JPS63252944A - 透明熱線反射板 - Google Patents
透明熱線反射板Info
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- JPS63252944A JPS63252944A JP8798087A JP8798087A JPS63252944A JP S63252944 A JPS63252944 A JP S63252944A JP 8798087 A JP8798087 A JP 8798087A JP 8798087 A JP8798087 A JP 8798087A JP S63252944 A JPS63252944 A JP S63252944A
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- Japan
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- transparent
- titanium nitride
- nitride layer
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- Pending
Links
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
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- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は建築物の窓ガラスや自動車の窓ガラスとして用
いられる透明熱線反射板に関する。
いられる透明熱線反射板に関する。
（従来の技術）
室内への熱線の侵入を阻止し、室温の上昇を防止するよ
うにした透明熱線反射板が知られている。この透明熱線
反射板はガラス板の表面に金属薄膜をスパッタリング等
によって形成したものである。
うにした透明熱線反射板が知られている。この透明熱線
反射板はガラス板の表面に金属薄膜をスパッタリング等
によって形成したものである。
また熱線反射機能のみでなく、装飾機能をも高めるべく
、ガラス板の表面に５ｎ０２等の透明誘電体層を形成し
、この透明誘電体層の上にチッ化クロム（ｃｒＮｘ）層
を形成し、前記透明誘電体層の厚みを変えることで非膜
面反射色を調整するようにした透明熱線反射板が特開昭
６０−３６３５５号として知られている。
、ガラス板の表面に５ｎ０２等の透明誘電体層を形成し
、この透明誘電体層の上にチッ化クロム（ｃｒＮｘ）層
を形成し、前記透明誘電体層の厚みを変えることで非膜
面反射色を調整するようにした透明熱線反射板が特開昭
６０−３６３５５号として知られている。
（発明が解決しようとする問題点）
上述した従来の透明熱線反射板にあっては、透明誘電体
層の厚みを変えることで、非膜面反射色が変化するので
あるが、鮮やかな反射色を得ることができない。
層の厚みを変えることで、非膜面反射色が変化するので
あるが、鮮やかな反射色を得ることができない。
（問題点を解決するための手段）
上記問題点を解決すべく本発明は、透明基板表面に形成
する透明誘電体層の光学的厚みを５〜３５０ｎｍとし、
チッ化チタン層の幾何学的厚みを３（１〜１１００ｎと
した。
する透明誘電体層の光学的厚みを５〜３５０ｎｍとし、
チッ化チタン層の幾何学的厚みを３（１〜１１００ｎと
した。
（作用）
透明誘電体層の厚さ及びチッ化チタン層の厚みを変化さ
せ、これらの厚みが適当な組合せとなったときに鮮やか
な反射色を呈する。
せ、これらの厚みが適当な組合せとなったときに鮮やか
な反射色を呈する。
（実施例）
以下に本発明の実施例を添付図面に基いて説明する。
第１図は本発明に係る透明熱線反射板を製造するスパッ
タリング装置の概略図であり、スパッタリング装置はア
ースされた真空槽１の一部にバリアプルバルブ２を設け
た排気口３を形成し、この排気口３を介して真空ポンプ
４と接続し、真空槽１内を減圧するようにしている。ま
た真空槽１の上部には、マグネトロンカソード５，６．
７を設け、直流電源８，８．８と接続している。またマ
グネトロンカソード５と６の間にはバルブ９を備えたガ
ス供給管１０を設は真空槽１内にガスを供給するように
している。さらに各カソード５゜６．７下方には往復可
能な搬送ベルト１１を配置している。
タリング装置の概略図であり、スパッタリング装置はア
ースされた真空槽１の一部にバリアプルバルブ２を設け
た排気口３を形成し、この排気口３を介して真空ポンプ
４と接続し、真空槽１内を減圧するようにしている。ま
た真空槽１の上部には、マグネトロンカソード５，６．
７を設け、直流電源８，８．８と接続している。またマ
グネトロンカソード５と６の間にはバルブ９を備えたガ
ス供給管１０を設は真空槽１内にガスを供給するように
している。さらに各カソード５゜６．７下方には往復可
能な搬送ベルト１１を配置している。
第２図は上記スパッタリング装置にて熱線反射膜が形成
された透明板の断面図であり、ガラス基板１６上に５ｎ
Ｏｚ、 ＴｌＯ２，ＡＪ！ ２０３．ＺｎＯ，Ｂ１２Ｏ
３，ｚ、ｏ、。
された透明板の断面図であり、ガラス基板１６上に５ｎ
Ｏｚ、 ＴｌＯ２，ＡＪ！ ２０３．ＺｎＯ，Ｂ１２Ｏ
３，ｚ、ｏ、。
等からなる透明誘電体層１７を５〜１１００ｎの光学的
厚さで形成し、この透明誘電体層１７の上にチッ化チタ
ン層１８を５０〜９０ｎｍの厚さで形成し、このチッ化
チタン層１８の上に前記と同様の透明誘電体層１９を０
〜５０ｎｍの厚さで形成している。
厚さで形成し、この透明誘電体層１７の上にチッ化チタ
ン層１８を５０〜９０ｎｍの厚さで形成し、このチッ化
チタン層１８の上に前記と同様の透明誘電体層１９を０
〜５０ｎｍの厚さで形成している。
第３図は別実流側を示す断面図であり、この実施例は第
２図に示した実施例と同様にガラス基板１６上に透明誘
電体層１７を形成しこの透明誘電体層１７上に、チッ化
チタン層１８を形成し、このチッ化チタン層１８上に前
記同様の透明誘電体層１９を形成しているが、透明誘電
体層１７の光学的厚さを１７０〜２６０ｎｍ 、チッ化
チタン層１８の厚みを４０〜９０ｎｍとしている。
２図に示した実施例と同様にガラス基板１６上に透明誘
電体層１７を形成しこの透明誘電体層１７上に、チッ化
チタン層１８を形成し、このチッ化チタン層１８上に前
記同様の透明誘電体層１９を形成しているが、透明誘電
体層１７の光学的厚さを１７０〜２６０ｎｍ 、チッ化
チタン層１８の厚みを４０〜９０ｎｍとしている。
以上の如ぎ膜形成を行うには、先ずカソード５の下面に
ＴＩをターゲット１２として取り付ける。
ＴＩをターゲット１２として取り付ける。
そして搬送ベルト１１上の基板ホルダー１５に洗浄した
ガラス基板１６を載置し、バリアプルバルブ２を開け、
真空槽１内を５ ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以上まで減圧す
る。次いでガス供給管１０より酸素を供給して、バリア
プルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力が２ Ｘ １０−
’Ｔｏｒｒになるようにする。次にカソード５に４５０
ｖの負電圧を印加し、ガラス基板１６をカソード下を移
動させることでガラス基板１６表面に厚さ１８０人の酸
化チタン層１７を第１層として形成する。
ガラス基板１６を載置し、バリアプルバルブ２を開け、
真空槽１内を５ ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以上まで減圧す
る。次いでガス供給管１０より酸素を供給して、バリア
プルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力が２ Ｘ １０−
’Ｔｏｒｒになるようにする。次にカソード５に４５０
ｖの負電圧を印加し、ガラス基板１６をカソード下を移
動させることでガラス基板１６表面に厚さ１８０人の酸
化チタン層１７を第１層として形成する。
そして、カソード５のパワーをきり、バリアプルバルブ
２を開き、再び５ Ｘ １Ｏ−６Ｔｏｒｒ以上の真空に
引いた後、ガス供給管１０から窒素を導入し、バリアプ
ルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力が’ｌ、 Ｘ １０
−’Ｔｏｒｒとなるようにする。
２を開き、再び５ Ｘ １Ｏ−６Ｔｏｒｒ以上の真空に
引いた後、ガス供給管１０から窒素を導入し、バリアプ
ルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力が’ｌ、 Ｘ １０
−’Ｔｏｒｒとなるようにする。
次にカソード５に５５０ｖの負電圧を印加し、ガラス基
板１６をカソード５下を８勤させることで、酸化物層１
７上に第２層として厚さ６５０人のチツ化チタン層１８
を形成する。再び５ Ｘ １０’″’Ｔｏｒｒ以上の真
空に引いた後、酸素を内圧２ Ｘ １０’″’Ｔｏｒｒ
になるまで導入し、前記同様にカソード５に４５０ｖの
負電圧を印加し、チッ化チタン層１８上に第３層として
厚さ６０人の酸化チタン層を形成する。
板１６をカソード５下を８勤させることで、酸化物層１
７上に第２層として厚さ６５０人のチツ化チタン層１８
を形成する。再び５ Ｘ １０’″’Ｔｏｒｒ以上の真
空に引いた後、酸素を内圧２ Ｘ １０’″’Ｔｏｒｒ
になるまで導入し、前記同様にカソード５に４５０ｖの
負電圧を印加し、チッ化チタン層１８上に第３層として
厚さ６０人の酸化チタン層を形成する。
ここで第２図に示した透明板の可視光透過率は２０零で
、２°視野Ｃ光はＬ” ＝４４．４０ 、 ａ” ＝−
０，５９、ｂ” ＝２２．３８であり、第３図に示した
透明板の可視光透過率は１２．情で、２°視野Ｃ光はＬ
” ＝ ５７．８０ 、ａ ” ＝ −０，９１、ｂ
” ＝４４．０５であった。
、２°視野Ｃ光はＬ” ＝４４．４０ 、 ａ” ＝−
０，５９、ｂ” ＝２２．３８であり、第３図に示した
透明板の可視光透過率は１２．情で、２°視野Ｃ光はＬ
” ＝ ５７．８０ 、ａ ” ＝ −０，９１、ｂ
” ＝４４．０５であった。
以上と同様の方法により、ガラス基板１６表面に透明誘
電体層１フ及びチッ化チタン層１８を厚みを変えて形成
した。その結果、可視光透過率はチッ化チタン層１８の
厚みによって支配され、反射色は透明誘電体層１７の厚
みによって支配されることが分った。即ち、透明誘電体
層１７の光学的厚みが５〜１１００ｎのときは金色、９
０〜１４０ｎｍのときは青色、１４０〜２３０ｎｍのと
きは緑乃至黄緑色、１７０〜２６Ｑｎｍのときは金色、
２００〜２８０ｒ＋ｍのときは橙乃至赤色、２５０〜３
５０ｎｍのときは赤紫乃至紫色を呈する。
電体層１フ及びチッ化チタン層１８を厚みを変えて形成
した。その結果、可視光透過率はチッ化チタン層１８の
厚みによって支配され、反射色は透明誘電体層１７の厚
みによって支配されることが分った。即ち、透明誘電体
層１７の光学的厚みが５〜１１００ｎのときは金色、９
０〜１４０ｎｍのときは青色、１４０〜２３０ｎｍのと
きは緑乃至黄緑色、１７０〜２６Ｑｎｍのときは金色、
２００〜２８０ｒ＋ｍのときは橙乃至赤色、２５０〜３
５０ｎｍのときは赤紫乃至紫色を呈する。
（発明の効果）
［表］は第１層（透明誘電体層）、第２層は（チッ化チ
タン層）及び第３層（透明お電体層）の厚みと反射色等
との関係を示したものである。
タン層）及び第３層（透明お電体層）の厚みと反射色等
との関係を示したものである。
この［表］からも明らかなように本発明に係る透明熱線
反射板は鮮やかな反射色を呈する。
反射板は鮮やかな反射色を呈する。
第１図はスパッタリング装置の概略図、第２図及び第３
図は本発明に係る反射板の断面図である。 尚、図面中１６はガラス板、１７．１９は透明誘電体層
、１８はチッ化チタン層である。
図は本発明に係る反射板の断面図である。 尚、図面中１６はガラス板、１７．１９は透明誘電体層
、１８はチッ化チタン層である。
Claims (1)
- 透明基板表面に５〜３５０ｎｍの範囲の光学的厚さで、
透明誘電体層を形成し、この透明誘電体層の表面に３０
〜１００ｎｍの範囲の幾何学的厚さでチッ化チタン層を
形成したことを特徴とする透明熱線反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8798087A JPS63252944A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 透明熱線反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8798087A JPS63252944A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 透明熱線反射板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63252944A true JPS63252944A (ja) | 1988-10-20 |
Family
ID=13929971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8798087A Pending JPS63252944A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 透明熱線反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63252944A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0464446A2 (de) * | 1990-06-28 | 1992-01-08 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Elektrische Lampe mit lichtreflektierender Schicht |
| DE102013112990A1 (de) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | Von Ardenne Gmbh | Solar-Control-Schichtsystem mit intensivem Farbeindruck, Verfahren zu dessen Herstellung und Glaseinheit |
| US20160060747A1 (en) * | 2013-05-15 | 2016-03-03 | Nikon Corporation | Method of manufacturing compound film |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60187671A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-25 | Asahi Glass Co Ltd | 反応スパツタリング法による積層被膜の形成方法 |
| JPS63190742A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | 熱線反射ガラスの製法 |
-
1987
- 1987-04-10 JP JP8798087A patent/JPS63252944A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60187671A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-25 | Asahi Glass Co Ltd | 反応スパツタリング法による積層被膜の形成方法 |
| JPS63190742A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | 熱線反射ガラスの製法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US20160060747A1 (en) * | 2013-05-15 | 2016-03-03 | Nikon Corporation | Method of manufacturing compound film |
| US9719164B2 (en) * | 2013-05-15 | 2017-08-01 | Nikon Corporation | Method of manufacturing compound film |
| DE102013112990A1 (de) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | Von Ardenne Gmbh | Solar-Control-Schichtsystem mit intensivem Farbeindruck, Verfahren zu dessen Herstellung und Glaseinheit |
| DE102013112990B4 (de) * | 2013-11-25 | 2019-10-31 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Solar-Control-Schichtsystem mit intensivem Farbeindruck, Verfahren zu dessen Herstellung und Glaseinheit |
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