の炭素原子数が1〜7個、好
ましくは1〜4個であることを意味する。
「低級フルキル基」は直鎖状または分岐鎖状のいずれで
あってもよく、好ましくは1〜6個の炭素原子を有する
ことができ、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、flee−ブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、
n−ヘキシル、イソヘキシル基等が包含される。
あってもよく、好ましくは1〜6個の炭素原子を有する
ことができ、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、flee−ブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、
n−ヘキシル、イソヘキシル基等が包含される。
[カルボキシル保護基」としては、例えばエステル残基
な例示することができ、かかるエステル残基としてはメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n 1
!80 *8e6−*tert−ブチルsn−ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル残基:ベンジル、
p−ニトロペンシル、0−ニトロベンジル、p−メト斗
シベンノル等の7ラアルキルエステル残基;アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、n−yiSO−r
ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低
級脂肪族7シルオキシメチル残基等が挙げられる。
な例示することができ、かかるエステル残基としてはメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n 1
!80 *8e6−*tert−ブチルsn−ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル残基:ベンジル、
p−ニトロペンシル、0−ニトロベンジル、p−メト斗
シベンノル等の7ラアルキルエステル残基;アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、n−yiSO−r
ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低
級脂肪族7シルオキシメチル残基等が挙げられる。
また、「アシル基」は、単に有機カルボン酸のカルボキ
シル基からOHを除いた残りの原子団のみならず、広義
に、有機スルホン酸や有機リン酸から誘導される7シル
基をも包含され、例えば7セチル、プロピオニル、ブチ
リル等の低級アルカノイル基;メタンスルホニル、トリ
フルオロメタンスルホニル基等の(ハロ)低級アルキル
スルホニル基;ベンゼンスルホニル、p−二トロベンゼ
ンスルホニル、p−ブロモベンゼンスルホニル、トルエ
:/ スルl’にニル、2,4,6−)リイソプロビル
ベンゼンスルホニル等の置換もしくは未置換の7リール
スルホ羊ル基;ジフェニルホスホリル基等が挙げられる
。
シル基からOHを除いた残りの原子団のみならず、広義
に、有機スルホン酸や有機リン酸から誘導される7シル
基をも包含され、例えば7セチル、プロピオニル、ブチ
リル等の低級アルカノイル基;メタンスルホニル、トリ
フルオロメタンスルホニル基等の(ハロ)低級アルキル
スルホニル基;ベンゼンスルホニル、p−二トロベンゼ
ンスルホニル、p−ブロモベンゼンスルホニル、トルエ
:/ スルl’にニル、2,4,6−)リイソプロビル
ベンゼンスルホニル等の置換もしくは未置換の7リール
スルホ羊ル基;ジフェニルホスホリル基等が挙げられる
。
以下、上記反応式At’示される式(rl)の化合物の
高立体選択的製造の各工程をさらに詳しく説明する。
高立体選択的製造の各工程をさらに詳しく説明する。
工程(a)は、式(Vl)のN−プロピオニル−1,3
−チアゾリジン−2−チオン誘導体を、塩基の存在下に
スズ(■)トリ7レートと反応させてエルレートを生成
させ、次いでこれに式(V)の化合物を反応させて、式
(■)の7ゼチジンー2−オン誘導体を製造することが
らなろ。
−チアゾリジン−2−チオン誘導体を、塩基の存在下に
スズ(■)トリ7レートと反応させてエルレートを生成
させ、次いでこれに式(V)の化合物を反応させて、式
(■)の7ゼチジンー2−オン誘導体を製造することが
らなろ。
上記の式(Vl)のN−プロピオニル−1,3−チアゾ
リジン−2−チオン誘導体のスズ(■)トリ7レートに
よるエノール化反応は、通常反応に不活性な溶媒中、例
えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロ7ラン等のエー
テル類;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化
水素類;ノクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素類など、特にテトラヒドロフラン中で好適に実
施することができる。
リジン−2−チオン誘導体のスズ(■)トリ7レートに
よるエノール化反応は、通常反応に不活性な溶媒中、例
えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロ7ラン等のエー
テル類;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化
水素類;ノクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素類など、特にテトラヒドロフラン中で好適に実
施することができる。
反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約−100℃ないしほぼ室温程度、好ましくは約−7
8℃〜約O℃の比較的低温が使用される。
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約−100℃ないしほぼ室温程度、好ましくは約−7
8℃〜約O℃の比較的低温が使用される。
式(Vl)の化合物に対するスズ(■)トリ7レートの
使用量は臨界的なものではないが、通常、式■の化合物
1モルに対するスズ(II))+77レートは約1〜約
2モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用するこ
とができる。
使用量は臨界的なものではないが、通常、式■の化合物
1モルに対するスズ(II))+77レートは約1〜約
2モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用するこ
とができる。
上記エノール化反応は塩基の条件下に実施され、使用し
うる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、1,4−ノアザビシクロ[2,
2,2]オクタン、N−メチルモルホリン、N−エチル
ピペリジン、ピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、
中でもN−エチルピペリジンが有利に用いられる。これ
らの塩基は一般に式(VI)の化合物1モル当り約1.
0〜約3当量、好ましくは1.0〜2.0当量の割合で
使用することができる。
うる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、1,4−ノアザビシクロ[2,
2,2]オクタン、N−メチルモルホリン、N−エチル
ピペリジン、ピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、
中でもN−エチルピペリジンが有利に用いられる。これ
らの塩基は一般に式(VI)の化合物1モル当り約1.
0〜約3当量、好ましくは1.0〜2.0当量の割合で
使用することができる。
上記二ノール化反応は一般に約5分〜約4時間で終らせ
ることができ、これによって工/レートが得られる。
ることができ、これによって工/レートが得られる。
このエノール化反応に引続いてそのまま、生成する二/
レートに前記式(V)の化合物を反応せしめることがで
きる。
レートに前記式(V)の化合物を反応せしめることがで
きる。
前記二/レートと式(V)の化合物との間のアルキル化
反応は一般に、約−100℃ないしほぼ室温、好ましく
は約−78℃〜約10℃の温度において実施することが
で慇る。その際の式(Vl)の化合物の使用量は臨界的
ではなく適宜変更することができるが、通常、前記エノ
ール化反応に用いた式(Vl)の化合物1モル当り約0
.5〜約5モル、好ましくは0.5〜2モルの割合で用
いるのが適当である。
反応は一般に、約−100℃ないしほぼ室温、好ましく
は約−78℃〜約10℃の温度において実施することが
で慇る。その際の式(Vl)の化合物の使用量は臨界的
ではなく適宜変更することができるが、通常、前記エノ
ール化反応に用いた式(Vl)の化合物1モル当り約0
.5〜約5モル、好ましくは0.5〜2モルの割合で用
いるのが適当である。
かかる条件下に反応は一般に約5分〜約5時間、より一
般には5分〜約2時間程度で終了させることができる。
般には5分〜約2時間程度で終了させることができる。
前述のエノール化反応及び上記アルキル化反応は、必須
ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素〃ス、アルゴ
ンガス雰囲気下に実施するのが望ましい。
ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素〃ス、アルゴ
ンガス雰囲気下に実施するのが望ましい。
最後に反応生成物は水で処理される。例えば、反応終了
後、pH7付近の燐酸緩衝液を加え攪拌し、不溶物を炉
別したのち、式(■)の化合物を常法により、例えば抽
出、再結晶、クロマトグラフィー等により分離精製する
ことができる。
後、pH7付近の燐酸緩衝液を加え攪拌し、不溶物を炉
別したのち、式(■)の化合物を常法により、例えば抽
出、再結晶、クロマトグラフィー等により分離精製する
ことができる。
この工程(b)は、前記工程(、)で製造される式(■
)で示されるアゼチジン−2−オン誘導体を、イミダゾ
ールの存在下に式(R”0OCCH2CO2)z M
gで表わされるマグネシウムマロネート化合物と反応さ
せ、式(■)で表わされる化合物を得る工程である。
)で示されるアゼチジン−2−オン誘導体を、イミダゾ
ールの存在下に式(R”0OCCH2CO2)z M
gで表わされるマグネシウムマロネート化合物と反応さ
せ、式(■)で表わされる化合物を得る工程である。
反応は好ましくは不活性有機溶媒中で行なわれ、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にアセトニトリルが好適に使用され
る。
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にアセトニトリルが好適に使用され
る。
反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることがで与るが、一般に
約0℃ないしほぼ100℃程度、好ましくは室温付近の
比較的低温が使用される。
発原料等に応じて広範に変えることがで与るが、一般に
約0℃ないしほぼ100℃程度、好ましくは室温付近の
比較的低温が使用される。
式(■)の化合物に対するマグネシウムマロネート化合
物の使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間
程度、好ましくは20時間程度で完了する。
物の使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間
程度、好ましくは20時間程度で完了する。
なお、使用するマグネシウムマロネート化合物としては
、例えば、パラニトロベンノルマグネシウムマロネート
、ベンノルマグネシウムマロネート、メチルマグネシウ
ムマa′−ネート等を挙げることができるが、なかでも
バラニトロベンノルマグネシウムマロネートを用いるの
が好ましい。
、例えば、パラニトロベンノルマグネシウムマロネート
、ベンノルマグネシウムマロネート、メチルマグネシウ
ムマa′−ネート等を挙げることができるが、なかでも
バラニトロベンノルマグネシウムマロネートを用いるの
が好ましい。
工程(c)は、工程(b)で得られる式(■)の化合物
において水酸基の保護基Zを脱離させる工程である。t
−ブチルジメチルシリル基Zの除去は、式(■)の化合
物をメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ノ
オキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸など
のような酸の存在下に、0〜100℃の温度で0.5〜
18時間酸性加水分解することにより実施することがで
きる。
において水酸基の保護基Zを脱離させる工程である。t
−ブチルジメチルシリル基Zの除去は、式(■)の化合
物をメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ノ
オキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸など
のような酸の存在下に、0〜100℃の温度で0.5〜
18時間酸性加水分解することにより実施することがで
きる。
かかる工程により、目的とする式(IX)で示される化
合物を定量的に得ることができる。
合物を定量的に得ることができる。
工程(d)では、工程(c)で得られる式(IX)で示
される化合物を、塩基の存在下に、前記工程(b)で述
べたと同様の不活性有機溶媒中でアシド化合物で処理し
、目的とする式(X)のジアゾ化合物を得る。
される化合物を、塩基の存在下に、前記工程(b)で述
べたと同様の不活性有機溶媒中でアシド化合物で処理し
、目的とする式(X)のジアゾ化合物を得る。
使用されるアジド化合物としては、例えば、p−カルボ
キシベンゼンスルホニルアシト、トルエンスルホニルア
ット、メタンスルホニル7ノド、ドデシルベンゼンスル
ホニルアジドなどを挙げることができ、また、塩基とし
ては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルアミンな
どの塩基を例示することができる。
キシベンゼンスルホニルアシト、トルエンスルホニルア
ット、メタンスルホニル7ノド、ドデシルベンゼンスル
ホニルアジドなどを挙げることができ、また、塩基とし
ては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルアミンな
どの塩基を例示することができる。
反応は、好ましくはトリエチルアミンの存在下アセトニ
トリル中で、p−)ルエンスルホニルアジドを加え、O
〜100“C1好ましくは室温で1〜50時間処理する
ことにより行なうことができ、これによって高収率で目
的とする式(X)のジアゾ化合物を得ることができる。
トリル中で、p−)ルエンスルホニルアジドを加え、O
〜100“C1好ましくは室温で1〜50時間処理する
ことにより行なうことができ、これによって高収率で目
的とする式(X)のジアゾ化合物を得ることができる。
工程(e)は工程(cl)で得られる式(X)のジアゾ
化合物を環化し、式()N)で示される化合物とする工
程である。該工程は好適には、例えば式(X)の化合物
を、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、シクロ
ヘキサン、酢酸エチル、ククロルメタンなどのような不
活性溶媒中、好ましくはトルエン中で、25〜110
”Cの温度において1〜5時間、ビス(アセチルアセト
ナ))Cu(n) 、Cu So、、銅粉末、Rh !
(0COCHi)<、ロノウムオクタノエートまたはp
b (。
化合物を環化し、式()N)で示される化合物とする工
程である。該工程は好適には、例えば式(X)の化合物
を、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、シクロ
ヘキサン、酢酸エチル、ククロルメタンなどのような不
活性溶媒中、好ましくはトルエン中で、25〜110
”Cの温度において1〜5時間、ビス(アセチルアセト
ナ))Cu(n) 、Cu So、、銅粉末、Rh !
(0COCHi)<、ロノウムオクタノエートまたはp
b (。
C0CH,Lのような金属カルボキシレート化合物など
の金属触媒の存在下で処理することに上り実施される。
の金属触媒の存在下で処理することに上り実施される。
一方別の方法として、上記環化工程はまた式(X)の化
合物を、ベンゼン、ジエチルエーテルなどのような溶媒
中で、0〜250℃の温度において0.5〜2時間、パ
イレ、ツクスフイルター(波長は300n−より大)を
通して光を照射することにより実施することもできる。
合物を、ベンゼン、ジエチルエーテルなどのような溶媒
中で、0〜250℃の温度において0.5〜2時間、パ
イレ、ツクスフイルター(波長は300n−より大)を
通して光を照射することにより実施することもできる。
最後に、工程(f)において、工程(c)で得られる式
(XI)の化合物をRaOHで示される酸の反応性誘導
体(例えば、酸無水物、ハライドなど)と反応させるこ
とにより、式(n)で示される化合物が得られる。
(XI)の化合物をRaOHで示される酸の反応性誘導
体(例えば、酸無水物、ハライドなど)と反応させるこ
とにより、式(n)で示される化合物が得られる。
かかる酸の反応性誘導体としては、例えば、無水酢酸、
アセチルクロリド、プロピオニルクロ +1ド、p−)
ルエンスルホン酸無水111、p−ニトロベンゼンスル
ホン酸無水物、2,4,6−)リインプロピルベンゼン
スルホン酸無水物、メタンスルホン酸無水物、MJフル
オロメタンスルホン酸無水物、ジフェニルリン酸クロリ
ド、トルエンスルホニルクロリド、p−ブロモベンゼン
スルホニルクロリドなどが挙げられ、特にジフェニルリ
ン酸クロリド(R=ニジフェニルホスリす基)が好適で
ある。
アセチルクロリド、プロピオニルクロ +1ド、p−)
ルエンスルホン酸無水111、p−ニトロベンゼンスル
ホン酸無水物、2,4,6−)リインプロピルベンゼン
スルホン酸無水物、メタンスルホン酸無水物、MJフル
オロメタンスルホン酸無水物、ジフェニルリン酸クロリ
ド、トルエンスルホニルクロリド、p−ブロモベンゼン
スルホニルクロリドなどが挙げられ、特にジフェニルリ
ン酸クロリド(R=ニジフェニルホスリす基)が好適で
ある。
式(XI)の化合物と上記酸の反応性誘導体との反応は
、通常のアシル化法と同様にして行なうことができ、例
えば、メチレンクロリド、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド等の不活性溶媒中で、適宜ジイソプロピルエ
チルアミン、トリエチルアミン、4−ツメチルアミノピ
リジン等の塩基の存在下に、−20〜40℃の温度で約
30分〜約24時間処理することにより行なうことがで
きる。
、通常のアシル化法と同様にして行なうことができ、例
えば、メチレンクロリド、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド等の不活性溶媒中で、適宜ジイソプロピルエ
チルアミン、トリエチルアミン、4−ツメチルアミノピ
リジン等の塩基の存在下に、−20〜40℃の温度で約
30分〜約24時間処理することにより行なうことがで
きる。
以上に述べた方法によれば、カルバペネム骨格の1位が
R配置のメチル基で置換され、これらに5位ならびに6
位がそれぞれR及びS配置であり、また6位のヒドロキ
シルエチル基の水酸基がR配置を有する特定の立体配置
を有する式(U)で示される化合物を高立体選択的に製
造することができる。
R配置のメチル基で置換され、これらに5位ならびに6
位がそれぞれR及びS配置であり、また6位のヒドロキ
シルエチル基の水酸基がR配置を有する特定の立体配置
を有する式(U)で示される化合物を高立体選択的に製
造することができる。
次いで、得られる式(II)で示される化合物に、前記
式(I[)で示されるメルカプト試薬を反応させ、式(
TV)で示される化合物を得る。
式(I[)で示されるメルカプト試薬を反応させ、式(
TV)で示される化合物を得る。
式(n)で示される化合物と式(I[)で示されるメル
カプト試薬との反応は、例えば式(II)で示される化
合物を、テトラヒドロ7ラン、ジクロルメタン、ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミドなど等の適
当な溶媒中で、はぼ等モル量乃至約1.5倍モル量の過
剰量の式(I[[)で示されるメルカプト試薬と、好ま
しくは炭酸水素ナトリウム、炭酸カリツム、トリエチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの塩基の存在
下に約−40〜約25“Cの範囲内の温度で約30分〜
約24時間反応させることにより行なうことができる。
カプト試薬との反応は、例えば式(II)で示される化
合物を、テトラヒドロ7ラン、ジクロルメタン、ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミドなど等の適
当な溶媒中で、はぼ等モル量乃至約1.5倍モル量の過
剰量の式(I[[)で示されるメルカプト試薬と、好ま
しくは炭酸水素ナトリウム、炭酸カリツム、トリエチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの塩基の存在
下に約−40〜約25“Cの範囲内の温度で約30分〜
約24時間反応させることにより行なうことができる。
以上の反応により、式(1%’)で示されるカルバペネ
ム化合物が得られるが、この式(ff)の化合物は3位
のカルボン酸がカルボキシ保護基R2で保i1されてい
る。この保護基R2の除去は、ソルボリシスまたは水素
添加分解のようなそれ自体既知の脱保護基反応により行
なうことができる。典型的には、式(IY)で示される
化合物を例えばpH7のモルホリ/プロパンスルホン酸
−水酸化ナトリウム緩衝液、pH7のリン酸塩t1衝液
、リン酸二カリウム、重炭酸ナトリウムなどを含むテト
ラヒドロ7ランー水、テトラヒドロフランー二タノール
ー水、ジオキサン−水、ジオキサン−エタノール−水、
n−ブタ7−ルー水などのような混合溶媒中で、1〜4
気圧の水素を用い、酸化白金、パラジウム−活性炭、水
酸化パラジウム−活性炭などの水添触媒の存在下に、約
0〜約50°Cの範囲内の温度で約0.25〜約4ai
f間処理することにより行なうことができる。
ム化合物が得られるが、この式(ff)の化合物は3位
のカルボン酸がカルボキシ保護基R2で保i1されてい
る。この保護基R2の除去は、ソルボリシスまたは水素
添加分解のようなそれ自体既知の脱保護基反応により行
なうことができる。典型的には、式(IY)で示される
化合物を例えばpH7のモルホリ/プロパンスルホン酸
−水酸化ナトリウム緩衝液、pH7のリン酸塩t1衝液
、リン酸二カリウム、重炭酸ナトリウムなどを含むテト
ラヒドロ7ランー水、テトラヒドロフランー二タノール
ー水、ジオキサン−水、ジオキサン−エタノール−水、
n−ブタ7−ルー水などのような混合溶媒中で、1〜4
気圧の水素を用い、酸化白金、パラジウム−活性炭、水
酸化パラジウム−活性炭などの水添触媒の存在下に、約
0〜約50°Cの範囲内の温度で約0.25〜約4ai
f間処理することにより行なうことができる。
かくして前記式(fV)においてR2が水素原子である
化合物、すなわち(I R,5S、65)−2−[(ピ
ラノン−2−イル)メチルコチオ−6−[(R)−1−
ヒドロキシエチルJ−1−メチル−カルバペネム−3−
カルボン酸が製造される。この化合物は次いで第四級化
することにより本発明の式(1)で示されるカルバペネ
ム化合物に誘導することができる。この第四級化は、通
常、前記の如くして製造される式(■)で示される化合
物を、例えばpH=7.0のリン酸緩衝液に溶解させ、
この溶液にシフルキル硫酸、例えばジメチル硫酸を作用
させるか、あるいは適当な有機溶媒、例えばジオキサン
、アセトニトリル、テトラヒドロ7ラン中でメチルトリ
7レートのようなアルキルト+77レートを作用させる
ことにより行なうのが好適である。得られる化合物は、
例乏ば、適当なイオン交換樹脂、好ましくはDowex
50W−X、タイプのイオン交換樹脂のカフムを通すこ
とにより、本発明の分子内両性イオン化合物である式(
1)で示される(I R,58,68)−2−[(ピラ
ジニウム−2−イル)メチルコチオ−6−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペネム−3
−カルボキシレートを製造することができる。
化合物、すなわち(I R,5S、65)−2−[(ピ
ラノン−2−イル)メチルコチオ−6−[(R)−1−
ヒドロキシエチルJ−1−メチル−カルバペネム−3−
カルボン酸が製造される。この化合物は次いで第四級化
することにより本発明の式(1)で示されるカルバペネ
ム化合物に誘導することができる。この第四級化は、通
常、前記の如くして製造される式(■)で示される化合
物を、例えばpH=7.0のリン酸緩衝液に溶解させ、
この溶液にシフルキル硫酸、例えばジメチル硫酸を作用
させるか、あるいは適当な有機溶媒、例えばジオキサン
、アセトニトリル、テトラヒドロ7ラン中でメチルトリ
7レートのようなアルキルト+77レートを作用させる
ことにより行なうのが好適である。得られる化合物は、
例乏ば、適当なイオン交換樹脂、好ましくはDowex
50W−X、タイプのイオン交換樹脂のカフムを通すこ
とにより、本発明の分子内両性イオン化合物である式(
1)で示される(I R,58,68)−2−[(ピラ
ジニウム−2−イル)メチルコチオ−6−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペネム−3
−カルボキシレートを製造することができる。
なお、以上に述べた方法において、上記のカルボキシル
保護基R2の脱離反応と、第四級化反応とは逆の順序で
行なってもよい。すなわち、式(fV)で示される化合
物に対して上記の如くして第四級化を行なった後、その
生成物に脱カルボキシル保護基反応を行なってもよいゆ 上記反応において、式(I[I)で示されるメルカプト
試薬は従来の文献に未載の新規化合物であり、このもの
は例えば下記反応式Bに従って得ることができる。
保護基R2の脱離反応と、第四級化反応とは逆の順序で
行なってもよい。すなわち、式(fV)で示される化合
物に対して上記の如くして第四級化を行なった後、その
生成物に脱カルボキシル保護基反応を行なってもよいゆ 上記反応において、式(I[I)で示されるメルカプト
試薬は従来の文献に未載の新規化合物であり、このもの
は例えば下記反応式Bに従って得ることができる。
(XII) (XI[I) (XIV
)(III) 上記反応式中、Xはハロゲン原子、好ましくは塩素原子
を表わす。
)(III) 上記反応式中、Xはハロゲン原子、好ましくは塩素原子
を表わす。
上記反応式において、まず、式(X)で示される2−メ
チルピラノンに(5)してハロゲン化、例えばN−クロ
ルコハク酸イミドによりクロル化を行ない、次いで得ら
れる式01)で示される化合物をチオ酢酸カリウムと反
応させて式(X■)で示される化合物とし、これを加水
分解することにより式(III)で示されるメルカプト
試薬を得ることができる。
チルピラノンに(5)してハロゲン化、例えばN−クロ
ルコハク酸イミドによりクロル化を行ない、次いで得ら
れる式01)で示される化合物をチオ酢酸カリウムと反
応させて式(X■)で示される化合物とし、これを加水
分解することにより式(III)で示されるメルカプト
試薬を得ることができる。
本発明の前記式(1)で示されるカルバペネム化合物は
、既に述べたとおり、従来の文献に具体的には開示され
ていない新規な化合物であって、デヒドロペプチグーゼ
(DHP)として知られている腎酵素による攻撃に対し
て極めて安定であり、かつその抗菌作用も優れているこ
とが判明した。
、既に述べたとおり、従来の文献に具体的には開示され
ていない新規な化合物であって、デヒドロペプチグーゼ
(DHP)として知られている腎酵素による攻撃に対し
て極めて安定であり、かつその抗菌作用も優れているこ
とが判明した。
本発明により提供される式(I)で示される化合物の優
れた抗菌活性及び腎デヒドロペプチグーゼに対する高い
安定性は以下に示す生物活性試験によって立証すること
ができる。
れた抗菌活性及び腎デヒドロペプチグーゼに対する高い
安定性は以下に示す生物活性試験によって立証すること
ができる。
1:u氏順
民1L1:
日本化学療法学会標準法[Chemotherapy、
vo129、76〜79 (1981)]に準じた寒
天平板希釈法にしたがった。すなわち、被検菌のNue
l Ier−Hinton(MH>寒天g体i地37℃
、−夜培11?lを約106cells/lj!になる
ようにBuffered 5aline gelati
n(B S G)溶液で希釈し、ミクロプランタ−を用
い試験化合物含有MH寒天培地に約5μ!接種し、37
“C118時間培養後、被検菌の発育が認められない最
少濃度をもってMinis+um 1nhibitor
y coneentration (M I C)とし
た。
vo129、76〜79 (1981)]に準じた寒
天平板希釈法にしたがった。すなわち、被検菌のNue
l Ier−Hinton(MH>寒天g体i地37℃
、−夜培11?lを約106cells/lj!になる
ようにBuffered 5aline gelati
n(B S G)溶液で希釈し、ミクロプランタ−を用
い試験化合物含有MH寒天培地に約5μ!接種し、37
“C118時間培養後、被検菌の発育が認められない最
少濃度をもってMinis+um 1nhibitor
y coneentration (M I C)とし
た。
なお、使用菌株は標準菌株を用いた。
降l:
下記第1表に示す。
なお、本発明の試験化合物としては後記実施例5に記載
の化合物(14)を用いた。また、対照化合物には、臨
床的に広く使用されているセファ0スポリン化合物であ
るセファゾリン(CEZ)とカルバペネム化合物である
イミペネムを用いた。
の化合物(14)を用いた。また、対照化合物には、臨
床的に広く使用されているセファ0スポリン化合物であ
るセファゾリン(CEZ)とカルバペネム化合物である
イミペネムを用いた。
以上の抗菌活性試験によれば、本発明のカルバペネム化
合物は、優れた抗菌活性を有していることが明らかであ
る。
合物は、優れた抗菌活性を有していることが明らかであ
る。
日本化学療法学会標準法に準じた寒天平板希釈法により
測定した。すなわち、5ensitivity tes
tbroLh (S T B yニー、pスイ)で18
時間培養したユピゾーム研究所保存のセファロスポリナ
ーゼ産生菌液を新鮮なSTB溶液で約10 ’cell
s/m1になるように希釈し、その薗浮遊液をミクロプ
ランタ−を用いて試験薬剤含有5ensitivity
disk agar−N(SDA、ニツスイ)平板上
にスポットし、18〜20時間後の被検菌の発胃の認め
られない最少濃度をもってMICとした。
測定した。すなわち、5ensitivity tes
tbroLh (S T B yニー、pスイ)で18
時間培養したユピゾーム研究所保存のセファロスポリナ
ーゼ産生菌液を新鮮なSTB溶液で約10 ’cell
s/m1になるように希釈し、その薗浮遊液をミクロプ
ランタ−を用いて試験薬剤含有5ensitivity
disk agar−N(SDA、ニツスイ)平板上
にスポットし、18〜20時間後の被検菌の発胃の認め
られない最少濃度をもってMICとした。
屹」
下記第2表に示す。
なお、本発明の試験化合物としては後記実施例に記載の
化合物(14)を用いた。また、対照化合物には、被検
菌に対し抗菌力の優れているとされ、臨床的に使用され
るセファロスポリン化合物であるセ7タゾジム(CAZ
)と、カルバペネム化合物であるイミベネムを用いた。
化合物(14)を用いた。また、対照化合物には、被検
菌に対し抗菌力の優れているとされ、臨床的に使用され
るセファロスポリン化合物であるセ7タゾジム(CAZ
)と、カルバペネム化合物であるイミベネムを用いた。
以上の結果から判断すると、Pseudomonada
ceaeに属するP、 aeruginosa+ P、
cepaeiaに対する本発明のカルバペネム化合物
の抗菌力はイミベネムとほぼ同等であり、抗ブセウドモ
ナス活性を有するCAZより特に強いものであった。
ceaeに属するP、 aeruginosa+ P、
cepaeiaに対する本発明のカルバペネム化合物
の抗菌力はイミベネムとほぼ同等であり、抗ブセウドモ
ナス活性を有するCAZより特に強いものであった。
また、proteus属を除く腸内細菌科の菌種に対す
る抗菌活性はイミベネムと同様にCAZより優れていた
。
る抗菌活性はイミベネムと同様にCAZより優れていた
。
■、L−ヒドロベプチグーゼに・ る nl、!L
IL (1)ブタ腎デヒドロペプチダーゼ−1(DHP−I) ブタ腎臓8に、をホモジナイズし、酵素蛋白を沈殿させ
、結合脂質をア七トンで除去したのちブタ/−ルによる
可溶化を行ない、硫安分画法にて順次精製し、最終的に
75%硫安分画の精製によりDHP−I酵素を得た。
IL (1)ブタ腎デヒドロペプチダーゼ−1(DHP−I) ブタ腎臓8に、をホモジナイズし、酵素蛋白を沈殿させ
、結合脂質をア七トンで除去したのちブタ/−ルによる
可溶化を行ない、硫安分画法にて順次精製し、最終的に
75%硫安分画の精製によりDHP−I酵素を得た。
なお、酵素濃度は256/10ml 、pH=7゜1、
リン酸緩衝液となるように調整し、各1煽2に小分け°
後、使用時まで一40℃以下にて冷凍保存した。
リン酸緩衝液となるように調整し、各1煽2に小分け°
後、使用時まで一40℃以下にて冷凍保存した。
(2)試験化合物
本発明試験化合物としては後記実施例5に記載の化合物
(14)を用いた。
(14)を用いた。
なお、該化合物は50ミリモル(mM)’Jン酸ナナト
リウム緩衝液pH=7.1)にて117μMg度となる
よう同時i#!整した。
リウム緩衝液pH=7.1)にて117μMg度となる
よう同時i#!整した。
対照化合物としては、グシシルデヒドa7二二ルアラニ
ン(G 1−dh−P h)ならびにイミベネムを用い
、上記と同様のリン酸ナトリウム緩衝液にて117μM
濃度となるよう用時調整した。
ン(G 1−dh−P h)ならびにイミベネムを用い
、上記と同様のリン酸ナトリウム緩衝液にて117μM
濃度となるよう用時調整した。
2、工夫
(1) レイトアッセイによるDHP−I酵素の基質に
対する加水分解活性の測定 対照化合物であるGl−dh−Phならびにイミペネム
をそれぞれ117μM含有する50wMリン酸ナトリウ
ム緩衝液(基質)1.2mAに、上記で得たDHP−I
酵素25mg/ 10tal溶液の0゜2mlを加え(
基質の最終濃度:100μM)、37℃にて10分間イ
ンキュベーションを行ない、各基質に特有のλ■にを用
いて吸光度の減少から基質の加水分解の初期速度を求め
た。
対する加水分解活性の測定 対照化合物であるGl−dh−Phならびにイミペネム
をそれぞれ117μM含有する50wMリン酸ナトリウ
ム緩衝液(基質)1.2mAに、上記で得たDHP−I
酵素25mg/ 10tal溶液の0゜2mlを加え(
基質の最終濃度:100μM)、37℃にて10分間イ
ンキュベーションを行ない、各基質に特有のλ■にを用
いて吸光度の減少から基質の加水分解の初期速度を求め
た。
なお、ブランクとして上記基質1,2tJにpH7,1
リン酸ナトリツム緩衝8に0.2mJiを加えて上記と
同様の実験を行ない、ブランク試験とした。
リン酸ナトリツム緩衝8に0.2mJiを加えて上記と
同様の実験を行ない、ブランク試験とした。
(2)高速液体クロマトグラフィ(HPLC)法による
各試験化合物のD HP −Iに対する安定性の測定 本発明の試験化合物ならびに対照化合物であるイミペネ
ムについて上記(1)と同様の操作を行なうが、インキ
ュベーションは37℃にて485時間なら1に24時間
イテない、それぞれの時間の経過後の化合物の分解をH
PLC法により測定した。
各試験化合物のD HP −Iに対する安定性の測定 本発明の試験化合物ならびに対照化合物であるイミペネ
ムについて上記(1)と同様の操作を行なうが、インキ
ュベーションは37℃にて485時間なら1に24時間
イテない、それぞれの時間の経過後の化合物の分解をH
PLC法により測定した。
3 、 !fLiニ
レイト7ツセイにより、DHP−Iに対する各基質の加
水分解の初期速度を求めたところ、G 1−dh−PI
+= 17 、4μM/分イミベネム=0.56μM/
分 であった。
水分解の初期速度を求めたところ、G 1−dh−PI
+= 17 、4μM/分イミベネム=0.56μM/
分 であった。
DHP−4に対するイミベネムならびに本発明の試験化
合物の安定性の測定結果を第3表に示す。
合物の安定性の測定結果を第3表に示す。
11え
DHP−Iによる加水分解の程度
(方法:HPLC,基質濃度:100μM1単位二μM
) イミベネムはほとんどないしすべてが分解したものと考
えられ、残存量は検出できなかった。
) イミベネムはほとんどないしすべてが分解したものと考
えられ、残存量は検出できなかった。
以上のDHP−IG:対する安定性試験の結果から明ら
かな如く、本発明のカルバペネム化合物はイミペネムに
比較し、8〜16倍の安定性を示す。
かな如く、本発明のカルバペネム化合物はイミペネムに
比較し、8〜16倍の安定性を示す。
■、11民1
マウスはCrjCD(SD)系雄性、体重20〜23g
を一群10匹で使用し、後記実施例5に記載の本発明の
カルバペネム化合物(14)を含む溶液を皮下投与し、
1週間(こわたる観察を行なった。
を一群10匹で使用し、後記実施例5に記載の本発明の
カルバペネム化合物(14)を含む溶液を皮下投与し、
1週間(こわたる観察を行なった。
−その結果、本発明のカルバペネム化合物(14)は5
00 B/ kg投与fit’もすべて異常なく生存し
たことがI!察された。
00 B/ kg投与fit’もすべて異常なく生存し
たことがI!察された。
上記した如く、本発明のカルバペネム化合物は、従来の
セファロスポリン化合物に比較し広範囲の抗菌スペクト
ルを示すとともに、イミペネムに匹敵する優れた抗菌活
性を有し、そのうえイミベネムと比較しDHPに対する
耐性がはるかに優れている。更に、臨床分aS原菌に対
しても優れた抗菌効果を有しており、しかもマウスにお
ける感染防御試験においても種々の試験菌に対し良好な
効果を示すことが観察された。
セファロスポリン化合物に比較し広範囲の抗菌スペクト
ルを示すとともに、イミペネムに匹敵する優れた抗菌活
性を有し、そのうえイミベネムと比較しDHPに対する
耐性がはるかに優れている。更に、臨床分aS原菌に対
しても優れた抗菌効果を有しており、しかもマウスにお
ける感染防御試験においても種々の試験菌に対し良好な
効果を示すことが観察された。
したがって、本発明の式(1)で示されるカルバペネム
化合物は、従来のイミベネムがDHP阻害剤であるシラ
スフチンと組合せることによってはじめて実用的な抗菌
剤として臨床治療に用いられるようになったのとは対照
的に、単独での使用が可能となり、DHP阻害剤との併
用による副作用の心配なく、種々の病原菌による細菌感
染症の治療、予防等のための抗菌剤として極めて有用で
ある。
化合物は、従来のイミベネムがDHP阻害剤であるシラ
スフチンと組合せることによってはじめて実用的な抗菌
剤として臨床治療に用いられるようになったのとは対照
的に、単独での使用が可能となり、DHP阻害剤との併
用による副作用の心配なく、種々の病原菌による細菌感
染症の治療、予防等のための抗菌剤として極めて有用で
ある。
式(1)で示されるカルバペネム化合物は、それを抗菌
剤として使用するに際して、その抗菌的有効量を含有す
る薬剤学的組成物の形で人間をはじめとする哺乳動物に
投与することができる。その投与量は処置すべき患者の
年令、体重、症状、薬剤の投与形態、医師の診断等に応
じて広い範囲にわたり変えることができるが、一般に、
成人に対しては一日当り約200〜約3,000+ag
の範囲内の用量が標準的であり、通常これを1日1回ま
たは数回に分けで経口的、非経口的または局所的に投与
することができる。
剤として使用するに際して、その抗菌的有効量を含有す
る薬剤学的組成物の形で人間をはじめとする哺乳動物に
投与することができる。その投与量は処置すべき患者の
年令、体重、症状、薬剤の投与形態、医師の診断等に応
じて広い範囲にわたり変えることができるが、一般に、
成人に対しては一日当り約200〜約3,000+ag
の範囲内の用量が標準的であり、通常これを1日1回ま
たは数回に分けで経口的、非経口的または局所的に投与
することができる。
しかして、上記の薬剤学的組成物は、医薬、特に抗生物
質の製剤において慣用されている無機もしくは有機の固
体または液体の製剤用担体または希釈剤、例えば、でん
ぷん、乳糖、白糖、結晶セルロース、リン酸水素カルシ
ウム等の賦形剤;アカシア、ヒドロキシプロピルセルロ
ース、アルギン酸、ゼラチン、ポリビニルピロリドン等
の結合剤;ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、
ステアリン酸カルシウム、タルク、水添植物油等の滑沢
剤;加工でんぷん、カルシウムカルボキシメチルセルロ
ース、低置換ヒドロキシプロピルセルロース等の崩壊剤
;非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤等の溶
解補助剤等とともに、経口的、非経口的または局所的投
与に適した態形に製剤化することができる。経口投与に
適した態形には、錠剤、コーティング剤、カプセル剤、
トローチ剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、ドライシロップ剤
等の固体製剤、あるいはシロップ剤等の液体製剤が挙げ
られ、非経口投与に適した態形としては、例えば注射剤
、点滴剤、生態等が包含される。
質の製剤において慣用されている無機もしくは有機の固
体または液体の製剤用担体または希釈剤、例えば、でん
ぷん、乳糖、白糖、結晶セルロース、リン酸水素カルシ
ウム等の賦形剤;アカシア、ヒドロキシプロピルセルロ
ース、アルギン酸、ゼラチン、ポリビニルピロリドン等
の結合剤;ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、
ステアリン酸カルシウム、タルク、水添植物油等の滑沢
剤;加工でんぷん、カルシウムカルボキシメチルセルロ
ース、低置換ヒドロキシプロピルセルロース等の崩壊剤
;非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤等の溶
解補助剤等とともに、経口的、非経口的または局所的投
与に適した態形に製剤化することができる。経口投与に
適した態形には、錠剤、コーティング剤、カプセル剤、
トローチ剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、ドライシロップ剤
等の固体製剤、あるいはシロップ剤等の液体製剤が挙げ
られ、非経口投与に適した態形としては、例えば注射剤
、点滴剤、生態等が包含される。
また、局所投与に遡した態形には軟膏、チンキ、クリー
ム、ゲル等が挙げられる。これらの製剤は製剤学の分野
でそれ自体周知の方法で調製することができる。
ム、ゲル等が挙げられる。これらの製剤は製剤学の分野
でそれ自体周知の方法で調製することができる。
本発明のカルバペネム化合物は殊に注射剤の形態で非経
口的に投与するのが好適である。
口的に投与するのが好適である。
[実施例1
次に実施例により、本発明のカルバペネム化合物の製造
について更に詳細に説明する。
について更に詳細に説明する。
なお、各実施例中の記号は以下の意味を有する。
ph:フェニル基
PNB:パラニトロベンジル基
PNZ:パラニトロベンジルオキシカルボニル基−)−
8i:t−ブチルジメチルシリル基Acニアセチル基 Et:エチル基 (a)2−メチルピラクン1.8iej!を四塩化炭素
100mj!に溶解し、N−クロロコハク酸イミド2.
7gおよび過酸化ベンゾイル100mgを加え、70℃
にて18時間加熱還流する。反応液を水冷後、不溶物を
炉別し、溶媒を減圧留去すると、2−クロロメチルピラ
ジンを得る。次いでこれをそのままアセトン30mj!
に溶解し、千オ酢酸カリワム1.38を加え、60℃に
て0.5時間加熱する。反応終了後、アセトンを留去し
、残留物をジクロルメタンに溶解し、水、食塩水で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥する。溶媒を留去し
、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(クロロ
ホルム:酢酸エチル=8:1で溶出)にて精製し、黄色
油状物として2−アセチルチオメチルピラゾンを2.0
g(60%)得た。
8i:t−ブチルジメチルシリル基Acニアセチル基 Et:エチル基 (a)2−メチルピラクン1.8iej!を四塩化炭素
100mj!に溶解し、N−クロロコハク酸イミド2.
7gおよび過酸化ベンゾイル100mgを加え、70℃
にて18時間加熱還流する。反応液を水冷後、不溶物を
炉別し、溶媒を減圧留去すると、2−クロロメチルピラ
ジンを得る。次いでこれをそのままアセトン30mj!
に溶解し、千オ酢酸カリワム1.38を加え、60℃に
て0.5時間加熱する。反応終了後、アセトンを留去し
、残留物をジクロルメタンに溶解し、水、食塩水で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥する。溶媒を留去し
、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(クロロ
ホルム:酢酸エチル=8:1で溶出)にて精製し、黄色
油状物として2−アセチルチオメチルピラゾンを2.0
g(60%)得た。
N M R(CD CI3)δ:2,37(3H,5)
−4,27(2H,s) ([)) 次いで上記で得た2−7セチルチオメチル
ビラノン2.0gを窒素ガス気流下メタノール380m
1に溶解し、0℃に冷却する6次いでこの溶液にアンモ
ニアガス飽和メタノール溶液871を徐々に滴下し、同
温にて1時間攪拌する。
−4,27(2H,s) ([)) 次いで上記で得た2−7セチルチオメチル
ビラノン2.0gを窒素ガス気流下メタノール380m
1に溶解し、0℃に冷却する6次いでこの溶液にアンモ
ニアガス飽和メタノール溶液871を徐々に滴下し、同
温にて1時間攪拌する。
反応終了後メタ/−ルを留去し、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ(クロロホルム:酢酸エチル=1
:2で溶出)にて精製し、黄色油状物として2−メルカ
プトメチルピラジン(1)を1.0g(66,4%)得
た。
ラムクロマトグラフィ(クロロホルム:酢酸エチル=1
:2で溶出)にて精製し、黄色油状物として2−メルカ
プトメチルピラジン(1)を1.0g(66,4%)得
た。
NMR(CDCI、)δ:2. 15(I H,t)、
3. 88(2H,cl) 実施例 2 C^) スズトリ7レー) 3.712gを窒素ガス気流下、無
水テトラヒドロフラン10m1に溶解し、0℃に冷却し
たのち、N−エチルピペリノン1.3mlおよび化合*
(3)1.2gの無水テトラヒドロ7ラン7輸1溶液を
加え、同温度にで2時間攪拌した。次いで化合物(2)
1.42gの無水テトラヒドロ7ラン2ml溶液を加え
、1時間攪拌する0反応終了後、クロロホルム100m
1を加え、10%クエン酸水溶液で洗浄し、有機層をM
g S O4にて乾燥し溶媒を留去する。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサン−
酢酸エチル=2〜1:1)により精製し、黄色固体物と
して化合物(4)を1゜93g(97%)得た。
3. 88(2H,cl) 実施例 2 C^) スズトリ7レー) 3.712gを窒素ガス気流下、無
水テトラヒドロフラン10m1に溶解し、0℃に冷却し
たのち、N−エチルピペリノン1.3mlおよび化合*
(3)1.2gの無水テトラヒドロ7ラン7輸1溶液を
加え、同温度にで2時間攪拌した。次いで化合物(2)
1.42gの無水テトラヒドロ7ラン2ml溶液を加え
、1時間攪拌する0反応終了後、クロロホルム100m
1を加え、10%クエン酸水溶液で洗浄し、有機層をM
g S O4にて乾燥し溶媒を留去する。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサン−
酢酸エチル=2〜1:1)により精製し、黄色固体物と
して化合物(4)を1゜93g(97%)得た。
NMR(δ、CDCIz):0,07(6H,s)、0
.88(98Ss)、1.21 (3H,d)、1.2
6(3H。
.88(98Ss)、1.21 (3H,d)、1.2
6(3H。
d)、3.30(I H%dd)、3.28 (2H,
t)、3゜94(IH,dd)、4.55 (2HSt
)、6.24(IH%bs)。
t)、3゜94(IH,dd)、4.55 (2HSt
)、6.24(IH%bs)。
スズ)+77レー) 57.0gを窒素〃ス気流下、無
水テトラヒドロ7ラン1641に溶解し、0 ”Cに冷
却したのち、N−エチルピペリジン19.9mlオ上t
B?合’1lJC5)21.71 gの無水テトラヒド
ロ7ラン1231溶液を加え、同温度にて1.5時間攪
拌した0次いで化合物(2)1.42gの無水テトラヒ
ドロ7ラン1231溶液を加え、1時間源件する0反応
終了後、クロロホルムを加え、10%クエン酸水溶液、
食塩水にて洗浄し、有機層をMg5O,にて乾燥し溶媒
を留去する。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(
#出液:n−ヘキサンー酢酸エチル=2:1)により精
製し、融点85.5〜86.5℃の黄色固形物として化
合物(6)を33.57g(98%)得た。
水テトラヒドロ7ラン1641に溶解し、0 ”Cに冷
却したのち、N−エチルピペリジン19.9mlオ上t
B?合’1lJC5)21.71 gの無水テトラヒド
ロ7ラン1231溶液を加え、同温度にて1.5時間攪
拌した0次いで化合物(2)1.42gの無水テトラヒ
ドロ7ラン1231溶液を加え、1時間源件する0反応
終了後、クロロホルムを加え、10%クエン酸水溶液、
食塩水にて洗浄し、有機層をMg5O,にて乾燥し溶媒
を留去する。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(
#出液:n−ヘキサンー酢酸エチル=2:1)により精
製し、融点85.5〜86.5℃の黄色固形物として化
合物(6)を33.57g(98%)得た。
NMR(δ、CD CL):0 、07 (68%S)
、0.90(9H1s)、1.00(38%t)、1.
23(3H。
、0.90(9H1s)、1.00(38%t)、1.
23(3H。
d)、1.26(3H,d)、2.90 (I HSc
ld)、3゜50 (I H,cld)、6.10(I
H,bs)。
ld)、3゜50 (I H,cld)、6.10(I
H,bs)。
[a]B=+233.9’(C=0.77、CHCI、
)上記(B)で得た化合物(6)30.66gの無水ア
セトニトリル740m1溶液に、イミダゾール12゜1
3、を加え、窒素ガス気流、室温下に5.5時間攪拌し
た0次イテMg(02CCH2CO2P N B )2
53.39gを加え、60℃にて一夜攪拌した。反応液
を200m1までに減圧濃縮し、酢酸エチル11を加え
、有機層をlN−HCl水溶液、5%NuHCO,水溶
液ならびに食塩水にて順次洗浄し、MgSO4で乾燥し
た。溶媒を留去し、残留物をシリカゾル800gを用い
たカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色油状物と
して化合物(7)37.47gを得た。
)上記(B)で得た化合物(6)30.66gの無水ア
セトニトリル740m1溶液に、イミダゾール12゜1
3、を加え、窒素ガス気流、室温下に5.5時間攪拌し
た0次イテMg(02CCH2CO2P N B )2
53.39gを加え、60℃にて一夜攪拌した。反応液
を200m1までに減圧濃縮し、酢酸エチル11を加え
、有機層をlN−HCl水溶液、5%NuHCO,水溶
液ならびに食塩水にて順次洗浄し、MgSO4で乾燥し
た。溶媒を留去し、残留物をシリカゾル800gを用い
たカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色油状物と
して化合物(7)37.47gを得た。
NMR(#、CHCl*):0 、06 (6H,s)
、0.87(9)(%s)、1.16(3H,d)、1
.20(3H。
、0.87(9)(%s)、1.16(3H,d)、1
.20(3H。
d)、3.63(2H,s)、5.27(2H,s)、
5゜92 (I H,bs)、7.56.8.24(4
H芳香環プロトン)。
5゜92 (I H,bs)、7.56.8.24(4
H芳香環プロトン)。
本市は更に精製することなく、次の(D)に使用した。
上記(C)で得た化合物(7)37.47gのメタ/−
ル392m1溶液に、濃T−(CI 19.6mlを
加え、室温にて1.5時間攪拌した0次いで反応液を約
1001まで減圧濃縮し、酢酸エチル8001を加え、
水、食塩水にて洗浄し、M gS O4乾燥した。
ル392m1溶液に、濃T−(CI 19.6mlを
加え、室温にて1.5時間攪拌した0次いで反応液を約
1001まで減圧濃縮し、酢酸エチル8001を加え、
水、食塩水にて洗浄し、M gS O4乾燥した。
溶媒を減圧留去し、無色油状物として化合物(8)を得
た。
た。
NMR(δ、CHCl2):1.25(3H,d)、1
.30(3H,d)、 2.90(2H,論)、 3.
65(2H。
.30(3H,d)、 2.90(2H,論)、 3.
65(2H。
S)、3.83(I H,m)、4.15(I H,s
)、5゜27(2H,s)、6.03 (I HSbs
)、7.55.8.27(4H芳香環プロトン)。
)、5゜27(2H,s)、6.03 (I HSbs
)、7.55.8.27(4H芳香環プロトン)。
次いで上記化合物(8)をその**無水7セトニトリル
408m1に溶解し、ドデシルベンゼンスルホニル7ノ
ド 13、8mlを加え、室温にて20分間攪拌し、溶媒を
留去する.残留物をシリカゲル800gを用いたカラム
クロマトグラフィー(′l#出i:クロロホルムー7セ
トン=2:1)にて精製し、無色油状物として化合物(
9)2 1.5 7g(上記(B)、(C)および(D
)の全収率として69.4%)を得た。
408m1に溶解し、ドデシルベンゼンスルホニル7ノ
ド 13、8mlを加え、室温にて20分間攪拌し、溶媒を
留去する.残留物をシリカゲル800gを用いたカラム
クロマトグラフィー(′l#出i:クロロホルムー7セ
トン=2:1)にて精製し、無色油状物として化合物(
9)2 1.5 7g(上記(B)、(C)および(D
)の全収率として69.4%)を得た。
I R(CHCIs)am−’:2 1 5
0 、 1 7 5 0 、 1 720、1
650、 NMR(δ、CDCI,):1.2 3 (3 H,
d)、1.30(3H,d)、2.9 2(I H,
m)、3.50〜4。
0 、 1 7 5 0 、 1 720、1
650、 NMR(δ、CDCI,):1.2 3 (3 H,
d)、1.30(3H,d)、2.9 2(I H,
m)、3.50〜4。
30(38%m)、5.3 8(2H%s)、6.40
(IHSbs)、7.57、8.30(4H,芳香環プ
ロトン) [<I]B=−41,6°(C=3.1、C H 、C
I2)上記(D)で得た化合物(9)21.57gを
酢酸エチル134mlに溶解し、ロジtムオクタ/エー
ト0、065gを加え、80℃にて0.5時間攪拌した
,次いで溶媒を留去し、乾燥し、化合物(10)を固形
物として得た。
(IHSbs)、7.57、8.30(4H,芳香環プ
ロトン) [<I]B=−41,6°(C=3.1、C H 、C
I2)上記(D)で得た化合物(9)21.57gを
酢酸エチル134mlに溶解し、ロジtムオクタ/エー
ト0、065gを加え、80℃にて0.5時間攪拌した
,次いで溶媒を留去し、乾燥し、化合物(10)を固形
物として得た。
I R <C H C l,)am−’ : 2 9
5 0、2925、1860、1830 NMR(δ、CDCL):1,22(38% 8% J
=8゜0 Hz)、1.37(38% 8% J=6.
0Hz>、2゜40(IH,bs)、2.83(IH,
ql J=8.0H2)、3.28<I H,d、
d)、4.00−4.50 (2H,i)、4.75(
I H,s)、5.28及(15,39(2■(、AB
qS J=12 Hz)、7.58.8.24(4H,
芳香環プロトン)。
5 0、2925、1860、1830 NMR(δ、CDCL):1,22(38% 8% J
=8゜0 Hz)、1.37(38% 8% J=6.
0Hz>、2゜40(IH,bs)、2.83(IH,
ql J=8.0H2)、3.28<I H,d、
d)、4.00−4.50 (2H,i)、4.75(
I H,s)、5.28及(15,39(2■(、AB
qS J=12 Hz)、7.58.8.24(4H,
芳香環プロトン)。
上記(E)で得た化合物(10)186−gの無水7セ
トニトリル21溶液に、水冷下ジフェニルリン酸クロラ
イド0.11論lお上りジイソプロピルエチルアミン0
.09+alを加え、同温にて0.5時間攪拌する。次
いで反応液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムにより精
製し、化合物(11)を白色固体として252IIgを
得た。
トニトリル21溶液に、水冷下ジフェニルリン酸クロラ
イド0.11論lお上りジイソプロピルエチルアミン0
.09+alを加え、同温にて0.5時間攪拌する。次
いで反応液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムにより精
製し、化合物(11)を白色固体として252IIgを
得た。
NMR(δ、CHCIp):1,24(3HSd)、1
.34(3H,d)、3.3 0(I HSQ)、3
.5 2(I H,m)、4.10〜4.40(2H
,m)、5.20及び5.35(2H。
.34(3H,d)、3.3 0(I HSQ)、3
.5 2(I H,m)、4.10〜4.40(2H
,m)、5.20及び5.35(2H。
q)、7.29(10、+s)、7.58及び8.18
(4HSd)前記実施例2で得たリン酸エステル体(
11)2゜0gの無水アセトニトリル15−1溶液を一
30℃に冷却し、実施例1で得た2−メルカプトメチル
ピラジン(1)507諺gの無水アセトニトリル5m1
lf8Bを加える。次にジイソプロピルエチルアミン0
.7曽βを加え、−20℃にて1時間、更に室温で15
分攪拌した。溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマ
ト(クロロホルムニア七トン=1:1で溶出)にて精製
し、標記化合物(4)を1゜5g(96,7%)を得た
。
(4HSd)前記実施例2で得たリン酸エステル体(
11)2゜0gの無水アセトニトリル15−1溶液を一
30℃に冷却し、実施例1で得た2−メルカプトメチル
ピラジン(1)507諺gの無水アセトニトリル5m1
lf8Bを加える。次にジイソプロピルエチルアミン0
.7曽βを加え、−20℃にて1時間、更に室温で15
分攪拌した。溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマ
ト(クロロホルムニア七トン=1:1で溶出)にて精製
し、標記化合物(4)を1゜5g(96,7%)を得た
。
NMR(δ、CDC1,):1.28(3H,d、J=
7Hz)、1 、 36(3H,d、J = 6 Hz
)、3.29(IH,dd、J=3.0. 6.0Hz
)、3.65−4゜36(5H,m)、5.18. 5
.49(2H,ABq)−7、57−8、26(4H,
鋤)、8. 49−8. 65(3H,a+) たえ 前記実施例3で得た化合物(12)156mgをテトラ
ヒドロ7ラン2論!および水2−!の混液に溶解させ、
酸化白金52I1gを用い3気圧で1時間水素添加を行
なった。触媒を炉別し、炉液をエーテルにで洗浄後凍結
乾燥し、標記化合物(13)83mg(75,8%)を
得た。
7Hz)、1 、 36(3H,d、J = 6 Hz
)、3.29(IH,dd、J=3.0. 6.0Hz
)、3.65−4゜36(5H,m)、5.18. 5
.49(2H,ABq)−7、57−8、26(4H,
鋤)、8. 49−8. 65(3H,a+) たえ 前記実施例3で得た化合物(12)156mgをテトラ
ヒドロ7ラン2論!および水2−!の混液に溶解させ、
酸化白金52I1gを用い3気圧で1時間水素添加を行
なった。触媒を炉別し、炉液をエーテルにで洗浄後凍結
乾燥し、標記化合物(13)83mg(75,8%)を
得た。
本市の純度はHPLCにて90%以上であることが判明
し、このまま次の反応に用いた。
し、このまま次の反応に用いた。
ト A 14 の人
上記実施例4で得た化合物(13)83mgを0゜IN
リン酸緩衝液(pH7,O)20mlに溶解する。
リン酸緩衝液(pH7,O)20mlに溶解する。
次いで0℃に冷却後、ジメチル硫酸0.12+++gを
滴下し、反応液をpH=6.8〜7.2に保ちながら1
0時開攪拌を続ける1反応終了後、反応液をエーテルに
て洗浄濃縮したのち、水層をDowex50W X4
(Ndタイプ)のカラム(1,5X2゜6IIII4)
へ加え、水にて溶離し、化合物(6)を含む両分を真空
下に濃縮し、凍結乾燥を行ない、標記化合物(14)を
30. On+g(34,,4%)得た。
滴下し、反応液をpH=6.8〜7.2に保ちながら1
0時開攪拌を続ける1反応終了後、反応液をエーテルに
て洗浄濃縮したのち、水層をDowex50W X4
(Ndタイプ)のカラム(1,5X2゜6IIII4)
へ加え、水にて溶離し、化合物(6)を含む両分を真空
下に濃縮し、凍結乾燥を行ない、標記化合物(14)を
30. On+g(34,,4%)得た。
I R(KBr)cm−’:1750,1595,13
9 ON M R(CD s OD )δ:1.18(
3H,d、J=7゜0Hz)tl、25(3H,d、J
=6.0Hz)t3,19〜3.45(3H,m)、3
.98〜4.29(3H。
9 ON M R(CD s OD )δ:1.18(
3H,d、J=7゜0Hz)tl、25(3H,d、J
=6.0Hz)t3,19〜3.45(3H,m)、3
.98〜4.29(3H。
m)−4,45(3H,s)、8.78−9.22(3
H。
H。
1)。
次に、本発明のカルバペネム化合物を用いた製剤例を示
すと以下のとおりである・ 製剤例1(注射剤) (1)@濁注射剤 化合物(14)25.Og メチルセルロース 0.5gポリビ
ニルピロリドン 0.05gパラオキ
シ安息香酸メチル 0,1gポリソルベー)
80 0.1g塩酸リドカイン
0.5g蒸留水
適量/総容積!00m1上記成分を混合し、総容積
100a+Aの懸濁注射剤とする。
すと以下のとおりである・ 製剤例1(注射剤) (1)@濁注射剤 化合物(14)25.Og メチルセルロース 0.5gポリビ
ニルピロリドン 0.05gパラオキ
シ安息香酸メチル 0,1gポリソルベー)
80 0.1g塩酸リドカイン
0.5g蒸留水
適量/総容積!00m1上記成分を混合し、総容積
100a+Aの懸濁注射剤とする。
(2)凍結乾燥する場合
化合物(14)20gに蒸留水過量を加えて容積100
1とする。
1とする。
1バイアル中に上記水溶液2.5wJ(化合物(14)
500mgを含有する)を充てんし、凍結乾燥する。同
時、蒸留本釣3〜4mlを添加して注射剤とする。
500mgを含有する)を充てんし、凍結乾燥する。同
時、蒸留本釣3〜4mlを添加して注射剤とする。
(3)粉末光てんする場合
1バイアル中に化合物(14)250mgを粉末の*ま
充てんする。同時、蒸留本釣3〜4mlを添加して注射
剤とする。
充てんする。同時、蒸留本釣3〜4mlを添加して注射
剤とする。
製剤例2(錠剤)
化合物(14) 250mg乳
糖 250+*gヒドロ
キシプロピルセルロース 111gステアリン酸
マグネシウム 10IIL1錠:511mg 上記の成分を混合し、常法により打錠して錠剤とした後
、必要に応じて常法により糖衣もしくはフィルムコーテ
ィングして糖衣錠もしくはフィルムコーティング錠とす
る。
糖 250+*gヒドロ
キシプロピルセルロース 111gステアリン酸
マグネシウム 10IIL1錠:511mg 上記の成分を混合し、常法により打錠して錠剤とした後
、必要に応じて常法により糖衣もしくはフィルムコーテ
ィングして糖衣錠もしくはフィルムコーティング錠とす
る。
製剤例3(トローチ剤)
化合物(14) 200+mg
白糖 770Bヒド
ロキシプロピルセルロース 5mgステアリン
酸マグネジツム 20−g普料
−一一一譚L1 錠:1000−g 上記の成分を混合し、常法により打錠してトローチ剤と
する。
白糖 770Bヒド
ロキシプロピルセルロース 5mgステアリン
酸マグネジツム 20−g普料
−一一一譚L1 錠:1000−g 上記の成分を混合し、常法により打錠してトローチ剤と
する。
製剤例4(カプセル剤)
(1)化合物(14) 500Bス
テアリン酸マグネシウム−10mL 1カプセル:510mg 上記の成分を混合し、これを通常の硬ゼラチンカプセル
に充てんしてカプセル剤とする。
テアリン酸マグネシウム−10mL 1カプセル:510mg 上記の成分を混合し、これを通常の硬ゼラチンカプセル
に充てんしてカプセル剤とする。
製剤例5(ドライシロップ剤)
化合物(14) 220+*g
ヒドロキシプロピルセルロース 2B白N
793曽g香料
5mL計:1000mg 上記の成分を混合してドライシロップ剤とする。
ヒドロキシプロピルセルロース 2B白N
793曽g香料
5mL計:1000mg 上記の成分を混合してドライシロップ剤とする。
製剤例6(散剤)
(1)化合’II (14) 200
mg乳糖 800+計:
1000mg 上記の成分を混合して散剤とする。
mg乳糖 800+計:
1000mg 上記の成分を混合して散剤とする。
製剤例7(生態)
化合物(14) 500mg
1坐剤:2200B 上記の成分を混合し、これを常法により生態とする。
1坐剤:2200B 上記の成分を混合し、これを常法により生態とする。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は低級アルキル基を表わす、 で示される(1R,5S,6S)−2−[(ピラジニウ
ム−2−イル)メチル]チオ−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−1−メチル−カルバペネム−3−カル
ボキシレート。 2、次式( I −1): ▲数式、化学式、表等があります▼( I −1) で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 3、次式( I ): ( I ) 式中、R^1は低級アルキル基を表わす、 で示される(1R,5S,6S)−2−[(ピラジニウ
ム−2−イル)メチル]チオ−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−1−メチル−カルバペネム−3−カル
ボキシレートを有効成分として含有することを特徴とす
る抗菌剤。 4、有効成分が次式( I −1): ▲数式、化学式、表等があります▼( I −1) で示される化合物である特許請求の範囲第3項記載の抗
菌剤。 5、次式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^2はカルボキシ保護基を表わし、R^aはア
シル基を表わす、 で示される化合物に次式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で示されるメルカプト試薬を反応させ、次式(IV):▲
数式、化学式、表等があります▼(IV) 式中、R^2は前記定義のとおりである、 で示される化合物となし、そして得られる化合物に対し
て、保護基R^2の除去およびジアルキル硫酸もしくは
アルキルトリフレートによる第四級化をこの順序または
この逆の順序で行なうことを特徴とする次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は低級アルキル基を表わす、 で示される(1R,5S,6S)−2−[(ピラジニウ
ム−2−イル)メチル]チオ−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−1−メチル−カルバペネム−3−カル
ボキシレートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62089011A JPS63255281A (ja) | 1987-04-11 | 1987-04-11 | (1r,5s,6s)−2−〔(ピラジニウム−2−イル)メチル〕チオ−6−〔(r)−1−ヒドロキシエチル〕−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62089011A JPS63255281A (ja) | 1987-04-11 | 1987-04-11 | (1r,5s,6s)−2−〔(ピラジニウム−2−イル)メチル〕チオ−6−〔(r)−1−ヒドロキシエチル〕−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレ−ト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63255281A true JPS63255281A (ja) | 1988-10-21 |
Family
ID=13958956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62089011A Pending JPS63255281A (ja) | 1987-04-11 | 1987-04-11 | (1r,5s,6s)−2−〔(ピラジニウム−2−イル)メチル〕チオ−6−〔(r)−1−ヒドロキシエチル〕−1−メチル−カルバペネム−3−カルボキシレ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63255281A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0635488A2 (en) * | 1993-06-23 | 1995-01-25 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel process for preparing azetidinone compound and novel starting compound therefor |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5989683A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-05-23 | ブリストル―マイヤーズ スクイブ カンパニー | カルバペネム抗生物質 |
JPS6183183A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-04-26 | メルク エンド カムパニ− インコ−ポレ−テツド | 外的にアルキル化されたモノ−またはビ−サイクリツク2−第4級ヘテロアリ−ルアルキルチオ置換基を持つ1−メチルカルバペネム類 |
-
1987
- 1987-04-11 JP JP62089011A patent/JPS63255281A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5989683A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-05-23 | ブリストル―マイヤーズ スクイブ カンパニー | カルバペネム抗生物質 |
JPS6183183A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-04-26 | メルク エンド カムパニ− インコ−ポレ−テツド | 外的にアルキル化されたモノ−またはビ−サイクリツク2−第4級ヘテロアリ−ルアルキルチオ置換基を持つ1−メチルカルバペネム類 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0635488A2 (en) * | 1993-06-23 | 1995-01-25 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel process for preparing azetidinone compound and novel starting compound therefor |
EP0635488A3 (en) * | 1993-06-23 | 1995-08-23 | Tanabe Seiyaku Co | Process for the preparation of azetidine compounds and starting compounds therefor. |
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