JPH0430039Y2 - - Google Patents
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- JPH0430039Y2 JPH0430039Y2 JP15146987U JP15146987U JPH0430039Y2 JP H0430039 Y2 JPH0430039 Y2 JP H0430039Y2 JP 15146987 U JP15146987 U JP 15146987U JP 15146987 U JP15146987 U JP 15146987U JP H0430039 Y2 JPH0430039 Y2 JP H0430039Y2
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本考案は建築物の窓ガラスや自動車の窓ガラス
として用いられる透明熱線反射板に関する。 （従来の技術） 室内への熱線の侵入を阻止し、室温の上昇を防
止するようにした透明熱線反射板が知られてい
る。この透明熱線反射板はガラス板の表面に金属
薄膜をスパツタリング等によつて形成したもので
ある。 また熱線反射機能のみでなく、装飾機能をも高
めるべく、ガラス板の表面にSnO2等の透明誘電
体層を形成し、この透明誘電体層の上にチツ化ク
ロム（CrNx）層を形成し、前記透明誘電体層の
厚みを変えることで非膜面反射色を調整するよう
にした透明熱線反射板が特開昭60−36355号とし
て知られている。 （考案が解決しようとする問題点） 上述した透明熱線反射板の非膜面反射色が金色
を呈するようにするには、透明誘電体層の厚みを
40nm程度とし、更にこの上にチツ化クロム層を
形成するようにしている。しかしながらこのチツ
化クロム層は窒素とアルゴンの混合ガスをスパツ
タリング等によつて形成するので長時間を要する
不利があるし、成膜の安定性が悪く、同質膜が得
られない。 また、従来の透明熱線反射板の反射色は鮮やか
さに欠け、特に金色を呈する熱線反射板では建築
物等の窓ガラスとしては最適とは言えない。 （問題点を解決するための手段） 上記の問題点を解決するべく本考案は、透明基
板表面に形成する透明誘電体層の光学的厚みを１
〜500nmとし、クロム層の幾何学的厚みを５〜
30nmとし、さらにクロム層表面に形成する透明
誘電体層の光学的厚みを５〜300nmとした。 （作用） 透明誘電体層の厚さ及びクロム層の厚みを変化
させ、これらの厚みが適当な組合せとなつたとき
に穏やかな反射色を呈すると共に、鮮やかな金色
等の金属色の反射が得られる。 また、クロム層はアルゴン単一ガス雰囲気中で
成膜されるため成膜速度が大きく、成膜の安定性
に優れ、均質な膜質のものが得られる。 （実施例） 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説
明する。 第１図は本考案に係る透明熱線反射板を製造す
るスパツタリング装置の概略図であり、スパツタ
リング装置はアースされた真空槽１の一部にバリ
アブルバルブ２を設けた排気口３を形成し、この
排気口３を介して真空ポンプ４と接続し、真空槽
１を減圧するようにしている。また真空槽１の上
部には、マグネトロンカソード５，６，７を設
け、直流電流８，８，８と接続している。またマ
グネトロンカソード５と６の間にはバルブ９を備
えたガス供給管１０を設け真空槽１内にガスを供
給するようにしている。さらに各カソード５，
６，７下方には往復可能な搬送ベルト１１を配置
している。 第２図は上記スパツタリング装置にて熱線反射
膜が形成された透明板の断面図であり、ガラス基
板１６上にSnO2，TiO2，Al2O3，ZnO，Bi2O3，
ZrO2，Ta2O5，AlN，ZnS等からなる第１層とし
ての透明誘電体層１７を光学的厚さで１〜500nm
の厚さで形成する。ここで光学的厚さとはその物
質の屈折率に幾何学的厚さ（物理的厚さ）を乗じ
た値をいう。この透明誘電体層１７の上に第２層
としてのクロム層１８を幾何学的厚みで５〜
30nm形成し、このクロム層１８の上に前記と同
様の第３層としての透明誘電体層１９を幾何学的
厚みで５〜30nm形成している。以下、本考案の
透明熱線反射板の膜形成の実施例１〜５をあげる
が、実施例１〜５の透明板の断面図はほぼ同一な
ので、共通の図面として第２図を用いて説明す
る。 ［実施例 １］ 先ずカソード５の下面にSnをターゲツト１２
として取り付け、またカソード６の下面にCrを
ターゲツト１３として取り付ける。そして搬送ベ
ルト１１上の基板ホルダー１５に洗浄したガラス
基板１６を載置し、バリアブルバルブ２を開け、
真空槽１内を５×10-6Tprr以上まで減圧する。次
いでガス供給管１０より酸素を供給して、バリア
ブルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力が２×10-3
Tprrになるようにする。次にカソード５に400V
の負電圧を印加し、ガラス基板１６をカソード５
下を移動させることでガラス基板１６表面に光学
的厚みで38nmの酸化スズ層１７を第１層として
形成する。 そして、カソード５のパワーをきり、バリアブ
ルバルブ２を開き、再び５×10-6Tprr以上の真空
に引いた後、ガス供給管１０からアルゴンを導入
し、バリアブルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力
が２×10-3Tprrとなるようにする。 次にカソード６に500Vの負電圧を印加し、ガ
ラス基板１６をカソード６下を移動させること
で、酸化スズ層１７上に第２層として幾何学的厚
み21nmのクロム被膜１８を形成する。カソード
６のパワーを切り再び５×10-6Tprr以下の真空に
引いた後、酸素を内圧２×10-3Tprrになるまで導
入し、前記同様にカソード５に400Vの負電圧を
印加し、クロム被膜１８上に第３層として光学的
厚み19nmの酸化スズ層を形成する。 この実施例１で得られた透明板の可視光透過率
は7.8％で2°視野Ｃ光（JIS Z8701）はL※＝
66.34，a※＝−2.96，b※＝9.77である。 ［実施例 ２］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み38nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み8nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み19nm この実施例２で得られた透明板の可視光透過率
は28.5％で2°視野Ｃ光はL※＝44.96，a※＝−
1.40，b※＝12.45であつた。 ［実施例 ３］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み146nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み30nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み80nm この実施例３で得られた透明板の可視光透過率
は11.8％で2°視野Ｃ光はL※＝66.64，a※＝0.19，
b※＝29.22であつた。 ［実施例 ４］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み146nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み15nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み80nm この実施例３で得られた透明板の可視光透過率
は39.5％で2°視野Ｃ光はL※＝60.92，a※＝−
2.33，b※＝37.92であつた。 ［実施例 ５］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。また第２層のクロム層
を形成する際に、カソード６に500Vに代えて
550Vの負電圧を印加する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み146nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み19nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み80nm この実施例３で得られた透明板の可視光透過率
は18.1％で2°視野Ｃ光はL※＝69.23，a※＝−
2.58，b※＝29.96であつた。 以上と同様の方法により、ガラス基板１６表面
に透明誘電体層１７及びクロム層１８を厚みを変
えて形成した。その結果、可視光透過率はクロム
層１８の厚みによつてほぼ支配され、反射色は透
明誘電体層１７の厚みによつて支配されることが
分つた。即ち、透明誘電体層１７の光学的厚みが
１〜50nmのときは灰〜銀色、50〜90nmのときは
ブロンズ色、130〜230nmのときは青色、190〜
330nmのときは緑乃至黄緑色、310〜350nmのと
きは金色、350〜390nmのときは橙乃至赤色、360
〜460nmのときは赤紫乃至紫色を呈する。 尚、上記の実施例にあつては膜形成方法として
スパツタリング法を示したが、この他に真空蒸着
法、デイツピング法その他熱分解法で成膜した
後、真空蒸着法ガススパツタリング法で成膜する
方法等任意であり、また透明誘電体層としては
ZnO，Bi2O3，AlxNy，Aln，ZnS等が考えられる
が、耐久性等からSnO2，TiO2，Al2O3が好まし
い。 （考案の効果） ［表１］は第１層（透明誘電体層）、第２層
（クロム層）及び第３層（透明誘電体層）の厚み
と反射色等との関係を示したものである。
として用いられる透明熱線反射板に関する。 （従来の技術） 室内への熱線の侵入を阻止し、室温の上昇を防
止するようにした透明熱線反射板が知られてい
る。この透明熱線反射板はガラス板の表面に金属
薄膜をスパツタリング等によつて形成したもので
ある。 また熱線反射機能のみでなく、装飾機能をも高
めるべく、ガラス板の表面にSnO2等の透明誘電
体層を形成し、この透明誘電体層の上にチツ化ク
ロム（CrNx）層を形成し、前記透明誘電体層の
厚みを変えることで非膜面反射色を調整するよう
にした透明熱線反射板が特開昭60−36355号とし
て知られている。 （考案が解決しようとする問題点） 上述した透明熱線反射板の非膜面反射色が金色
を呈するようにするには、透明誘電体層の厚みを
40nm程度とし、更にこの上にチツ化クロム層を
形成するようにしている。しかしながらこのチツ
化クロム層は窒素とアルゴンの混合ガスをスパツ
タリング等によつて形成するので長時間を要する
不利があるし、成膜の安定性が悪く、同質膜が得
られない。 また、従来の透明熱線反射板の反射色は鮮やか
さに欠け、特に金色を呈する熱線反射板では建築
物等の窓ガラスとしては最適とは言えない。 （問題点を解決するための手段） 上記の問題点を解決するべく本考案は、透明基
板表面に形成する透明誘電体層の光学的厚みを１
〜500nmとし、クロム層の幾何学的厚みを５〜
30nmとし、さらにクロム層表面に形成する透明
誘電体層の光学的厚みを５〜300nmとした。 （作用） 透明誘電体層の厚さ及びクロム層の厚みを変化
させ、これらの厚みが適当な組合せとなつたとき
に穏やかな反射色を呈すると共に、鮮やかな金色
等の金属色の反射が得られる。 また、クロム層はアルゴン単一ガス雰囲気中で
成膜されるため成膜速度が大きく、成膜の安定性
に優れ、均質な膜質のものが得られる。 （実施例） 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説
明する。 第１図は本考案に係る透明熱線反射板を製造す
るスパツタリング装置の概略図であり、スパツタ
リング装置はアースされた真空槽１の一部にバリ
アブルバルブ２を設けた排気口３を形成し、この
排気口３を介して真空ポンプ４と接続し、真空槽
１を減圧するようにしている。また真空槽１の上
部には、マグネトロンカソード５，６，７を設
け、直流電流８，８，８と接続している。またマ
グネトロンカソード５と６の間にはバルブ９を備
えたガス供給管１０を設け真空槽１内にガスを供
給するようにしている。さらに各カソード５，
６，７下方には往復可能な搬送ベルト１１を配置
している。 第２図は上記スパツタリング装置にて熱線反射
膜が形成された透明板の断面図であり、ガラス基
板１６上にSnO2，TiO2，Al2O3，ZnO，Bi2O3，
ZrO2，Ta2O5，AlN，ZnS等からなる第１層とし
ての透明誘電体層１７を光学的厚さで１〜500nm
の厚さで形成する。ここで光学的厚さとはその物
質の屈折率に幾何学的厚さ（物理的厚さ）を乗じ
た値をいう。この透明誘電体層１７の上に第２層
としてのクロム層１８を幾何学的厚みで５〜
30nm形成し、このクロム層１８の上に前記と同
様の第３層としての透明誘電体層１９を幾何学的
厚みで５〜30nm形成している。以下、本考案の
透明熱線反射板の膜形成の実施例１〜５をあげる
が、実施例１〜５の透明板の断面図はほぼ同一な
ので、共通の図面として第２図を用いて説明す
る。 ［実施例 １］ 先ずカソード５の下面にSnをターゲツト１２
として取り付け、またカソード６の下面にCrを
ターゲツト１３として取り付ける。そして搬送ベ
ルト１１上の基板ホルダー１５に洗浄したガラス
基板１６を載置し、バリアブルバルブ２を開け、
真空槽１内を５×10-6Tprr以上まで減圧する。次
いでガス供給管１０より酸素を供給して、バリア
ブルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力が２×10-3
Tprrになるようにする。次にカソード５に400V
の負電圧を印加し、ガラス基板１６をカソード５
下を移動させることでガラス基板１６表面に光学
的厚みで38nmの酸化スズ層１７を第１層として
形成する。 そして、カソード５のパワーをきり、バリアブ
ルバルブ２を開き、再び５×10-6Tprr以上の真空
に引いた後、ガス供給管１０からアルゴンを導入
し、バリアブルバルブ２を閉じ、真空槽１内圧力
が２×10-3Tprrとなるようにする。 次にカソード６に500Vの負電圧を印加し、ガ
ラス基板１６をカソード６下を移動させること
で、酸化スズ層１７上に第２層として幾何学的厚
み21nmのクロム被膜１８を形成する。カソード
６のパワーを切り再び５×10-6Tprr以下の真空に
引いた後、酸素を内圧２×10-3Tprrになるまで導
入し、前記同様にカソード５に400Vの負電圧を
印加し、クロム被膜１８上に第３層として光学的
厚み19nmの酸化スズ層を形成する。 この実施例１で得られた透明板の可視光透過率
は7.8％で2°視野Ｃ光（JIS Z8701）はL※＝
66.34，a※＝−2.96，b※＝9.77である。 ［実施例 ２］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み38nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み8nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み19nm この実施例２で得られた透明板の可視光透過率
は28.5％で2°視野Ｃ光はL※＝44.96，a※＝−
1.40，b※＝12.45であつた。 ［実施例 ３］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み146nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み30nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み80nm この実施例３で得られた透明板の可視光透過率
は11.8％で2°視野Ｃ光はL※＝66.64，a※＝0.19，
b※＝29.22であつた。 ［実施例 ４］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み146nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み15nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み80nm この実施例３で得られた透明板の可視光透過率
は39.5％で2°視野Ｃ光はL※＝60.92，a※＝−
2.33，b※＝37.92であつた。 ［実施例 ５］ 実施例１と同様の方法で下記の膜厚からなる第
１層、第２層及び第３層を有する透明熱線反射板
を形成する。尚、膜厚はガラス基板１６の移動速
度を変化させて調整する。また第２層のクロム層
を形成する際に、カソード６に500Vに代えて
550Vの負電圧を印加する。 第１層（酸化スズ層１７）：光学的厚み146nm 第２層（クロム層１８）：幾何学的厚み19nm 第３層（酸化スズ層１９）：光学的厚み80nm この実施例３で得られた透明板の可視光透過率
は18.1％で2°視野Ｃ光はL※＝69.23，a※＝−
2.58，b※＝29.96であつた。 以上と同様の方法により、ガラス基板１６表面
に透明誘電体層１７及びクロム層１８を厚みを変
えて形成した。その結果、可視光透過率はクロム
層１８の厚みによつてほぼ支配され、反射色は透
明誘電体層１７の厚みによつて支配されることが
分つた。即ち、透明誘電体層１７の光学的厚みが
１〜50nmのときは灰〜銀色、50〜90nmのときは
ブロンズ色、130〜230nmのときは青色、190〜
330nmのときは緑乃至黄緑色、310〜350nmのと
きは金色、350〜390nmのときは橙乃至赤色、360
〜460nmのときは赤紫乃至紫色を呈する。 尚、上記の実施例にあつては膜形成方法として
スパツタリング法を示したが、この他に真空蒸着
法、デイツピング法その他熱分解法で成膜した
後、真空蒸着法ガススパツタリング法で成膜する
方法等任意であり、また透明誘電体層としては
ZnO，Bi2O3，AlxNy，Aln，ZnS等が考えられる
が、耐久性等からSnO2，TiO2，Al2O3が好まし
い。 （考案の効果） ［表１］は第１層（透明誘電体層）、第２層
（クロム層）及び第３層（透明誘電体層）の厚み
と反射色等との関係を示したものである。
【表】
この［表１］からも明らかなように本考案に係
る透明熱反射板は穏やかな反射色を呈すると共
に、鮮やかな金色等の金属色反射を呈し、ビル等
の一般建築用として好ましい色となる。 また、［表２］は第３層の透明誘電体層の厚み
と反射色との関係を示したものである。
る透明熱反射板は穏やかな反射色を呈すると共
に、鮮やかな金色等の金属色反射を呈し、ビル等
の一般建築用として好ましい色となる。 また、［表２］は第３層の透明誘電体層の厚み
と反射色との関係を示したものである。
【表】
この［表２］からも明らかなように本考案に係
る透明熱線反射板の反射色は第３層の透明誘電体
層の厚みによつても変化する。 また、本考案の反射色においては、特に第２層
（クロム層）の成膜速度が大きく、成膜の安定性
が優れ均質なクロム層が得られる。
る透明熱線反射板の反射色は第３層の透明誘電体
層の厚みによつても変化する。 また、本考案の反射色においては、特に第２層
（クロム層）の成膜速度が大きく、成膜の安定性
が優れ均質なクロム層が得られる。
第１図はスパツタリング装置の概略図、第２図
は本考案に係る反射板の断面図である。 尚図面中、１６はガラス板、１７，１９は透明
誘電体層、１８はクロム層である。
は本考案に係る反射板の断面図である。 尚図面中、１６はガラス板、１７，１９は透明
誘電体層、１８はクロム層である。
Claims (1)
- 透明基板表面に１〜500nmの範囲の光学的厚さ
で透明誘電体層を形成し、この透明誘電体層の表
面に５〜30nmの範囲の幾何学的厚さでクロム層
を形成し、さらにこのクロム層の表面に５〜
300nmの範囲の光学的厚さで透明誘電体層を形成
したことを特徴とする透明熱線反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15146987U JPH0430039Y2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15146987U JPH0430039Y2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6455021U JPS6455021U (ja) | 1989-04-05 |
| JPH0430039Y2 true JPH0430039Y2 (ja) | 1992-07-21 |
Family
ID=31425541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15146987U Expired JPH0430039Y2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0430039Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-10-02 JP JP15146987U patent/JPH0430039Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6455021U (ja) | 1989-04-05 |
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